美国修改了出口管制规定,将华为列入了“实体清单”后,一时之间“中国芯”成了一股热流,美国意图通过阻断芯片的供应来扼制住华为,扼制中国科技的发展,众所周知芯片设备在国内还是比较先进的,我国在对芯片的研发上还需要突破。
就在我们在自己研制芯片得不到进展,国外的芯片被断供的困局中,中科院传来了一则振奋人心的消息:中科院的研究人员表示已经突破了设计2nm芯片的瓶颈,成功地掌握了设计2nm芯片的技术,只要机器到位,就能实现量产。
虽然我们在芯片突破了2nm技术,但是芯片能够得到量产还有最大的因素那就是光刻机设备。
目前国内芯片技术面临的最大难题,那就是缺少高端光刻机的支持。光刻机是生产芯片时必备的机器,没有光刻机就无法生产出芯片,甚至是高端芯片需要更高端光刻机的支持。
也就是说我们现在要想生产出来2nm芯片即必须需要2nm精度的高端光刻机的支持,而世界上能达到这种精度的光刻机还没造出来。目前光刻机技术最先进的是荷兰的ASML公司,但是最高精度也才5nm。
来源:skr科技,教育家资讯综合整理
审核编辑 :李倩
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