0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

应用材料增价59%收购国际电气 为获得薄膜沉积技术

21克888 来源:互联网 作者:综合报道 2021-01-06 10:04 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

美国半导体设备制造商应用材料本周一表示,计划以35亿美元价格(较先前报价增加59%),从私募股权公司KKR手中收购规模较小的日本同行国际电气(Kokusai Electric),理由是其前景良好且估值较高。收购国际电气将使应用材料获得其薄膜沉积技术。


据日经新闻报道,应用材料在在向美国证券交易委员会提交的文件中表示,将向私募股权业者KKR支付35亿美元收购国际电气,高于先前已同意的22亿美元出价。双方已同意将收购截止日期延后三个月至3月19日,因为还需解决中国的监管批准。应用材料表示,截止本申请之日,除了中国大陆之外其他地区监管部门的批准均已获得。

实际上,应用材料早在2019年7月就提议收购国际电气,但由于中国监管当局迟迟不批准,无法完成交易,这也是双方要签订本桩收购案之前的最后一道监管障碍。应用材料首席财务官Dan Durn在2020年2月的财报电话会议上表示,“我们预计将在今年年中完成Kokusai交易。”但是此后,中美技术紧张局势进一步恶化,美国对一些中国最大的公司实施了制裁,其中包括华为、中芯国际等,中国半导体行业也受到了一定程度打击。

目前应用材料在半导体设备市场已经占据了主导地位,若与国际电气合并,将进一步巩固其垄断地位。

根据上述文件,应用材料表示“相信这桩收购案将为应材股东带来十足的价值”,“在过去18个月,应用材料已观察到整个半导体设备市场长期展望愈来愈有利,包括在存储领域有正面趋势。”日经新闻曾报导,国际电气拥有用于薄膜沉积设备的技术,这也是应用材料希望能购并国际电气的原因。

本文由电子发烧友综合报道,内容参考自日经新闻、应用材料,转载请注明以上来源。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    339

    文章

    31236

    浏览量

    266503
  • 应用材料公司

    关注

    0

    文章

    66

    浏览量

    17186
  • 国际电气
    +关注

    关注

    0

    文章

    1

    浏览量

    2412
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    屹唐起诉应用材料!前员工跳槽引发“泄密门”

    电子发烧友网报道(文/莫婷婷)近日,屹唐股份指控应用材料侵权,一场由前员工跳槽引发的商业秘密之争成为业界关注的焦点。加之此前台积电2纳米核心技术泄密等事件、华为起诉尊湃等侵权案件频现,再次凸显了高端
    的头像 发表于 08-15 09:02 1w次阅读
    屹唐起诉应<b class='flag-5'>用材料</b>!前员工跳槽引发“泄密门”

    同惠静电计TH2690薄膜材料电学性能测试!

    ,信号不稳定; 微米级厚度易引发边缘短路; 不同规格样品需频繁更换夹具,效率低下等。  二、解决方案:薄膜产品测试  (一)测试对象 有一家专注于电子专用材料研发的高新技术企业,近期需要对其新型
    的头像 发表于 04-20 16:34 75次阅读
    同惠静电计TH2690<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>材料</b>电学性能测试!

    磁控溅射工艺时间对金属及氧化物靶材溅射速率的影响:基于台阶仪的薄膜厚度表征

    磁控溅射是物理气相沉积(PVD)领域的主流技术之一,具有沉积温度低、速率快、多靶共沉积灵活等优势,被广泛应用于金属、半导体及绝缘体薄膜的制备
    的头像 发表于 04-15 18:04 109次阅读
    磁控溅射工艺时间对金属及氧化物靶材溅射速率的影响:基于台阶仪的<b class='flag-5'>薄膜</b>厚度表征

    从“不可能三角”到原子级沉积:安德科铭李建恒解读先进制程下薄膜材料的突围之路

    3月25日,备受业界瞩目的半导体行业盛会SEMICON China 2026在上海新国际博览中心盛大开幕。在展会首日举行的先进材料国际论坛上,安德科铭CTO李建恒博士发表了主题为《先进制程对
    的头像 发表于 03-27 11:12 195次阅读
    从“不可能三角”到原子级<b class='flag-5'>沉积</b>:安德科铭李建恒解读先进制程下<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>材料</b>的突围之路

    台阶仪vs.白光干涉:薄膜厚度测量技术选型指南

    在半导体制造、光伏电池、MEMS器件以及先进薄膜材料研发过程中,薄膜厚度与表面形貌的精确测量是质量控制和工艺优化的关键环节。当前工业与科研领域广泛使用的两种表面轮廓测量技术,分别是接触
    的头像 发表于 03-06 18:05 206次阅读
    台阶仪vs.白光干涉:<b class='flag-5'>薄膜</b>厚度测量<b class='flag-5'>技术</b>选型指南

    集成电路制造中薄膜生长设备的类型和作用

    薄膜生长设备作为集成电路制造中实现材料沉积的核心载体,其技术演进与工艺需求紧密关联,各类型设备通过结构优化与机理创新持续突破性能边界,满足先进节点对
    的头像 发表于 03-03 15:30 344次阅读
    集成电路制造中<b class='flag-5'>薄膜</b>生长设备的类型和作用

    集成电路制造中薄膜生长工艺的发展历程和分类

    薄膜生长是集成电路制造的核心技术,涵盖PVD、CVD、ALD及外延等路径。随技术节点演进,工艺持续提升薄膜均匀性、纯度与覆盖能力,支撑铜互连、高k栅介质及应变器件发展。未来将聚焦低温
    的头像 发表于 02-27 10:15 777次阅读
    集成电路制造中<b class='flag-5'>薄膜</b>生长工艺的发展历程和分类

    用材料AMAT/APPLIED MATERIALS Producer® XP Precision® CVD系列二手薄膜沉积CVD设备拆机/整机|现场验机评测

    一、引言 化学气相沉积(CVD)设备作为先进半导体制造的核心装备,其交替层沉积精度与膜层均匀性直接决定高端器件的性能与良率。应用材料(AMAT/APPLIED MATERIALS)Producer
    的头像 发表于 02-12 10:38 925次阅读

    基于光学成像的沉积薄膜均匀性评价方法及其工艺控制应用

    静电喷涂沉积(ESD)作为一种经济高效的薄膜制备技术,因其可精确调控薄膜形貌与化学计量比而受到广泛关注。然而,薄膜的厚度均匀性是影响其最终性
    的头像 发表于 12-01 18:02 826次阅读
    基于光学成像的<b class='flag-5'>沉积</b><b class='flag-5'>薄膜</b>均匀性评价方法及其工艺控制应用

    澄清声明:关于应用材料公司在中国业务的报道

    近期,部分媒体发布了不准确的文章和标题,错误地描述了应用材料公司在中国的业务情况。应用材料公 司始终中国客户提供高质量的产品和优质的服务,并遵守适用的法律与法规。   在过去的 12 个月里,多项
    的头像 发表于 11-20 15:06 666次阅读

    用材料公司与格罗方德合作加速人工智能驱动的光子技术发展

    用材料公司正凭借其在材料工程领域的领先地位,增强现实眼镜提供高品质波导解决方案 2025年9月23日,加利福尼亚州圣克拉拉和新加坡——应用材料公司今日宣布与格罗方德
    的头像 发表于 09-24 18:08 7188次阅读

    半导体外延和薄膜沉积有什么不同

    性36;目的:通过精确控制材料的原子级排列,改善电学性能、减少缺陷,并为高性能器件提供基础结构。例如,硅基集成电路中的应变硅技术可提升电子迁移率4。薄膜沉积核心特
    的头像 发表于 08-11 14:40 2174次阅读
    半导体外延和<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>沉积</b>有什么不同

    Molex薄膜电池的技术原理是什么?-赫联电子

    。   Molex薄膜电池的技术原理:   Molex薄膜电池的技术原理主要基于其独特的结构和材料组成,以下是关于Molex
    发表于 07-15 17:53

    安泰高压放大器在超声辅助材制造中的应用研究

    超声辅助材制造技术是一种新兴的制造工艺,它将超声振动与传统的材制造技术相结合,通过超声波的作用改善材料
    的头像 发表于 06-28 14:33 661次阅读
    安泰高压放大器在超声辅助<b class='flag-5'>增</b>材制造中的应用研究

    详解原子层沉积薄膜制备技术

    CVD 技术是一种在真空环境中通过衬底表面化学反应来进行薄膜生长的过程,较短的工艺时间以及所制备薄膜的高致密性,使 CVD 技术被越来越多地应用于
    的头像 发表于 05-14 10:18 1751次阅读
    详解原子层<b class='flag-5'>沉积</b><b class='flag-5'>薄膜</b>制备<b class='flag-5'>技术</b>