全球四大光刻机生产商如下:
1.上海微电子
上海微电子简称SMEE,主要致力于半导体装备泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
2.荷兰ASML
ASML是一家总部设在荷兰埃因霍芬(Eindhoven)的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。
ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。
3.佳能
佳能是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团,佳能光刻机22纳米 ,光刻机是制造微机电、光电二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机可以分钟两种,分别是模板和图样大小一致的contact aligner ,曝光时模板紧贴芯片;第二是类似投影机原理的stepper ,获得比模板更小的曝光图样。
4.尼康
尼康(Nikon),是日本的一家著名制造商,成立于1917年。尼康作为世界上能够制造商用光刻机的公司,似乎在这个领域不被许多普通人知道,许多人只知道尼康的相机做的好,却不知道尼康光刻机同样享誉全球。
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