MRAM,即磁阻式随机访问存储器的简称,兼备SRAM的高速读写性能与闪存存储器的非易失性。STT-MRAM是通过自旋电流实现信息写入的一种新型MARM,属于MRAM的二代产品,解决了MRAM写入信息存在的问题。
STT-MRAM存储单元的核心仍然是一个MTJ(磁性隧道结),由两层不同厚度的铁磁层及一层几个纳米厚的非磁性隔离层组成,它是通过自旋电流实现信息写入的。目前,STT-MRAM已经从几家代工厂(GlobalFoundries、英特尔、三星、台积电和联电)中脱颖而出,成为一种非常有吸引力的IP选择。
STT-MRAM具有以下几个出色的特性:
STT-MRAM的开发步骤包括以下几项:
第一步是材料的堆栈工程——例如,晶体结构、原子组成、厚度和每个层边界的界面特性。需要通过详细的“自旋极化”计算确定以下材料特性:
第二步是扩展电子级、“基态、零K”材料模拟。
第三步是将 MTJ 物理维度引入到工艺开发中。下图说明了磁性“耦合场”在制造后如何存在于锥形、非完全圆柱形 MTJ 中。
最后一步是将之前对材料、温度相关性和 MTJ 尺寸的分析抽象为合适的“紧凑型器件模型”, MRAM阵列设计人员可以用阵列解码的 SPICE 模型结合位单元存取晶体管、写入驱动器和读取传感设备。
与当前的嵌入式闪存相比,STT-MRAM 在以下几个方面都具有优势:
所有这些特性优势都是在严格的环境条件下应用,例如-40℃~125℃——对应于带有eMRAM IP的工业应用SoC。
制造方式实际上也是STT-MRAM优于闪存的点。以台积电32Mb嵌入式STT-MRAM为例,闪存需要12个或更多额外的掩模,只能在硅基板上实现,并且以页面模式写入。由于MTJ器件能够通过三个左右额外的掩膜嵌入芯片的线路后端(BEOL)互连层,因此STT-MRAM在后段(BEOL)金属层中实现仅需要2-5个额外的掩模,并且可以以字节模式写入。
将STT-MRAM与最新的通用存储候选进行比较,STT-MRAM的读写时间分别为2和20 ns,而相变RAM(PRAM)的读取时间为20~50ns,写入的时间为30ns。此外,STT-MRAM的耐久性也是要优于PRAM的。
当然STT-MRAM也有自身的一些问题。在基于STT-MRAM的许多应用中,磁场干扰是一个潜在的问题。因此 STT-MRAM 阵列的磁抗扰度 (MI) 是一个新的可靠性参数。在最近的 2021 年 VLSI 研讨会上,GLOBALFOUNDRIES 的 MRAM 负责人 Vinayak Bharat Naik 解读了采用 22FDX-SOI 工艺技术制造的 MRAM 阵列的磁抗扰度实验分析结果。值得注意的是,该技术还具有非常吸引人的 RF 特性。因此,可能存在带有电感元件的片上 RF IP,即便这些电感元件会发出显著的场强。下面看看STT-MRAM对于外部场强和片上场强的反应。
外部场强源自 SoC 封装之外。Vinayak 展示了应用于 STT-MRAM 测试站点的实验设置和 MI 分析结果。下图显示了(ECC 校正的)存储器读写 BER 为零,活动 MI 大于 250 Oe。
另外,Vinayak 还强调,MTJ 层内磁化畴的各向异性表明外部磁场和 STT-MRAM 测试点表面之间的入射角可能会影响抗干扰性。
SoC 芯片内的抗磁性能有两个方面:
Vinayak 分享了分析数据,显示感应线圈的磁场强度与分离距离的关系,如下所示。右上方的图表显示了源自嵌入式 STT-MRAM 阵列的磁场。在示例中,MRAM阵列场非常小,因此对LC谐振回路振荡频率的影响可以忽略不计。
嵌入式MRAM 确实引入了一个新的可靠性问题——阵列对来自 SoC 封装外部或芯片上电感电路的磁场的“抗扰度”。在制造环节,为了解决磁干扰性问题,制造商选择在封装上沉积0.3mm厚的磁屏蔽层。实验表明在移动设备的商用无线充电器的磁场强度为3500Oe的情况下,暴露100小时的误码率可以从> 1E6 ppm降低到1ppm。另外,在650 Oe的磁场下,在125°C下的数据保存时间超过10年。
目前MRAM软件技术正在世界各地的实验室中开发,但是随着STT-MRAM产品成本的降低,无论是嵌入式产品还是独立产品,MRAM软件技术都可能成为MRAM取代最快的静态随机存取存储器应用的手段,提供更高的非易失性存储器密度。
谈到应用,STT-MRAM可以在许多嵌入式应用中替代NOR闪存和SRAM。非易失性存储使用NOR闪存存储代码,并将数据传输到SRAM充当缓冲区或高速缓存。例如低端手机同时使用NOR和SRAM,可以很容易地用单个STT-MRAM芯片替换它们。
同时,STT-MRAM具有重要的军事应用,在抗恶劣环境高性能计算机、军用卫星、导弹、火箭、航天飞行器控制和数据存储系统中都需要具有超高密度、超大容量、超低能耗、随机存储、非易失性、结构简单、抗辐照能力强等优点的存储器系统,这些特性STT-MRAM都具备。
本文由电子发烧友编辑整理自公开资料和semiwiki技术文章,转载请注明!
STT-MRAM存储单元的核心仍然是一个MTJ(磁性隧道结),由两层不同厚度的铁磁层及一层几个纳米厚的非磁性隔离层组成,它是通过自旋电流实现信息写入的。目前,STT-MRAM已经从几家代工厂(GlobalFoundries、英特尔、三星、台积电和联电)中脱颖而出,成为一种非常有吸引力的IP选择。
STT-MRAM具有以下几个出色的特性:
- 储存时间长
- 高密度
- 随机访问
- 接近零泄漏功率
- 低写误码率
STT-MRAM的开发步骤包括以下几项:
第一步是材料的堆栈工程——例如,晶体结构、原子组成、厚度和每个层边界的界面特性。需要通过详细的“自旋极化”计算确定以下材料特性:
- 磁各向异性 (K)
- 磁饱和 (Ms)
- 隧道磁阻性(TMR)
第二步是扩展电子级、“基态、零K”材料模拟。
第三步是将 MTJ 物理维度引入到工艺开发中。下图说明了磁性“耦合场”在制造后如何存在于锥形、非完全圆柱形 MTJ 中。
图源:semiwiki
最后一步是将之前对材料、温度相关性和 MTJ 尺寸的分析抽象为合适的“紧凑型器件模型”, MRAM阵列设计人员可以用阵列解码的 SPICE 模型结合位单元存取晶体管、写入驱动器和读取传感设备。
与当前的嵌入式闪存相比,STT-MRAM 在以下几个方面都具有优势:
- 耐久性(读/写周期数)
- 数据保留(非易失性阵列存储)
- 读/写循环性能
- 成本
所有这些特性优势都是在严格的环境条件下应用,例如-40℃~125℃——对应于带有eMRAM IP的工业应用SoC。
制造方式实际上也是STT-MRAM优于闪存的点。以台积电32Mb嵌入式STT-MRAM为例,闪存需要12个或更多额外的掩模,只能在硅基板上实现,并且以页面模式写入。由于MTJ器件能够通过三个左右额外的掩膜嵌入芯片的线路后端(BEOL)互连层,因此STT-MRAM在后段(BEOL)金属层中实现仅需要2-5个额外的掩模,并且可以以字节模式写入。
将STT-MRAM与最新的通用存储候选进行比较,STT-MRAM的读写时间分别为2和20 ns,而相变RAM(PRAM)的读取时间为20~50ns,写入的时间为30ns。此外,STT-MRAM的耐久性也是要优于PRAM的。
当然STT-MRAM也有自身的一些问题。在基于STT-MRAM的许多应用中,磁场干扰是一个潜在的问题。因此 STT-MRAM 阵列的磁抗扰度 (MI) 是一个新的可靠性参数。在最近的 2021 年 VLSI 研讨会上,GLOBALFOUNDRIES 的 MRAM 负责人 Vinayak Bharat Naik 解读了采用 22FDX-SOI 工艺技术制造的 MRAM 阵列的磁抗扰度实验分析结果。值得注意的是,该技术还具有非常吸引人的 RF 特性。因此,可能存在带有电感元件的片上 RF IP,即便这些电感元件会发出显著的场强。下面看看STT-MRAM对于外部场强和片上场强的反应。
外部场强源自 SoC 封装之外。Vinayak 展示了应用于 STT-MRAM 测试站点的实验设置和 MI 分析结果。下图显示了(ECC 校正的)存储器读写 BER 为零,活动 MI 大于 250 Oe。
图源:semiwiki
另外,Vinayak 还强调,MTJ 层内磁化畴的各向异性表明外部磁场和 STT-MRAM 测试点表面之间的入射角可能会影响抗干扰性。
SoC 芯片内的抗磁性能有两个方面:
- 源自电感线圈的场,例如用于LC谐振电路,导致STT-MRAM错误率。
- 源自MTJ阵列本身的场,影响LC槽功能。
Vinayak 分享了分析数据,显示感应线圈的磁场强度与分离距离的关系,如下所示。右上方的图表显示了源自嵌入式 STT-MRAM 阵列的磁场。在示例中,MRAM阵列场非常小,因此对LC谐振回路振荡频率的影响可以忽略不计。
图源:semiwiki
嵌入式MRAM 确实引入了一个新的可靠性问题——阵列对来自 SoC 封装外部或芯片上电感电路的磁场的“抗扰度”。在制造环节,为了解决磁干扰性问题,制造商选择在封装上沉积0.3mm厚的磁屏蔽层。实验表明在移动设备的商用无线充电器的磁场强度为3500Oe的情况下,暴露100小时的误码率可以从> 1E6 ppm降低到1ppm。另外,在650 Oe的磁场下,在125°C下的数据保存时间超过10年。
目前MRAM软件技术正在世界各地的实验室中开发,但是随着STT-MRAM产品成本的降低,无论是嵌入式产品还是独立产品,MRAM软件技术都可能成为MRAM取代最快的静态随机存取存储器应用的手段,提供更高的非易失性存储器密度。
谈到应用,STT-MRAM可以在许多嵌入式应用中替代NOR闪存和SRAM。非易失性存储使用NOR闪存存储代码,并将数据传输到SRAM充当缓冲区或高速缓存。例如低端手机同时使用NOR和SRAM,可以很容易地用单个STT-MRAM芯片替换它们。
同时,STT-MRAM具有重要的军事应用,在抗恶劣环境高性能计算机、军用卫星、导弹、火箭、航天飞行器控制和数据存储系统中都需要具有超高密度、超大容量、超低能耗、随机存储、非易失性、结构简单、抗辐照能力强等优点的存储器系统,这些特性STT-MRAM都具备。
本文由电子发烧友编辑整理自公开资料和semiwiki技术文章,转载请注明!
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
闪存
+关注
关注
16文章
1775浏览量
114801 -
存储
+关注
关注
13文章
4257浏览量
85647 -
MRAM
+关注
关注
1文章
236浏览量
31695
发布评论请先 登录
相关推荐
什么是嵌入式?一文读懂嵌入式主板
在现代科技浪潮中,嵌入式技术已成为支撑各种智能设备和系统运行的核心力量。那么,究竟什么是嵌入式?嵌入式系统,顾名思义,是将计算机的硬件和软件嵌入到某种设备或系统中,以实现特定功能的计算
AMD 面向嵌入式系统推出高能效 EPYC 嵌入式 8004 系列
领先地位。 AMD EPYC 嵌入式 8004 系列处理器专为计算密集型嵌入式系统所设计,可为高需求工作负载提供卓越性能,同时以紧凑的尺寸规格最大限度为空间和功率受限型应用提升能效。它还集成了一整套
发表于 10-11 13:58
•675次阅读
嵌入式Hypervisor:架构、原理与应用 阅读体验 +Hypervisor基础概念
解决嵌入式系统资源有限但应用场景日益复杂的难题。单核处理器计算性能的提高和多核处理器的引入为嵌入式Hypervisor的发展提供了硬件基础。与此同时,处理器芯片供应商对CPU虚拟化扩展的支持也进一步推动了虚拟化技术在
嵌入式linux开发的基本步骤有哪些?
之前,首先需要选择合适的硬件平台。硬件选择需要考虑以下几个方面: 1.1 处理器 嵌入式Linux开发需要一个处理器,常见的处理器有ARM、MIPS、PowerPC等。选择处理器时,需要考虑处理器的性能、功耗、成本等因素。 1.2 存储
嵌入式学习-搭建自己的ubuntu系统之创建ubuntu虚拟机
英文的习惯。
创建ubuntu虚拟机
打开VMware软件,点击创建新的虚拟机。进入以下界面:
选择自定义,点击“下一步”。
选择对应VMware版本的兼容性,版本可在帮助->关于
发表于 08-09 15:43
STM32F207擦除片内FLASH,退出DEBUG无法执行下一步程序是怎么回事?
由于项目需求,需要擦除片内指定空间,然后从SPI_FLASH中加载程序运行
问题如下:: 在DEBUG模式下,执行擦除程序后,则退出DEBUG,无法执行下一步程序
擦除代码如下:
1
发表于 04-23 07:46
TDK进一步扩充Micronas嵌入式电机控制器系列HVC 5x
TDK 株式会社(TSE:6762)进一步扩充 Micronas 嵌入式电机控制器系列 HVC 5x,完全集成电机控制器与 HVC-5222D 和 HVC-5422D,以驱动小型有刷(BDC)、无刷(BLDC)或步进电机。
MCU制程工艺迈进28nm时代,汽车行业的创新之路
瑞萨日前宣布,公司已基于STT-MRAM的电路技术开发出具有快速读写能力的测试芯片。该MCU 测试芯片采用 22 纳米工艺制造,包括一个 10.8Mbit嵌入式 MRAM
发表于 03-05 10:05
•2058次阅读
瑞萨电子宣布已开发具有快速读写操作的测试芯片MRAM
瑞萨电子公司日前宣布,该公司已开发出用于嵌入式自旋转移矩磁阻随机存取存储器(STT-MRAM)的电路技术,以下简称MRAM)具有快速读写操作的测试芯片。
Prevayl的下一步是什么
Prevayl的下一步是什么2022年,Prevayl推出了SmartWear——这是世界上第一款采用临床级心电图增强的高性能服装,其准确性无与伦比。生物识别先驱还创建了一个功能齐全的智能服装
嵌入式学习步骤
开发板上测试固件以及在实际设备上进行测试。 嵌入式系统的多样化发展,它将更为广泛地应用于各个领域,实现智能化、网络化、自动化的目标。同时,随着人工智能和机器学习技术的发展,嵌入式系统的智能化程度也将得到进一步提高,让我们的生活
发表于 02-02 15:24
台积电引领新兴存储技术潮流,功耗仅为同类技术的1%
MRAM的基本结构是磁性隧道结,研发难度高,目前主要分为两大类:传统MRAM和STT-MRAM,前者以磁场驱动,后者则采用自旋极化电流驱动。
发表于 01-22 10:50
•474次阅读
传感器技术的下一步
】链接可阅读原文档。 SE:传感器技术的下一步是什么? Malinowski:我们正在尝试寻找一种制造图像传感器的新方法,因为我们希望摆脱硅光电二极管的限制。硅是一种完美的材料,特别是如果您想重现人类视觉,因为它对可见光波长敏感
评论