0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

中科院5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别?

电子工程师 来源:芯片揭秘 作者:芯片揭秘 2021-03-14 09:46 次阅读

以下内容由对话音频整理

本期话题

● EUV光刻机产能如何?

● 晶圆为什么是圆的?

● 不同制程的芯片之间有何区别?

● 什么是逻辑芯片,逻辑芯片又包括哪些?

● 专用芯片与通用芯片

● 中科院5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别?

EUV光刻机产能如何?

大飞_6g(听友)

请问谢博士,EUV光刻机的产能是怎样的?比如用最先进的光刻机,满负荷生产手机芯片麒麟990,每天能产多少片?中芯国际有多少台投入生产的光刻机?是1台、5台还是10台呢?谢谢

谢志峰(主讲人)这位听友很专业,但是有些细节可能问的不够准确。首先,EUV光刻机以波长为10-14nm的极紫外光作为光源,是目前世界上最先进的光刻机,通常只用在集成电路最先进的光刻工序中,在多数情况下,193光刻机就能够满足一般的光刻需求。 光刻机的产能通常以月来计算,大约一个月能够产出2000片12寸的硅片。中芯国际目前有很多在厂光刻机,不是5台,不是10台,应该是100台左右。

晶圆为什么是圆的?

太阳晒西瓜(听友)

谢老师,请问为什么晶圆是圆的而不是方的呢?

谢志峰(主讲人)

晶圆的原始材料是硅,是一种晶体材料。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,从而形成了圆柱形的单晶硅。单晶直拉法工艺中的旋转提拉决定了硅锭的圆柱型,所以在进行切割后大多也都是圆形,圆形的硅片在晶圆生产的设备中更加容易处理,如果一定要切成方形将会造成材料浪费。

不同制程的芯片之间有何区别?

tsms精益六西格玛(听友)14nm技术达到7nm技术一样的性能,芯片的体积会增大多少?我们有必要继续紧跟摩尔定律吗?

谢志峰(主讲人)技术的迭代不仅表现在体积的缩小,还有其他一些标准。当你工艺做小了以后,它的性能会更好、集成度会更高、功耗也会减少。

每一代技术的更迭通常会带来长度上30%的缩减。比如这一代是14nm,下一代的长度会在14nm基础上乘0.7,也就是10nm左右,10nm的下一代就会变成7nm,以此类推。

14nm到10nm是一代,10nm到7nm又是一代,所以使用14nm技术想要达到与7nm技术一样的性能,芯片尺寸将增大4倍。

可能有人会觉得体积增大4倍也能接受,其实不然。7nm芯片只有14nm芯片体积的1/4,它的制造成本和功耗都会降低,另外当芯片做小时,性能也会提升,所以我们是非常有必要继续往下走的。

什么是逻辑芯片?

龙寒lyzs(听友)谢老师,您认为什么是逻辑芯片?逻辑芯片又包含哪些呢?

谢志峰(主讲人)所有能够实现功能的芯片都是逻辑芯片,只是单纯存储数值的芯片是存储芯片。逻辑芯片无处不在,包括CPUGPUMCU等等。

我再举一些例子,Intel的CPU,Nvdia的 GPU属于逻辑芯片;三星Dram,长江存储的NAND FLASH等属于存储芯片。单纯的逻辑芯片不能独立使用,需要与存储芯片配套。

专用芯片与通用芯片

RockyMa5939(听友)AI既然可以用软件的方法实现,为什么还要研发AI芯片呢?

谢志峰(主讲人)所有的软件都必须要在硬件上实现,目前,AI确实可以通过人们的电脑或者手机来实现,但电脑、手机里都有芯片,AI功能的实现实际上是通过这些设备中的通用芯片实现的。无论是Intel的处理器或者华为麒麟处理器,它们都是标准的硬件,CPU属于通用计算单元,暴力运行某种算法并非其特长,例如CPU挖矿的效率就远比不上专门为HASH算法特制的ASIC矿机芯片。

为什么要研发AI芯片呢?AI芯片属于专用芯片,专用芯片是为了满足特定用户或特定电子系统的制作需求。AI是依赖特定的神经算法实现的,这个任务交给普通的CPU来做,效率比较低下。当硬件中的专用芯片只做AI相关的计算时,它的性能可能有千倍万倍的提高。

中科院的5nm光刻技术

和ASML的5nm光刻机有什么区别?

漫步在奇点(听友)请问中科院的5nm光刻技术,和ASML的5nm光刻机有什么不同?

谢志峰(主讲人)ASML 5nm光刻机已经进入批量生产阶段,它是一个产业化的产品。而中国科学院研究出来的是一种激光直写技术,虽然实现了纳米狭缝电极阵列结构的规模生产,但这并非是集成电路,也不是一个可以制造生产的产品,它只是一种技术。这项技术想要真正做成产品还需要很多年的努力,包括需要实现产品的低成本、高速度等,这些都有待我们继续攻克。

2019年ASML各类光刻机销量及收入结构对比

(图源:前瞻产业研究院)

原文标题:芯粉答疑 | EUV光刻机产能如何?中科院5nm光刻技术和ASML光刻机相比有何区别?

文章出处:【微信公众号:芯片揭秘】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

责任编辑:haq

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    455

    文章

    50714

    浏览量

    423138
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1150

    浏览量

    47378

原文标题:芯粉答疑 | EUV光刻机产能如何?中科院5nm光刻技术和ASML光刻机相比有何区别?

文章出处:【微信号:ICxpjm,微信公众号:芯片揭秘】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻机巨头ASML业绩暴雷,芯片迎来新一轮“寒流”?

    电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程中的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片(7nm及以下)芯片量产的关键,但目前EUV光刻机基本由荷兰阿
    的头像 发表于 10-17 00:13 2746次阅读

    用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍

      本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造:光刻技术的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体
    的头像 发表于 11-24 11:04 436次阅读
    用来提高<b class='flag-5'>光刻机</b>分辨率的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>介绍

    光刻机的工作原理和分类

    ,是半导体产业皇冠上的明珠。芯片的加工过程对精度要求极高,光刻机通过一系列复杂的技术手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图
    的头像 发表于 11-24 09:16 979次阅读

    光刻巨人去世 阿斯麦(ASML)光刻机巨头联合创始人去世

    圈内突发噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麦(ASML)光刻机巨头联合创始人维姆・特罗斯特去世。 据外媒报道,在当地时间11日晚,荷兰光刻机巨头阿斯麦(AS
    的头像 发表于 06-13 15:13 6961次阅读

    俄罗斯首台光刻机问世

    据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒技术生产线
    的头像 发表于 05-28 15:47 769次阅读

    后门!ASML可远程锁光刻机

    来源:国芯网,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 5月22日消息,据外媒报道,台积电从ASML购买的EUV极紫外光刻机,暗藏后门,可以在必要的时候执行远程锁定! 据《联合早报》报道,荷兰方面在
    的头像 发表于 05-24 09:35 564次阅读

    光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 ASML公司一季度订单下滑

    光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 ASML公司一季度订单下滑 光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷了,阿斯麦(ASML)在4月17日披露的一季度订单远低于市场预期,这使得阿斯麦(
    的头像 发表于 04-18 16:43 1222次阅读

    光刻机的常见类型解析

    光刻机很多种类型,但有时也很难用类型进行分类来区别设备,因为有些分类仅是在某一分类下的分类。
    发表于 04-10 15:02 1859次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的常见类型解析

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机
    发表于 03-21 11:31 6221次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台
    的头像 发表于 03-14 08:42 544次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首台新款 EUV <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    光刻机巨头ASML要搬离荷兰?

    据荷兰《电讯报》3月6日报道,因荷兰政府的反移民政策倾向,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划搬离荷兰。
    的头像 发表于 03-08 14:02 1174次阅读

    ASML光刻机技术的领航者,挑战与机遇并存

    ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色,其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
    发表于 03-05 11:26 1213次阅读

    光刻胶和光刻机区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4694次阅读

    荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机

    在10-11月份中国进口ASML光刻机激增10多倍后,美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示,出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
    的头像 发表于 01-03 15:22 1116次阅读

    英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

    如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
    的头像 发表于 12-28 11:31 878次阅读