光刻机是干什么用的 光刻机厂商有哪些
***又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以***又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说***是用来制造芯片的。
国外品牌主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。其中荷兰已经达到了领先全球的水平，荷兰的ASML公司占据了全球市场份额的80%。
中国***上市公司有智光电气、飞凯材料、南大光电和蓝英装备。
文章整合自飞秒生活、antpedia网、南方财富网
审核编辑：黄飞
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
光刻机
+关注
关注
31文章
1142浏览量
47135
发布评论请先 登录
相关推荐
俄罗斯首台光刻机问世
据外媒报道，目前，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已组装并制造了第一台国产光刻机，作为泽廖诺格勒技术生产线
荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机
阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机 据彭博社爆料称，有美国官员就大陆攻台的后果私下向荷兰和中国台湾官员表达担忧。对此，光刻机制造商阿斯麦（ASML）向荷兰官员保证，可以远程瘫痪（remotely
台积电A16制程采用EUV光刻机，2026年下半年量产
据台湾业内人士透露，台积电并未为A16制程配备高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下，英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机。
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
发表于 03-21 11:31
•5524次阅读
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息，光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
刻蚀机是干什么用的 刻蚀机和光刻机的区别
刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似，先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜，再将掩膜与待加工物料模组装好，将样品置于刻蚀室内，通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将待加工物料表面的非掩膜区域刻蚀掉，以得到所需的凹槽和沟槽。
浅谈不同阶段光刻机工作方式
在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和
发表于 03-08 10:42
•1099次阅读
英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商
英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止，英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂，据报道它们的售价约为3.8亿美元
ASML光刻机技术的领航者，挑战与机遇并存
ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色，其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
发表于 03-05 11:26
•1033次阅读
光刻机结构及IC制造工艺工作原理
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
发表于 01-29 09:37
•2427次阅读
荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机
在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后，美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
工商网监
评论