0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

碳化钨表面的吸附和分解反应机理

鸿之微 来源:鸿之微 作者:鸿之微 2022-08-11 11:35 次阅读

氨气催化分解制氢技术是指在固体催化剂的作用下将氨气转化为清洁燃料氢气。这项技术不仅可以消除氨气的大气污染,而且提供了一种解决质子交换膜燃料电池电极中毒的有效途径。目前研究发现贵金属Ru和Ir对氨气脱氢分解反应具有最高的催化活性,但是由于贵金属成本高、资源稀缺,难以大规模开发利用。碳化钨(WC)具有和Pt相似的d带电子密度态,作为一种潜在的能够替代贵金属氨分解催化材料而被广泛研究。目前文献报道了氨气在WC表面吸附分解的实验研究,然而氨气在WC表面上吸附的电子结构本质和催化分解机理尚不清楚。

江西理工大学周阳副教授课题组采用密度泛函理论(DFT)并结合周期平板模型的方法,分别研究了NH3在以W为终止的碳化钨表面(W-WC)和以C为终止的碳化钨表面(C-WC)的吸附和分解反应机理。相关论文以题为First-principles insights intoammonia decomposition on WC (0001) surface terminated by W and C发表在Applied Surface Science。

80c54ab0-188f-11ed-ba43-dac502259ad0.jpg

理论计算研究结果表明:(1)以W为终止的WC(0001)面为最稳定的表面;(2)各组分在脱氢过程中的吸附能呈现如下趋势:NH3< NH2 < NH < N。其中各组分在C-WC表面通过氮原子的孤对电子优先吸附在顶位top位,而在W-WC表面的吸附以top和hcp为主;(3)过渡态结果表明复合反应脱附为整个反应的限速步骤,以C为终止的碳化钨表面更适合作为氨气催化分解反应的催化剂;(4)电子结构计算结果表明,NH3分子及其片段通过其N 原子的2pz轨道与底物W的5dz2轨道混合吸附于表面。随着脱氢反应的进行,电荷转移现象变得逐渐明显,吸附质和底物之间的电荷转移在加速氨气脱氢催化过程中发挥重要作用。

80dfa55e-188f-11ed-ba43-dac502259ad0.jpg

图1(a)C-WC和(b)W-WC的俯视图和吸附位点

80f9648a-188f-11ed-ba43-dac502259ad0.png

图2WC(0001)的表面能()与化学势之间的关系图

811e9598-188f-11ed-ba43-dac502259ad0.png

图3(a)N-N复合反应和(b)H-H复合反应的能量图

审核编辑:彭静
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 燃料电池
    +关注

    关注

    26

    文章

    957

    浏览量

    95154
  • 电极
    +关注

    关注

    5

    文章

    812

    浏览量

    27205
  • 电荷
    +关注

    关注

    1

    文章

    627

    浏览量

    36130

原文标题:文章转载|江西理工《ASS》:氨气在WC(0001)表面吸附和解离的第一性原理研究

文章出处:【微信号:hzwtech,微信公众号:鸿之微】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    研究级高性能全自动程序升温化学吸附

    研究级高性能全自动程序升温化学吸附仪为采用动态技术的全自动高精度程序升温和化学吸附分析仪,能进行全自动脉冲化学吸附和程序升温还原(TPR)、程序升温脱附(TPD)、程序升温氧化(TPO)和程序升温
    发表于 02-24 10:06

    AutoChem为采用动态技术的全自动高精度程序升温

    AutoChem为采用动态技术的全自动高精度程序升温和化学吸附分析仪,能进行全自动脉冲化学吸附和程序升温还原(TPR)、程序升温脱附(TPD)、程序升温氧化(TPO)和程序升温反应(TPRx) - 以及BET
    发表于 04-21 16:35

    【Aworks申请】适用于粗糙表面的真空吸附式隧道工况检测爬壁机器人系统

    较多。本方案采用的是真空吸附式爬壁机器人进行检测,目前已解决粗糙表面的吸附、灰尘过滤等工作,在机器人控制系统的设计中用到四路ADC,两路串口,一路CAN总线接口,一路SPI,以及多路外扩IO口。
    发表于 07-07 08:50

    【OK210申请】适用于粗糙表面的真空吸附式隧道工况检测爬壁机器人系统

    使用,如果效果良好今后有望为实验室从事控制的同学使用。项目描述:该项目用于当前高铁隧道表面质量的检测,隧道表面为粗糙混凝土,灰尘较多。本方案采用的是真空吸附式爬壁机器人进行检测,目前已解决粗糙
    发表于 07-07 08:54

    碳化硅深层的特性

    。强氧化气体在1000℃以上与SiC反应,并分解SiC.水蒸气能促使碳化硅氧化在有50%的水蒸气的气氛中,能促进绿色碳化硅氧化从100℃开始,随着温度的提高,氧化程度愈为明显,到140
    发表于 07-04 04:20

    电极电位对L - 蛋氨酸分子吸附构型影响的表面增强拉曼光谱

    电极电位对L - 蛋氨酸分子吸附构型影响的表面增强拉曼光谱:利用电化学现场表面增强拉曼光谱技术研究了在粗糙化金电极和银电极表面吸附的L -
    发表于 10-25 12:19 9次下载

    锂锰电池的反应机理

    锂/锰电池的反应机理 电化学体系表达式:Li/1mol LiClO4-PC+DME/MnO2在非水锂电池体系中,负极溶解下来的锂离子迁移穿过电解质而浸入正极二氧化锰
    发表于 11-06 10:59 6458次阅读

    六氟化硫气体的分解机理及应用于GIS故障分析与判断中

    本文主要探讨了GIS 中典型放电性故障特征及相应的SF6气体分解产物和分解机理,给出了不同放电类型故障相关试验结果,并对最常见的电晕放电故障给出了放电量与分解产物的关系。在此基础上,归
    的头像 发表于 11-07 08:28 9138次阅读
    六氟化硫气体的<b class='flag-5'>分解</b><b class='flag-5'>机理</b>及应用于GIS故障分析与判断中

    锂电池碳负极界面反应机理

    原文标题:锂电池碳负极界面反应机理及表征技术概述 文章出处:【微信公众号:锂电联盟会长】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
    的头像 发表于 10-12 15:25 3722次阅读
    锂电池碳负极界面<b class='flag-5'>反应</b><b class='flag-5'>机理</b>

    硅片表面有机污染物的吸附行为

    摘要 研究了吸附在硅片表面的有机污染物的吸附行为。污染物是由洁净室环境和塑料储物箱中存在的挥发性有机污染物引起的。晶片上的污染物通过将它们溶解在溶剂中来收集,并通过气相色谱-质谱分析进行表征。发现有
    发表于 03-01 14:38 1589次阅读
    硅片<b class='flag-5'>表面</b>有机污染物的<b class='flag-5'>吸附</b>行为

    RCA清洗中晶片表面的颗粒粘附和去除

    溶液中颗粒和晶片表面之间发生的基本相互作用是范德华力(分子相互作用)和静电力(双电层的相互作用)。近年来,与符合上述两种作用的溶液中的晶片表面上的颗粒粘附机制相关的研究蓬勃发展,并为阐明颗粒粘附机制做了大量工作。
    的头像 发表于 07-13 17:18 1861次阅读
    RCA清洗中晶片<b class='flag-5'>表面的</b>颗粒粘<b class='flag-5'>附和</b>去除

    使用稀释的HCN水溶液的碳化硅清洗方法

    金属污染物,如碳化表面的铜,不能通过使用传统的RCA清洗方法完全去除。RCA清洗后,在碳化表面没有形成化学氧化物,这种化学稳定性归因于RCA方法对金属污染物的不完全去除,因为它通过
    的头像 发表于 09-08 17:25 2142次阅读
    使用稀释的HCN水溶液的<b class='flag-5'>碳化</b>硅清洗方法

    具有不同表面基团MQDs的催化反应机理

    当前,科学研究具有跨学科性。受该研究中的表征手段以及这种相互作用的启发,我们构筑了催化反应中,零维MXene量子点(MXene quantum dots, MQDs)作为催化剂,其表面的活性基团与反应物、产物之间的关系。
    的头像 发表于 11-14 09:14 1244次阅读

    什么是吸附?在COMSOL中模拟表面吸附

    有时候,化学物质会吸附在表面上,这种现象可能发生在气相中的固体表面以及浸没在液体溶液中的固体表面
    的头像 发表于 06-05 11:25 3129次阅读
    什么是<b class='flag-5'>吸附</b>?在COMSOL中模拟<b class='flag-5'>表面</b><b class='flag-5'>吸附</b>

    多晶硅的块状破碎过程解析

    人工破碎就是工人用碳化钨锤多晶硅棒进行锤击达到粉碎的目的。碳化钨的硬度仅次于钻石,能够保持锋利的边缘和形状,即使在高强度使用下也不容易磨损。
    的头像 发表于 02-27 10:17 1294次阅读
    多晶硅的块状破碎过程解析