马萨诸塞州比佛利2022年3月31日 /美通社/ -- 半导体行业离子注入支持解决方案的领先供应商Axcelis Technologies, Inc.(纳斯达克股票代码:ACLS)今天宣布,公司向日本领先的功率设备芯片制造商发运其Purion XE™高能和Purion M™中等电流Power Series™注入机。这些系统将用于大批量生产基于300mm薄硅晶圆的MOSFET和IGBT设备,以用于汽车和其他功率管理应用。
产品开发执行副总裁Bill Bintz表示:“Purion Power系列的独特功能,结合功率设备领域的密集注入特性,将赋予Axcelis独特的条件来从这一市场的增长中受益。这些工具集成了多项功能和工艺控制能力,包括该平台为功率设备市场提供支持的薄晶圆处理能力。我们期待扩大Purion平台在日本的业务范围,并支持我们客户实现提高制造能力的目标。”
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
芯片制造
+关注
关注
9文章
613浏览量
28787 -
半导体行业
+关注
关注
9文章
403浏览量
40495 -
汽车
+关注
关注
13文章
3446浏览量
37204
发布评论请先 登录
相关推荐
功率放大器在驱动非载流子注入micro-LED上的应用
实验名称:功率放大器在驱动非载流子注入micro-LED上的应用研究方向:半导体器件,光电子器件,micro-LED实验内容:1、制备了一种绝缘层为氧化铝的非载流子注入micro-LED器件;2
微软宣布将逐步淘汰Azure数据资源管理器的虚拟网络注入功能
微软于7月23日正式发布了一则重要公告,宣布了其将废弃Azure数据资源管理器的虚拟网络注入(VNET Injection)功能的计划。这一变动旨在解决当前功能所存在的一系列限制与挑战,并推动用户向更加高效、灵活的网络安全架构迁移。
日本住友重工将推出SiC离子注入机
住友重工离子技术公司,作为住友重工的子公司,计划在2025年向市场推出专为碳化硅(SiC)功率半导体设计的离子注入机。SiC制程虽与硅生产线有诸多相似之处,但由于其高硬度等独特性质,对生产设备提出了特殊要求。
住友重工2025年拟推碳化硅离子注入机
尽管SiC制造过程中的多数设备与常规硅类通用,但因其具备高硬度特性,需要专属设备支持,包括高级别的高温离子注入机、强效的碳膜溅射仪以及大规模的高温退火炉等。其中,能否拥有高温离子注入机被视为衡量SiC生产线水平的关键指标。
腾讯突然宣布,微信鸿蒙版要来了!
原生应用生态 。
从年初宣布首批 200 家厂商加,到三月底超 4000 个应用, 短短两个月时间增长了 20 倍,这成绩相当耀眼 。
目前, 已经有包括支付宝、淘宝、京东、微博、美团、B站、高德地图
发表于 04-30 19:34
SiC与GaN 功率器件中的离子注入技术挑战
碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等宽带隙(WBG)半导体预计将在电力电子器件中发挥越来越重要的作用。与传统硅(Si)设备相比,它们具有更高的效率、功率密度和开关频率等主要优势。离子注入是在硅器件
凯世通交付首台面向CIS的大束流离子注入机
据了解,到2024年第一季度为止,该公司已陆续向多个特定客户发出了多个离子注入机订单,单季度就完成了八台离子注入机的客户端上线工作,呈现出迅猛增长的发展态势,取得了良好开局。
向日葵企业版“云策略”升级!支持Android 企业被控端策略设置
此前,贝锐向日葵推出了适配PC企业客户端的云策略功能,这一功能支持管理平台统一修改设备设置,上万设备实时下发实时生效,很好的解决了当远程控制方案部署后,想要灵活调整配置需要逐台手工操作的痛点,大幅
核力创芯完成首轮2.95亿元股权融资,为功率芯片注入动力
作为中国电力投资集团核技术应用产业的重点项目,核力创芯始创于2021年3月,负责研发并建立我国首条功率芯片质子辐照生产线。该公司致力于通过质子辐照技术为IGBT、FRD二极管等功率芯片实现氢离子注入工艺,从而大幅提升其效能。
碳化硅离子注入和退火工艺介绍
统的硅功率器件工艺中,高温扩散和离子注入是最主要的掺杂控制方法,两者各有优缺点。一般来说,高温扩散工艺简单,设备便宜,掺杂分布轮廓为等向性,且高温扩散工艺引入的晶格损伤低。离子注入工艺复杂且设备昂贵,但它可独立控制掺杂元素的浓度
离子注入仿真用什么模型
离子注入是一种重要的半导体工艺,用于在材料中引入离子,改变其物理和化学性质。离子注入仿真是对离子的注入过程进行建模和模拟,以帮助优化工艺参数并预测材料性能的变化。以下将详细介绍离子注入
评论