0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

预计:台积电2021年需要54台新EUV光刻机

我快闭嘴 来源:创投时报 作者:BU 2021-01-06 11:29 次阅读

台积电作为全球最强大的晶圆代工厂,受到了苹果、联发科芯片巨头的青睐。据悉,2021年台积电近80%的5nm产能,已经被苹果包下,7nm产能也被AMD包下大半。

台积电的强大,少不了背后供应商的支撑,其中ASML便是至关重要的一个。

据了解,在2020年12月中旬,ASML完成了第100台EUV***的出货,其中台积电买下了大部分。据预测,到2020年底时,中国芯片巨头——台积电手中的EUV***高达61台。

***是芯片制造环节中,光刻这一步骤的必备设备,对晶体管尺寸起到决定性作用。手握如此多的EUV***,是台积电能够在业界稳居领先地位的重要原因。

为推进更小制程研发,台积电对EUV***有着巨大的需求量。台积电最新工艺更是对EUV设备有着严重依赖,台积电想要扩大差能与推行制程,所需的***数量也将越来越多。

如今,台积电已经实现5nm量产,并且计划在2022年实现3nm量产,到2024年时将推动2nm量产。由此来看,未来台积电对EUV***的需求量颇多。

根据计算,预计台积电2021年需要新EUV***54台。而在这一年,ASML的EUV曝光机产能有望提升至45到50台规模。与ASML此前产量相比,出货量大大提升。

但ASML无法满足台积电的需要,况且,三星也在一旁虎视眈眈,需要更多的EUV***。

在2022年,台积电所需新EUV数量预计将增至57台;2023年与2024年将分别达到58台与62台。也就是说,台积电此后对EUV***的需求量,将远远超出如今持有的数量。

对EUV***需求量同样大增的,还有三星。三星一直想与台积电争个高下,并希望在2030年时希望能对台积电实现反超,为此其将投入133万亿韩元。因此,三星也希望能获得更多的EUV***,增强自身实力。

在10月13日,三星副董事长李在镕曾对ASML进行访问,并表示三星希望在2020年底前引入9台EUV,并计划在2021年后每年引入20台EUV。

11月份末时,ASML首席执行官又对三星进行了访问,二者再次讨论了EUV***的事宜。

由此可见,对于台积电来说,三星是一个不小的威胁。而且,ASML的产能供应台积电都不能满足,更何况还有三星。

台积电能否拿到更多***,保住自身优势地位,就让我们拭目以待。
责任编辑:tzh

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    450

    文章

    49614

    浏览量

    417067
  • 台积电
    +关注

    关注

    43

    文章

    5534

    浏览量

    165685
  • 苹果
    +关注

    关注

    61

    文章

    24159

    浏览量

    194128
  • 晶体管
    +关注

    关注

    77

    文章

    9496

    浏览量

    136918
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    德国晶圆厂即将动工,预计2027底量产

    半导体行业的重大进展传来,计划在德国德累斯顿的晶圆厂项目即将进入实质性建设阶段。据业内消息人士透露,
    的头像 发表于 07-27 14:38 805次阅读

    今日看点丨ASML今年将向、三星和英特尔交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司机质疑 LCC,产品经理回应

    1. ASML 今年将向、三星和英特尔交付High-NA EUV   根据报道,芯片制造设备商ASML今年将向
    发表于 06-06 11:09 754次阅读

    Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

    在全球四大先进制程代工巨头(包括、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规
    的头像 发表于 05-27 14:37 487次阅读

    都嫌贵的光刻机,大力推玻璃基板,英特尔代工的野心和危机

    电子发烧友网报道(文/吴子鹏)此前,高级副总裁张晓强在技术研讨会上表示,“ASML最新的高数值孔径极紫外光刻机(high-NA EUV
    的头像 发表于 05-27 07:54 2310次阅读

    荷兰阿斯麦称可远程瘫痪光刻机

    disable)相应机器,而且还可以包括最先进的极紫外光刻机EUV)。 这就意味着阿斯麦(ASML)留了后门,随时有能力去远程瘫痪
    的头像 发表于 05-22 11:29 5571次阅读

    A16制程采用EUV光刻机,2026下半年量产

    据台湾业内人士透露,并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的
    的头像 发表于 05-17 17:21 695次阅读

    张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键

    据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1.7亿欧元(约合13.19亿元人民币)。
    的头像 发表于 05-15 14:42 496次阅读

    未确定是否采购阿斯麦高数值孔径极紫外光刻机

    尽管High NA EUV光刻机有望使芯片设计尺寸缩减达三分之二,但芯片制造商需要权衡利弊,考虑其高昂的成本及ASML老款设备的可靠性问题。
    的头像 发表于 05-15 09:34 297次阅读

    ASML发货第二High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

    ASML公司近日宣布发货了第二High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
    的头像 发表于 04-29 10:44 676次阅读

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机
    发表于 03-21 11:31 4726次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    EUV 光刻机持续更新升级,未来目标在 2025 推出 NXE:4000F 机型。 上两代 NXE 系列机型 3400C 和 3600D 分别适合 7~5、5~3 纳米节点生产,德媒 ComputerBase 因此预测 38
    的头像 发表于 03-14 08:42 418次阅读
    ASML 首台新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    三星清空ASML股份,11盈利超16倍

    根据资料显示,在2012,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012
    的头像 发表于 02-23 17:27 860次阅读

    佳能预计到2024出货纳米压印光刻机

    Takeishi向英国《金融时报》表示,公司计划于2024开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C,并补充说芯片可以轻松以低成本制造。202311月,该公司表示该设备的价格将比ASML的
    的头像 发表于 02-01 15:42 737次阅读
    佳能<b class='flag-5'>预计</b>到2024<b class='flag-5'>年</b>出货纳米压印<b class='flag-5'>光刻机</b>

    电新竹科技园20244月将装置2nm晶圆厂设备

    有媒体报道表示,尽管这仅仅是个开始,但设备进场标志着晶圆厂建设的关键阶段,因为装备一家晶圆工厂需要大约一时间。为支持N2工艺生产线,
    的头像 发表于 12-18 14:14 599次阅读

    三星希望进口更多ASML EUV***,5内新增50

    EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60,而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV
    的头像 发表于 11-22 16:46 625次阅读