0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻机原理介绍

汽车玩家 来源:yxlady 作者:yxlady 2021-07-07 14:31 次阅读

光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。

可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就不会有我们现在的手机电脑了。

光刻机是用于芯片制造的核心设备,按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。

光刻机的核心原理就是一个透镜组,在精度上首先咱们有个概念:我们现在芯片的线条精度已发展到10nm级别,而较大的原子直径是将近1nm,我们把芯片放在电子显微镜下即可清晰地数出每个线条上有几个原子,“调节屈光度”是典型的几何光学(初等光学)概念,远远实现不了这个精度。

几何光学中,我们认为光是一条条“光线”,所以可以用透镜等比例缩放。随着人们更深入的了解,发现光其实是连续的“光波”,并不按直线传播。再后来,人们发现光是一个个“粒子”(爱因斯坦因此获得诺贝尔奖)再后来,人们发现光粒子具有“波粒二象性”,还具有量子效应。整个过程中,光的物理特性没有改变。而是随着人们观察得越来越细致、越来越精密,逐步发现了光的特性。

文章综合来源:yxlady

编辑:ymf

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    458

    文章

    51435

    浏览量

    428870
  • 半导体
    +关注

    关注

    335

    文章

    27894

    浏览量

    224490
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1159

    浏览量

    47685
收藏 人收藏

    相关推荐

    什么是光刻机的套刻精度

    在芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像建造摩天大楼
    的头像 发表于 02-17 14:09 414次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 124次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机
    的头像 发表于 01-20 09:44 333次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道
    的头像 发表于 01-16 09:29 728次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高
    的头像 发表于 01-07 10:02 680次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统<b class='flag-5'>介绍</b>

    用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍

      本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造:光刻技术的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体技术的发展,但当光刻机
    的头像 发表于 11-24 11:04 1144次阅读
    用来提高<b class='flag-5'>光刻机</b>分辨率的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b>技术<b class='flag-5'>介绍</b>

    光刻机的工作原理和分类

      本文介绍光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍光刻机的工作原理和分类。         光刻机:芯片制造的关键角色    
    的头像 发表于 11-24 09:16 3227次阅读

    一文看懂光刻机的结构及双工件台技术

    光刻机作为IC制造装备中最核心、技术难度最大的设备,其重要性日益凸显。本文将从光刻机的发展历程、结构组成、关键性能参数以及双工件台技术展开介绍。 一、光刻机发展历程
    的头像 发表于 11-22 09:09 2365次阅读
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻机</b>的结构及双工件台技术

    俄罗斯首台光刻机问世

    据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒技术生产线
    的头像 发表于 05-28 15:47 880次阅读

    荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机

    阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机 据彭博社爆料称,有美国官员就大陆攻台的后果私下向荷兰和中国台湾官员表达担忧。对此,光刻机制造商阿斯麦(ASML)向荷兰官员保证,可以远程瘫痪(remotely
    的头像 发表于 05-22 11:29 5862次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机
    的头像 发表于 05-17 17:21 1153次阅读

    光刻机的常见类型解析

    光刻机有很多种类型,但有时也很难用类型进行分类来区别设备,因为有些分类仅是在某一分类下的分类。
    发表于 04-10 15:02 2212次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的常见类型解析

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
    发表于 03-21 11:31 7034次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    光刻机巨头ASML要搬离荷兰?

    据荷兰《电讯报》3月6日报道,因荷兰政府的反移民政策倾向,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划搬离荷兰。
    的头像 发表于 03-08 14:02 1287次阅读

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 5095次阅读