IBM的2nm芯片用在哪？
GAAFET架构在近年来的半导体行业内可谓是万众瞩目。按照“摩尔定律”来讲，每隔18~24个月，芯片上的晶体管数量便会增加一倍，芯片的性能也会随之翻倍提升。但在当前，传统的FinFET结构在7nm、乃至5nm工艺时代已经逼近物理极限，新的晶体管技术呼之欲出。
2nm芯片亮相，对于整个半导体产业都有非常重要的意义。虽然短期内，2nm工艺芯片无法规模量产，但通过展示2nm工艺芯片在标准300毫米硅晶圆上蚀刻真实芯片的过程，证明了摩尔定律的延续性。
IBM更新了一条名为《YYDS！IBM发布全球首个2nm芯片》的视频。在视频中，IBM对2nm技术进行全面介绍，并展示了全球首个2nm芯片。
IBM在视频中，还提前介绍了2nm芯片所具有的诸多特性，以及生产细节，对产业链企业都将有不小的帮助。
据悉，IBM的这颗2nm芯片，所有关键功能都是使用EUV光刻机进行刻蚀。
审核编辑 ：李倩
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