ASML是光刻机领域当之无愧的巨头,独占100%的EUV光刻机市场。而在半导体检测设备市场中,ASML也有布局。
ASML交付一台晶圆测量设备YieldStar 385,该设备可用于3nm制程产线,技术处于行业领先。
测试集成电路性能是半导体检测设备的主要作用,可以有效提升芯片良品率,并控制成本。
检测工艺贯穿芯片制造的整个环节,有着“前道量测”之称。
2020年,ASML交付四套前道量测系统。在量测设备领域,ASML已经深耕十年之久。
2000年,130nm芯片制程被成功攻克,但问题也随之而来。在检测130nm芯片时,需要中断芯片制造,影响进度。
并且,光刻精度的不断提升,对前道量测也提出了更高的要求。
为此,ASML量测部门希望能打造一款更智能的监测设备,因此开始对YieldStar系列量测设备的攻克。
经过不断的努力,YieldStar设备成功问世,这套设备能够将监测资料实时传送给光刻机,有效提升了芯片良品率。
在前道量测设备领域,ASML也成功走到了行业前列。
前道测量设备与光刻机的重要性不相上下。据SEMI与申港证券研究所公布的一份数据显示,在晶圆厂制造设备总额中,工艺控制检测设备的占比约为10%,而光刻设备则为18%。
而且,前道量测设备同光刻机有着较强的关联性。ASML在光刻机领域的优势地位,有利于公司打开前道量测设备市场。
同时,随着半导体产业的逐渐扩张、芯片制程的逐步推进,前道量测设备的市场规模也将进一步扩张。
对于ASML来说,该设备或将成为公司业绩新的增长点。不过,在ASML的面前也有着诸多实力强劲的对手。
譬如,身为前道测量设备行业霸主的美国KLA。数据显示,在这一领域中,KLA的占比高达53%,远超以12%排名第二名的应用材料。
ASML想要打破KLA的垄断地位十分不易。
同时,全球唯一一家EUV前道工艺检测设备制造商——Lasertec,也是不可忽视的对手。
目前,三星、台积电已经采用Lasertec的EUV检测设备。随着先进制程的逐步推进,对于EUV检测设备的需求量也将更高,未来Lasertec的市场占比也将进一步提升。
面对KLA、Lasertec等行业巨头的挑战,最终,在重重压力之下,ASML将在前道量测设备领域能否大放异彩,让我们拭目以待。
责任编辑:tzh
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