ASML下一代EUV光刻机延期：至少2025年
ASML公司前两天发布了财报，全年净销售额140亿欧元，EUV光刻机出货31台，带来了45亿欧元的营收，单价差不多11.4亿欧元了。
虽然业绩增长很亮眼，但是ASML也有隐忧，实际上EUV光刻机的出货不及预期的35台，而且他们还宣布了下一代高NA的EUV光刻机要到2025-2026年之间才能规模应用，意味着要延期了。
此前信息显示，ASML下一代EUV光刻机最早是2022年开始出样，大规模量产是2024-2025年间。
ASML的EUV光刻机目前主要是NEX:3400B/C系列，NA数值孔径是0.33，下一代EUV光刻机是NEX:5000系列，可将NA提升到了0.55，意味着光刻机的分辨率提升了70%。（注：NA越高，光刻机精度越高）
目前的EUV光刻机可以用于制造7nm到3nm工艺的芯片，下代EUV光刻机则是针对3nm以下的节点，2nm甚至未来的1nm工艺都要用到NA 0.55的EUV光刻机。
责任编辑：PSY
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
量产
+关注
关注
0文章
78浏览量
23083 -
ASML
+关注
关注
7文章
718浏览量
41228 -
EUV光刻机
+关注
关注
2文章
128浏览量
15105
发布评论请先 登录
相关推荐
光刻机巨头ASML业绩暴雷，芯片迎来新一轮“寒流”？
电子发烧友网报道（文/黄山明）作为芯片制造过程中的核心设备，光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片（7nm及以下）芯片量产的关键，但目前EUV
日本首台EUV光刻机就位
本月底完成。 Rapidus 计划 2025 年春季使用最先进的 2 纳米工艺开发原型芯片，于 2027 年开始大规模生产芯片。 EUV 机器结合了特殊光源、镜头和其他技术，可形成超精
光刻机巨头抛出重磅信号 阿斯麦（ASML）股价大幅上涨
在2024年投资者会议上，光刻机巨头抛出重磅利好；紧接着ASML股价开始大幅拉升；一度上涨超5%。截止收盘上涨2.9%。 阿斯麦在会议上宣布，预计2030
今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉；三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机
1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机，加快开发1nm 芯片 据报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款Hi
发表于 10-31 10:56
•808次阅读
ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机，将芯片密度限制再缩小
ASML再度宣布新光刻机计划。据报道，ASML预计2030年推出的Hyper-NA极紫外光机（EUV
光刻巨人去世 阿斯麦(ASML)光刻机巨头联合创始人去世
圈内突发噩耗，光刻巨人去世； 阿斯麦(ASML)光刻机巨头联合创始人维姆・特罗斯特去世。 据外媒报道，在当地时间11日晚，荷兰光刻机巨头阿斯麦(AS
后门！ASML可远程锁光刻机！
来源：国芯网，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 5月22日消息，据外媒报道，台积电从ASML购买的EUV极紫外光刻机，暗藏后门，可以在必要的时候执行远程锁定！ 据《联合早报》报道，荷兰方面在
台积电A16制程采用EUV光刻机，2026年下半年量产
据台湾业内人士透露，台积电并未为A16制程配备高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下，英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
ASML发货第二台High NA EUV光刻机，已成功印刷10nm线宽图案
ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机，并且已成功印刷出10纳米线宽图案，这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了
英特尔突破技术壁垒：首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作，以确保其能够顺利融入未来的生产线。
阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果
)光刻机，并已经成功印刷出首批图案。这一重要成就，不仅标志着ASML公司技术创新的新高度，也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前，全球仅有两台高数值孔径EUV
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式
发表于 03-21 11:31
•6224次阅读
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
EUV 光刻机持续更新升级，未来目标在 2025 年推出 NXE:4000F 机型。 上两代 NXE 系列机型 3400C 和 3600D
工商网监
评论