0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

全球四大光刻机生产商

姚小熊27 来源:网络整理 作者:佚名 2021-09-21 17:50 次阅读

全球四大光刻机生产商如下:

1.上海微电子

上海微电子简称SMEE,主要致力于半导体装备泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMSLED、Power Devices等制造领域。

2.荷兰ASML

ASML是一家总部设在荷兰埃因霍芬(Eindhoven)的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。

ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。

3.佳能

佳能是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团,佳能光刻机22纳米 ,光刻机是制造微机电、光电二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机可以分钟两种,分别是模板和图样大小一致的contact aligner ,曝光时模板紧贴芯片;第二是类似投影机原理的stepper ,获得比模板更小的曝光图样。

4.尼康

尼康(Nikon),是日本的一家著名制造商,成立于1917年。尼康作为世界上能够制造商用光刻机的公司,似乎在这个领域不被许多普通人知道,许多人只知道尼康的相机做的好,却不知道尼康光刻机同样享誉全球。

编辑:YYX

整合自:百科、百度知道

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 佳能
    +关注

    关注

    2

    文章

    391

    浏览量

    39672
  • 微电子
    +关注

    关注

    18

    文章

    389

    浏览量

    41320
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1159

    浏览量

    47642
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    722

    浏览量

    41387
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 107次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 294次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 624次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高,能够达到
    的头像 发表于 01-07 10:02 530次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍

    用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍

      本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造:光刻技术的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体技术的发展,但当光刻机的光源波长卡在193nm,芯片制程缩小至6
    的头像 发表于 11-24 11:04 1058次阅读
    用来提高<b class='flag-5'>光刻机</b>分辨率的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b>技术介绍

    光刻机的工作原理和分类

      本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍了光刻机的工作原理和分类。         光刻机:芯片制造的关键角色     光刻机在芯片制造中占据着至关重要的地位,被誉为芯片制
    的头像 发表于 11-24 09:16 2938次阅读

    俄罗斯首台光刻机问世

    据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒技术生产
    的头像 发表于 05-28 15:47 864次阅读

    Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

    全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产
    的头像 发表于 05-27 14:37 705次阅读

    荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机

    阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机 据彭博社爆料称,有美国官员就大陆攻台的后果私下向荷兰和中国台湾官员表达担忧。对此,光刻机制造商阿斯麦(ASML)向荷兰官员保证,可以远程瘫痪(remotely
    的头像 发表于 05-22 11:29 5850次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV
    的头像 发表于 05-17 17:21 1131次阅读

    光刻机的常见类型解析

    光刻机有很多种类型,但有时也很难用类型进行分类来区别设备,因为有些分类仅是在某一分类下的分类。
    发表于 04-10 15:02 2169次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的常见类型解析

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
    发表于 03-21 11:31 6955次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
    的头像 发表于 03-14 08:42 618次阅读
    ASML 首台新款 EUV <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商

    英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂,据报道它们的售价约为3.8亿美元
    的头像 发表于 03-06 14:49 532次阅读
    英特尔成为<b class='flag-5'>全球</b>首家购买3.8亿美元高数值孔径<b class='flag-5'>光刻机</b>的厂商

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 5018次阅读