2022年7月30日,英特尔研究院副总裁、英特尔中国研究院院长宋继强博士出席了由中国计算机学会主办的第一届“中国计算机学会芯片大会”,并发表了题为“坚持半导体底层技术创新,激发算力千倍级提升”的主题演讲。
“中国的数字化转型进程走得很快,有些领域位于世界前列。根据IDC的报告,数字经济增长十分依赖底层基础设施支持,包括计算能力、计算效率,如何把目前行业的传统做法通过数字化技术来更新,以及智能化技术的应用,都会对数字经济的增长带来量和质的变化。” 宋继强表示,“未来数据形态多种多样,从实时性和智能处理上都必须跟上应用领域的低延时、高速率需求,传统的单一计算架构肯定会碰到性能和功耗的瓶颈。”
如何突破算力的瓶颈?如何让不同架构的处理器在硬件架构布局上发挥最大协同作用?从终端侧、到边缘再到服务器,如何对不同级别的硬件进行加速?英特尔研究院副总裁、英特尔中国研究院院长宋继强博士带来了前沿的观察和解读。
异构计算和异构集成两大协同 突破算力瓶颈有路径
在半导体的发展历程中,摩尔定律起到了关键作用,一直以来摩尔定律都带来了性能的显著提升,但现在增速在减缓,平均每3年密度才增加1倍,每3.6年能效增长1倍。
中国半导体行业协会集成电路设计分会理事长、清华大学教授魏少军曾指出,摩尔定律已经走到5纳米,很快3纳米可能也会进入量产,2纳米已经开始研发。相信在未来的十年当中,今天以COMS(基于互补金属氧化物半导体的技术)为基础的摩尔定律大概率就会走到尽头。靠目前的技术要想延续摩尔定律难度非常大。因此工业界一定会寻找一种新的技术发展方向。国际上,英特尔正在牵头制订Chiplet技术标准。现在的智能芯片,特别人工智能芯片,将大量采用“三维混合键合”技术,把计算存储单元键和在一起。
宋继强博士指出,突破算力的第一步,就是通过不同的方式解决多样化数据的计算有效性;第二、在算力提升的时候,需要考虑到绿色计算,如何以能量优化的方式去解决未来的数据处理。提升算力和降低能耗之间的矛盾如何解决?就是通过异构计算+异构集成的方式。
异构计算就是用不同的架构处理不同类型的数据,真正做到“用好的工具解决好的问题”。异构集成又可以帮助我们用更好的集成组合方式,把不同工艺下优化好的模块更好地集成到未来的解决方案当中,从而更加高效地处理复杂计算。
宋继强表示,建立完整的异构计算体系需要软硬件结合,在硬件上,需要“全面发展”,有不同的架构积累,在软件上,也需要有一套方便且好用的软件,只需上层应用者指定功能需求,下层就可以随着异构变化。具体到英特尔自身的异构计算布局,表现为“XPU+oneAPI”。
是
这个架构既有非常全面的硬件架构布局,覆盖从终端到边缘再到服务器,在CPU、GPU、IPU、FPGA、AI加速器等领域,都有具有代表性的成熟产品,又有oneAPI这一开放统一的跨架构编程模型,让现有的和未来将出现的新硬件都能很好地发挥能力。oneAPI也在全球积极开展各项合作,去年还和中科院计算所联合建立了中国首个oneAPI卓越中心。
实现异构集成 英特尔两大技术支持
实现异构计算通常需要将不同制程节点的芯片封装在同一个大封装里,这时就需要应用异构集成,也就是先进封装技术,来满足尺寸、成本、带宽等方面的要求。
宋继强分析说,实现异构集成,英特尔目前有两项关键技术EMIB和Foveros。EMIB(嵌入式多芯片互连桥接)2.5D封装技术。在这个技术框架下,英特尔可以把在平面上集成起来的芯片做很好的连接,可以把它们之间的凸点间距有效降低到50微米以下,未来有可能继续降低到45微米、30多微米这个层面。二、3D封装的发展。Foveros是英特尔提供的一项业界领先的技术,可以帮助我们把不同计算的芯粒在垂直层面上进行封装。通过更高级的封装层面的微缩技术,我们已经可以把封装凸点的间距降到36微米,未来还可以继续降到20微米和10微米以下。封装层级的连线密度就已经非常高了,并且速度也可以逐步接近在芯片里面连线的速率。
宋继强博士进一步补充说,为了推进摩尔定律,英特尔率先使用了下一代基于高数值孔径的极紫外光刻机(EUV),可以进一步降低制程工艺的复杂度和提升芯片良率。他强调说,在Intel 20A节点的时候,会开始产品化地使用RibbonFET这一新的晶体管结构。在晶体管供电方面,英特尔会在Intel 20A通过PowerVia技术实现底部给所有上层的功能逻辑部件供电,把供电层和逻辑层完全分开,可以更有效地使用金属层,对绕线和能量消耗的减少而言都有很大的提高。
据悉,英特尔迄今为止最复杂的高性能计算SoC Ponte Vecchio就运用了英特尔在异构计算和异构集成上的新技术,集成了来自5个不同制程节点的47种不同晶片,而下一代旗舰级数据中心GPU代号Rialto Bridge将进一步大幅提高计算密度、性能和效率,同时通过oneAPI提供软件一致性。
坚持摩尔定律,英特尔制程工艺路线图推进一览
宋继强表示,英特尔的制程工艺革新主要包括以下三大技术:在工具上,英特尔将自Intel 4开始使用下一代基于高数值孔径的极紫外光刻机(EUV)技术,降低整个制程工艺的复杂度,提高良率;在晶体管结构上,Intel 20A将使用全新的RibbonFET结构,进一步降低平面上晶体管所占面积,同时可以有更快的驱动速度,也增加驱动电流的强度;在供电层面,Intel 20A同样将启用全新的PowerVia技术,实现底部给所有上层功能逻辑部件供电,把供电层和逻辑层完全分开,从而可以更有效地使用金属层,大幅减少绕线和能量消耗。
在路线图方面,英特尔计划在四年内推进五个制程节点:Intel 7已经开始批量出货;Intel 4将于今年下半年投产,采用EUV技术,将晶体管的每瓦性能将提高约20%;Intel 3将于2023年下半年投产,在生产过程当中会更大量地使用EUV,在每瓦性能上实现约18%的提升;Intel 20A预计将于2024年上半年投产,通过RibbonFET和PowerVia这两项技术在每瓦性能上实现约15%的提升;最后,Intel 18A预计将于2024年下半年投产,在每瓦性能上将实现约10%的提升。宋继强表示,目前英特尔在Intel 18A和Intel 20A上都取得了不错的进展。
当芯片制造的工艺节点从3纳米再向下发展时,现在的FinFET技术股沟用,环绕式栅极晶体管(GAAFET)隆重登场。英特尔一直在推进CMOS晶体管3D堆叠层面的研究,它会直接贡献到GAA的RibbonFET产品技术当中,通过堆叠CMOS晶体管能够实现30%到50%的微缩。在晶体管层面上继续做微缩,这一点非常重要。在做到Intel 20A、Intel 18A之后,如何选择新的材料做它的接触层、构造一些沟道,这也很重要,可以进一步提升晶体管的效能。
面向未来十年,三大前沿计算布局
宋继强博士介绍说,英特尔确立了未来十年布局的前沿计算布局,包括组件研究、神经拟态计算和集成光电。英特尔在这三大领域都有了一些关键进展。组件研究是英特尔整个生产、制造、研发部门的一项重要工作,在整个半导体研发学术圈也非常活跃。
在组件研究领域,英特尔围绕微缩技术、新材料和量子器件三方面展开。首先,英特尔提供提供更多的核心微缩技术,涵盖混合键合(hybrid bonding)技术、CMOS晶体管3D堆叠技术和对晶体管新材料的探索;其次,通过叠加新的晶体管材料和结构,给硅晶体管注入新的功能,包括增强模式的高K氮化镓晶体管和硅FinFET晶体管的组合技术,以及反铁电体材料的嵌入式内存;还有,利用全新的量子效应做一些器件,包括应用在逻辑计算的磁电自旋电子器件,磁畴壁电子器件和300毫米量子比特制程工艺流程。
现在英特尔基于硅的生产工艺非常兼容的技术构造量子比特,这种量子比特都是通过量子阱技术构造里面硅的电子自旋,通过控制自旋的方向,成为量子比特,能够组合起来做大规模的量子计算。
宋继强指出,未来神经拟态计算是非常重要的一个方向,神经拟态计算的好处是它可以在算法层级和硬件结构设计层级上完全突破现在这种靠堆乘加器的方式来提供算力的模式,而是模拟人类神经元的形式去构造其中底层的计算单元,且大部分是存算一体化。英特尔的Loihi就是这个方向上代表性的实验芯片,现在已经发展到了Loihi 2。Loihi 2是在Intel 4制程工艺上生产出来的,速度比上一代提升了10倍,单个芯片里的神经元数量也提升了8倍。
以前英特尔将768块Loihi神经拟态研究芯片集成在5台标准服务器大小的机箱中,集成为一个数据中心机架式系统---Pohoiki Springs,有一亿的神经元。而现在Loihi 2有了8倍神经元数量的提升,且面积缩小了一半,所以我们可以看到三年来整个设计加上工艺已经达到了16倍的容量和计算比的提升。
关于这种神经拟态芯片商业化的挑战,宋继强认为主要有两点:一、芯片到底怎么去生产或者设计。英特尔的Loihi完全是基于标准库,基于数字电路设计,这些都是很容易做产品化的,所以英特尔神经拟态计算在硬件的产品化方面没有太大的障碍;二、Loihi 2真正铺开变成一个流行产品的障碍是在软件,因为它是一个全新的架构,还没有太多人学会好好地用。现在社区当中有不少开发者可以在底层去构造自己的脉冲神经网络算法,并且通过底层的库存把软件“烧”进硬件做试验,而这显然不是规模化的方案。
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