0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

ASML研发出晶圆测量设备YieldStar 385

我快闭嘴 来源:创投时报 作者:BU 2021-02-20 15:34 次阅读

ASML是光刻机领域当之无愧的巨头,独占100%的EUV光刻机市场。而在半导体检测设备市场中,ASML也有布局。

ASML交付一台晶圆测量设备YieldStar 385,该设备可用于3nm制程产线,技术处于行业领先。

测试集成电路性能是半导体检测设备的主要作用,可以有效提升芯片良品率,并控制成本。

检测工艺贯穿芯片制造的整个环节,有着“前道量测”之称。

2020年,ASML交付四套前道量测系统。在量测设备领域,ASML已经深耕十年之久。

2000年,130nm芯片制程被成功攻克,但问题也随之而来。在检测130nm芯片时,需要中断芯片制造,影响进度。

并且,光刻精度的不断提升,对前道量测也提出了更高的要求。

为此,ASML量测部门希望能打造一款更智能的监测设备,因此开始对YieldStar系列量测设备的攻克。

经过不断的努力,YieldStar设备成功问世,这套设备能够将监测资料实时传送给光刻机,有效提升了芯片良品率。

在前道量测设备领域,ASML也成功走到了行业前列。

前道测量设备与光刻机的重要性不相上下。据SEMI与申港证券研究所公布的一份数据显示,在晶圆厂制造设备总额中,工艺控制检测设备的占比约为10%,而光刻设备则为18%。

而且,前道量测设备同光刻机有着较强的关联性。ASML在光刻机领域的优势地位,有利于公司打开前道量测设备市场。

同时,随着半导体产业的逐渐扩张、芯片制程的逐步推进,前道量测设备的市场规模也将进一步扩张。

对于ASML来说,该设备或将成为公司业绩新的增长点。不过,在ASML的面前也有着诸多实力强劲的对手。

譬如,身为前道测量设备行业霸主的美国KLA。数据显示,在这一领域中,KLA的占比高达53%,远超以12%排名第二名的应用材料。

ASML想要打破KLA的垄断地位十分不易。

同时,全球唯一一家EUV前道工艺检测设备制造商——Lasertec,也是不可忽视的对手。

目前,三星、台积电已经采用Lasertec的EUV检测设备。随着先进制程的逐步推进,对于EUV检测设备的需求量也将更高,未来Lasertec的市场占比也将进一步提升。

面对KLA、Lasertec等行业巨头的挑战,最终,在重重压力之下,ASML将在前道量测设备领域能否大放异彩,让我们拭目以待。
责任编辑:tzh

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    334

    文章

    26766

    浏览量

    213580
  • 三星电子
    +关注

    关注

    34

    文章

    15842

    浏览量

    180843
  • 晶圆
    +关注

    关注

    52

    文章

    4802

    浏览量

    127638
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    715

    浏览量

    41113
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    浅谈影响分选良率的因素(2)

    制造良率部分讨论的工艺变化会影响分选良率。在制造区域,通过抽样检查和测量技术检测工艺变化。检查抽样的本质是并非所有变化和缺陷都被检
    的头像 发表于 10-09 09:45 318次阅读
    浅谈影响<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>分选良率的因素(2)

    浅谈影响分选良率的因素(1)

    制造后,被送到分选测试仪。在测试期间,每个芯片都会进行电气测试,以检查设备规范和功能。每个电路可能执行数百个单独的电气测试。虽然这些
    的头像 发表于 10-09 09:43 282次阅读
    浅谈影响<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>分选良率的因素(1)

    制造良率限制因素简述(2)

    相对容易处理,并且良好的实践和自动设备已将断裂降至低水平。然而,砷化镓
    的头像 发表于 10-09 09:39 344次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>制造良率限制因素简述(2)

    考拉悠然国内首台玻璃基Micro LED量检测设备正式完成出货

    考拉悠然自主研发的国内首台玻璃基Micro LED量检测设备近日正式完成出货。这标志着考拉悠然已完成产品的技术研发并获得客户认可,同时具
    的头像 发表于 08-10 11:18 457次阅读

    碳化硅和硅的区别是什么

    以下是关于碳化硅和硅的区别的分析: 材料特性: 碳化硅(SiC)是一种宽禁带半导体材料,具有比硅(Si)更高的热导率、电子迁移率和击穿电场。这使得碳化硅
    的头像 发表于 08-08 10:13 881次阅读

    北方华创微电子:清洗设备定位装置专利

    该发明涉及一种清洗设备定位装置、定位方法。其中,
    的头像 发表于 05-28 09:58 315次阅读
    北方华创微电子:<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>清洗<b class='flag-5'>设备</b>及<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>定位装置专利

    表面特性和质量测量的几个重要特性

    用于定义表面特性的 TTV、弯曲和翘曲术语通常在描述表面光洁度的质量时引用。首先定义以下术语以描述
    发表于 04-10 12:23 5318次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>表面特性和质量<b class='flag-5'>测量</b>的几个重要特性

    TC WAFER 测温系统 仪表化温度测量

    “TC WAFER 测温系统”似乎是一种用于测量(半导体制造中的基础材料)温度的系统。在半导体制造过程中,
    的头像 发表于 03-08 17:58 883次阅读
    TC WAFER   <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>测温系统 仪表化<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>温度<b class='flag-5'>测量</b>

    一文看懂级封装

    共读好书 在本文中,我们将重点介绍半导体封装的另一种主要方法——级封装(WLP)。本文将探讨级封装的五项基本工艺,包括:光刻(Photolithography)工艺、溅射
    的头像 发表于 03-05 08:42 1213次阅读
    一文看懂<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>级封装

    高视半导体纳米级图形缺陷检测量设备出口马来西亚客户

    该公司专注于半导体检测设备研发制造,其旗下全资子公司——苏州高视半导体技术有限公司成立于2015年,主营AI工业视觉整体解决方案业务,覆盖半导体、屏幕和新能源行业检测。
    的头像 发表于 01-31 14:43 827次阅读

    键合设备及工艺

    随着半导体产业的飞速发展,键合设备及工艺在微电子制造领域扮演着越来越重要的角色。键合技术是一种将两个或多个
    的头像 发表于 12-27 10:56 1306次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>键合<b class='flag-5'>设备</b>及工艺

    静电对有哪些影响?怎么消除?

    静电对有哪些影响?怎么消除? 静电是指由于物体带电而产生的现象,它对产生的影响主要包括制备过程中的
    的头像 发表于 12-20 14:13 893次阅读

    华为新专利:涉及处理装置和处理方法

    光栅板,相对于载台固定;光源,相对于光栅板固定;以及成像元件,固定设置在机械臂上,并且适于接收从光源发出的、透过光栅板的光。
    的头像 发表于 12-19 11:33 729次阅读
    华为新专利:涉及<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>处理装置和<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>处理方法

    果纳半导体:首家实现传输设备自主研发批量出货

    果纳半导体主要致力于集成电路传送领域。研究开发组均来自国内外知名集成电路设备企业,技术人员所占比重超过70%。其主要产品有前端传输模块、
    的头像 发表于 12-08 10:33 1251次阅读

    表面形貌及台阶高度测量方法

    在加工过程中的形貌及关键尺寸对器件的性能有着重要的影响,而形貌和关键尺寸测量如表面粗糙度、台阶高度、应力及线宽测量等就成为加工前后的步骤。以下总结了从宏观到微观的不同表面
    发表于 11-03 09:21 0次下载