duv光刻机和euv光刻机区别是什么
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？
duv光刻机和euv光刻机区别
1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到10nm以下晶圆的生产。
2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，内部必须是真空操作。
以上就是duv光刻机和euv光刻机区别了，现在基本都是euv光刻机。
文章综合php中文网、科创板日报、百度百科
编辑：何安
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发表于 03-21 11:31
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