早期的射频集成电路(RFIC)主要是以硅基双极晶体管分立器件为主,将二极管、电感器、电容器等无源元件与之互连并集成在PCB 上,从而形成射频混合集成电路。20 世纪90 年代以来,随着IC工艺技术的进步,RFIC 实现由各种晶体管芯片与二极管、电感、电容等无源元件(或芯片)在陶瓷基板上的互连集成,然后对其进行小型化封装或微封裝,大幅度缩小了射频电路的尺寸,快速取代了旧式使用分立器件的混合电路,使 RFIC 得到了长足的进步和发展,并推动了小型化封装及无线通信技术的飞跃发展。进人21 世纪后,随着CMOS 技术、射频 GaAs芯片技术、射频 GaN 芯片技术的进一步发展,现已逐步朝着射频单片集成电路(RF-MIC)的方向发展。
射频 SOI (RF-SOI)是采用 SOI 工艺技术制作的射频器件和集成电路。SOI是指在体硅材料中插人一层 SiO2绝缘层的耐底结构。在SOI衬底上制作低电压、低功耗集成电路是深亚微米技术节点的主流选择之一。RF-SOI 具有如下优点。
(1) RF-SOI具有很高的工作频率,器件的fT/fmax可提高到亳米波工作频率的3~5倍
(2) RF-SOI 可以实现集成电路堆叠(IC Stacking)结构,同时提高了功率
及能效比。
(3) RP-SOI工艺采用的 SOI 衬底可降低寄生效应,使射频芯片的品质因数
更高、损耗更低、噪声系数更好,同时也提升了产品的绝缘水平与线性度。
(4)RF-SOI 可以将逻辑电路和控制电路集成在同一芯片上,而 GaAs 工艺
则无法做到这一点,因为 GaAs 器件在应用中需要搭配一个控制芯片。采用 RF-SOI 工艺还可以将功率放大器(Power Amplifier, PA)和控制功能电路集成在同一个芯片上。
(5)RF-SOI 具备后栅偏压可调(Back-Gate Bias )功能,可以依照使用的
需求微调亳米波射频线路。
目前,RF-SOI 技术在智能手机及 WiFi 等无线通信领域己逐步取代化合物工艺技术。
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原文标题:射频集成电路 Radio Frequency Integrated Circuits(RFIC)
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