0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗

璟琰乀 来源:懂视网、CSDN、百度百科 作者:懂视网、CSDN、百度 2022-07-10 11:17 次阅读

大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢?

到现在,世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰ASML的极紫外光刻机(EUV),这个是当前世界顶级的光刻机设备。

芯片加工的时候,光刻机是用一系列光源能量和形状控制手段,通过带有电路图的掩模传输光束。

光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制等多项先进技术。是半导体行业技术含量最高的设备。

文章综合懂视网、CSDN、百度百科

审核编辑:何安

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1159

    浏览量

    47748
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    609

    浏览量

    86380
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻机纳米位移系统设计

    光刻机纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 163次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用<b class='flag-5'>纳米</b>位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 477次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 956次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

    纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统   光源系统是光刻机的心脏,负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源,但随着技术的进步,
    的头像 发表于 01-07 10:02 874次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍

    日本首台EUV光刻机就位

    据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行安装,设备安装预计在
    的头像 发表于 12-20 13:48 423次阅读
    日本首台<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>就位

    用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍

      本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造:光刻技术的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体技术的发展,但当光刻机的光源波长卡在193nm,芯片制程缩小至6
    的头像 发表于 11-24 11:04 1308次阅读
    用来提高<b class='flag-5'>光刻机</b>分辨率的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b>技术介绍

    光刻机的工作原理和分类

      本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍了光刻机的工作原理和分类。         光刻机:芯片制造的关键角色     光刻机在芯片制造中占据着至关重要的地位,被誉为芯片制
    的头像 发表于 11-24 09:16 3709次阅读

    俄罗斯首台光刻机问世

    据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒技术生产线
    的头像 发表于 05-28 15:47 903次阅读

    荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机

    disable)台积电相应机器,而且还可以包括最先进的极紫外光刻机EUV)。 这就意味着阿斯麦(ASML)留了后门,随时有能力去远程瘫痪制造芯片的光刻机。 要知道我国大陆市场已经连续三个季度成为阿斯麦(ASML)最大市场,而
    的头像 发表于 05-22 11:29 5878次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
    的头像 发表于 05-17 17:21 1187次阅读

    ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

    ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
    的头像 发表于 04-29 10:44 948次阅读

    英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

    英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
    的头像 发表于 04-22 15:52 1085次阅读

    光刻机的常见类型解析

    光刻机有很多种类型,但有时也很难用类型进行分类来区别设备,因为有些分类仅是在某一分类下的分类。
    发表于 04-10 15:02 2282次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的常见类型解析

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式
    发表于 03-21 11:31 7152次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    EUV 光刻机持续更新升级,未来目标在 2025 年推出 NXE:4000F 机型。 上两代 NXE 系列机型 3400C 和 3600D 分别适合 7~55~3
    的头像 发表于 03-14 08:42 667次阅读
    ASML 首台新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装