中国芯片重大突破，好消息接连而来
我国在芯片领域确实在不断的进步，但这是这种进步和国际的最好水平，还是存在一定的差异。特别是在光刻机领域，我们的光刻机目前主要是90nm的光刻机，而上海微电子虽然可能突破28nm的光刻机，但是目前并没有任何的消息或者任何的官方内容，我们所有的猜测都是一些只言片语的新闻所堆积出来的材料。
中国在半导体领域的劣势被无限放大，缺乏核心技术的支持，也让国内芯片企业走得越来越乏力，为了解决这样的困境，目前国家不断加大半导体领域的扶持力度，也制定了2025年实现70%芯片国产化的目标。
目前国内很多科技企业也开始从事半导体领域技术的研发，仅仅在2020年新增的半导体企业就多达两万家，高端的芯片直接决定着未来科技的走向，在众多企业和研究所的努力之下，目前已经取得了很多技术的突破，在最重要的光刻机的研发上，也有了重大的突破。
中国半导体的三个好消息接连传来：
清华大学研发出了可用于EUV光刻机的光源
可编程硅基光量子计算芯片
科技部强调聚焦半导体技术、强化人才的培养
继华为公司之后，中国芯片取得了重大突破：在安全芯片领域取得了全球领先地位。
中国质量万里行，圈聊科技，LeoGo科技综合整理
责任编辑：李倩
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