0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

湿处理过程中硅介质上污染物的沉积

华林科纳半导体设备制造 来源:华林科纳半导体设备制造 作者:华林科纳半导体设 2022-02-18 13:24 次阅读

摘要

光伏制造湿法工艺步骤的评估表明杂质可能沉积在硅介质上。在取出晶片时,液体层保留在硅表面上。

当液体蒸发时,液体中的任何污染物都会沉积在硅上。该数据表明,影响杂质沉积的最大因素是熔池中杂质的浓度。

湿法加工中的污染源

将硅片加工成光伏电池涉及多个步骤。该过程从生长硅锭开始,并通过各种包括晶片锯切、清洗、蚀刻、扩散、丝网印刷和最后测试的步骤。在整个过程中,保持硅晶片的纯度是至关重要的, 因为已经表明污染会对细胞的效率和有效寿命产生负而前湿法工艺是制造过程中的一个污染源。这些湿法工艺通常使用高纯度化学物质,如氢氟酸和盐酸,以及18兆欧厘采的去离子水。当化学物质开始时低杂质,化学品暴露于化学品分配系统中使用的材料,如管道阀门和容器,会将液体污染到不可接受的程度。可提取性测试表明,用于油湿部件的材料类型,如聚氯乙烯、聚丙烯或全氟烷氧基(PFA)对流体介质中存在的污染水平有显著影响。

湿处理过程中硅介质上污染物的沉积

金属污染物对载流子的寿命有显著影响。金属污染物可以作为硅的蚀刻纹理化的副产品被引入到浴缸中,也可以通过工艺被引入。许多研究已经进行来测量金属污染物对细胞性能的影响。其中大多数集中在硅基底中的铁块污染上。平面(或表面)浓度为1011个原子/cm2的金属污染物已被证明会改变载流子的寿命超过一个数量级。大多数但不是全部,这些损失可以通过适当的热处理来恢复。因此,最小化金属污染是实现最大载流子寿命和电池效率至关重要。

计算硅片的污染利用浸涂过程中常见的技术和理论,可以计算从液浴中去除后硅片上残留的化学厚度层。液层的厚度(h)可以用朗道-莱维奇方程来估计。

研究表明,在光伏电池中发现的杂质会降低电池的效率。例如,铁污染将减少少数载体的寿命,从而降低电池效率。因此,它在功能上都是有限的在制造过程中,这对保护硅晶片免受污染非常重要。本文的数据表明,由于湿过程中发现的杂质硅片的污染增加。这将使光伏制造商能够评估他们自己的湿工艺浴,并了解他们对其晶片纯度水平的影响。

审核编辑:汤梓红

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 测试
    +关注

    关注

    8

    文章

    5155

    浏览量

    126458
  • 工艺
    +关注

    关注

    4

    文章

    573

    浏览量

    28750
  • 光伏
    +关注

    关注

    40

    文章

    2855

    浏览量

    68709
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    晶圆表面污染及其检测方法

    晶圆表面洁净度会极大的影响后续半导体工艺及产品的合格率。在所有产额损失,高达50%是源自于晶圆表面污染。 能够导致器件电气性能或器件制造过程发生不受控制的变化的物体统称为污染物
    的头像 发表于 11-21 16:33 90次阅读
    晶圆表面<b class='flag-5'>污染</b>及其检测方法

    多晶生产过程中芯的作用

           多晶还原炉内,芯起着至关重要的作用。   在多晶的生长过程中芯的表面会逐渐被新
    的头像 发表于 11-14 11:27 108次阅读

    SMT组装过程中缺陷类型及处理

    表面贴装技术(SMT)是现代电子制造业的关键环节,它通过自动化设备将电子元件精确地放置在PCB。尽管SMT技术已经相当成熟,但在组装过程中仍然可能出现各种缺陷。 一、焊膏印刷缺陷 焊膏量不足或
    的头像 发表于 11-14 09:25 288次阅读

    联网产品在生产测试过程中快速读取贴片SIM卡号的方案

    一、联网行业存在的问题 蜂窝通信模组相关的开发项目过程中,经常使用到2mm*2mm, 5mm*6mm联网贴片卡,由于贴片卡无法向普通插拔卡那样, 将卡号打印在卡板
    的头像 发表于 09-23 16:14 212次阅读
    <b class='flag-5'>物</b>联网产品在生产测试<b class='flag-5'>过程中</b>快速读取贴片SIM卡号的方案

    多晶生产污水处理设备数据采集方案

    多晶作为一种关键的功能材料,在集成电路、晶体管、太阳能电池等领域发挥着重要作用。然而,多晶生产过程中需要使用大量的水,如冷却水、清洗水、反应水等。这些水在使用后会被污染,需要进行
    的头像 发表于 09-02 13:35 127次阅读
    多晶<b class='flag-5'>硅</b>生产污水<b class='flag-5'>处理</b>设备数据采集方案

    电容充放电过程中电压的变化规律

    电容充放电过程中电压的变化规律是一个非常重要的电子学课题,涉及到电容器的基本工作原理和特性。在这篇文章,我们将详细探讨电容充放电过程中电压的变化规律,包括电容的基本特性、充电过程、放
    的头像 发表于 07-11 09:43 4350次阅读

    3芯M16插头运输和安装过程中的安全性如何

    德索工程师说道3芯M16插头在运输过程中需要采用适当的包装进行保护。包装材料应具有足够的强度和韧性,以抵抗运输过程中的振动、冲击和挤压。同时,包装内应设置合适的缓冲材料,如泡沫、海绵等,以减少插头与包装之间的摩擦和碰撞。此外,包装还应具有防水、防尘和防潮的功能,以防止插头
    的头像 发表于 05-16 18:05 244次阅读
    3芯M16插头运输和安装<b class='flag-5'>过程中</b>的安全性如何

    水环境标准监测站能否准确检测微量污染物

      【JD-LSZ05】山东竞道光电持续更新....水环境标准监测站在检测微量污染物方面具有一定的能力,但其准确性受到多种因素的影响,需要综合考虑各种因素以确保检测结果的可靠性。   首先
    的头像 发表于 05-09 16:06 216次阅读

    晶片清洗:半导体制造过程中的一个基本和关键步骤

    和电子设备存在的集成电路的工艺。在半导体器件制造,各种处理步骤分为四大类,例如沉积、去除、图案化和电特性的改变。 最后,通过在半导体材料中掺杂杂质来改变电特性。晶片清洗
    的头像 发表于 04-08 15:32 1687次阅读
    <b class='flag-5'>硅</b>晶片清洗:半导体制造<b class='flag-5'>过程中</b>的一个基本和关键步骤

    监测海洋污染物的传感器分类与应用

    来源:中国海洋观测,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 海洋是地球最大的水体,它对人类的生存和发展具有重要的作用。然而,海洋也面临着各种来源和类型的污染物的威胁,如重金属、有机、营养盐、微塑料等
    的头像 发表于 03-15 09:56 968次阅读

    陶瓷电熔炉启动过程中升温停止问题的原因及解决办法分析

    放射性废物的处置问题一直是核工业发展过程中不可忽视的关键环节。核燃料后处理循环过程中产生的高放废液的安全处置是放射性废物处理的关键,国际
    的头像 发表于 03-12 16:43 614次阅读
    陶瓷电熔炉启动<b class='flag-5'>过程中</b>升温停止问题的原因及解决办法分析

    ADC处理过程中的各个步骤

    在现实世界,模拟信号具有不断变化的值,这些值来自各种来源和传感器,可以测量声音,光,温度或运动,许多数字系统通过测量来自这些传感器的模拟信号与环境相互作用。
    的头像 发表于 01-23 16:46 2834次阅读
    ADC<b class='flag-5'>处理过程中</b>的各个步骤

    的形态与沉积方式

    优化硅的形态与沉积方式是半导体和MEMS工艺的关键,LPCVD和APCVD为常见的沉积技术。
    的头像 发表于 01-22 09:32 2602次阅读
    <b class='flag-5'>硅</b>的形态与<b class='flag-5'>沉积</b>方式

    湿台工艺中使用RCA清洗技术

    半导体制造业依赖复杂而精确的工艺来制造我们需要的电子元件。其中一个过程是晶圆清洗,这个是去除晶圆表面不需要的颗粒或残留过程,否则可能会损害产品质量或可靠性。RCA清洗技术能有效去
    的头像 发表于 12-07 13:19 687次阅读

    用于芳香族污染物高效检测的生物传感器

    环境芳香族污染物对人身安全及环境等都造成严重危害,而常规探测方式存在探测效率低、作业安全性差、易受干扰等瓶颈问题。
    的头像 发表于 11-25 10:13 921次阅读
    用于芳香族<b class='flag-5'>污染物</b>高效检测的生物传感器