PTFE管用途:可用于蚀刻摇摆机的摇摆架,PTFE也称:可溶性聚四氟乙烯、特氟龙、Teflon
蚀刻机的简单介绍:
1、采用传动装置,雾化喷淋,结构合理;加工尺寸长度不限制,速度快、精度高;
2、效率高使用方便:有效地设计喷淋与被蚀刻金属板的有效面积和蚀刻均匀程度;蚀刻效果、速度和操作者的环境及方便程度等方面都有改善;药液使用充分,大大降低生产成本;3、蚀刻速度在传统蚀刻法上大大提高:经反复实验喷射压力在1-2 kg/cm2的情况下被蚀刻工件上所残留的蚀刻圬渍能被有效清处掉;
特点1:每排喷嘴压力允可调节,压力独特显示。
特点2:前蚀刻区左右摇摆,后蚀刻区前后摇摆,蚀刻更佳。
特点3:双面压辊,防止在腐蚀过程板材重叠。
特点4:双重过滤,防止喷嘴赌赛.提高时刻质量。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
蚀刻
+关注
关注
9文章
413浏览量
15332 -
刻蚀机
+关注
关注
0文章
47浏览量
4187
发布评论请先 登录
相关推荐
湿法蚀刻的发展
蚀刻的历史方法是使用湿法蚀刻剂的浸泡技术。该程序类似于前氧化清洁冲洗干燥过程和沉浸显影。晶圆被浸入蚀刻剂罐中一段时间,转移到冲洗站去除酸,然后转移到最终冲洗和旋转干燥步骤。湿法蚀刻用于
玻璃基电路板的蚀刻和侧蚀技术
在对显示面板和玻璃基板减薄蚀刻主要是指通过一定配比混酸等蚀刻液对液晶面板和玻璃基板等(二氧化硅)玻璃材质基板进行化学腐蚀。本文所摘选信息虽不是专门介绍对玻璃基材的蚀刻,但相关蚀刻和侧蚀
玻璃电路板表面微蚀刻工艺
玻璃表面蚀刻纹路由于5G时代玻璃手机后盖流行成为趋势,预测大部分中高端机型将采用玻璃作为手机的后盖板。因此,基于玻璃材质的微加工工艺也就成为CMF研究中不可回避的一个技术问题。而且,由玻璃材质
基于光谱共焦技术的PCB蚀刻检测
(什么是蚀刻?)蚀刻是一种利用化学强酸腐蚀、机械抛光或电化学电解对物体表面进行处理的技术。从传统的金属加工到高科技半导体制造,都在蚀刻技术的应用范围之内。在印刷电路板(PCB)打样中,蚀刻
通信——通过表面电荷操纵控制锗的蚀刻
计算领域的潜在基础材料。超薄二极管器件的制造需要去除用于同质外延生长的衬底。对于硅来说,这一任务通常通过选择性蚀刻来实现。然而,对于锗来说,由于与硅相比在化学和氧化行为上的根本差异,需要新的蚀刻技术。蚀刻由
关于两种蚀刻方式介绍
干式蚀刻是为对光阻上的图案忠实地进行高精密加工的过程,故选择材料层与光阻层的蚀刻速率差(选择比)较大、且能够确保蚀刻的非等向性(主要随材料层的厚度方向进行蚀刻),且能降低结晶缺陷、不纯
影响pcb蚀刻性能的五大因素有哪些?
一站式PCBA智造厂家今天为大家讲讲影响pcb蚀刻性能的因素有哪些方面?影响pcb蚀刻性能的因素。PCB蚀刻是PCB制造过程中的关键步骤之一,影响蚀刻性能的因素有很多。深圳领卓电子是专
蚀刻机远程监控与智能运维物联网解决方案
行业背景 随着工业技术的不断发展,物联网作为新兴生产力正在改变许多行业的工作方式。在半导体芯片行业,自动蚀刻机的物联网应用正在助力企业达到监控设备更加便利、故障运维更加高效、数据分析更加精准等等
电偶腐蚀对先进封装铜蚀刻工艺的影响
共读好书 高晓义 陈益钢 (上海大学材料科学与工程学院 上海飞凯材料科技股份有限公司) 摘要: 在先进封装的铜种子层湿法蚀刻工艺中,电镀铜镀层的蚀刻存在各向异性的现象。研究结果表明,在磷酸、双氧水
东京电子新型蚀刻机研发挑战泛林集团市场领导地位
根据已公开的研究报告,东京电子的新式蚀刻机具备在极低温环境下进行高速蚀刻的能力。据悉,该机器可在33分钟内完成10微米的蚀刻工作。此外,设备使用了新开发的激光气体,搭配氩气和氟化碳气体以提升工艺水平。
揭秘***与蚀刻机的神秘面纱
在微电子制造领域,光刻机和蚀刻机是两种不可或缺的重要设备。它们在制造半导体芯片、集成电路等微小器件的过程中发挥着关键作用。然而,尽管它们在功能上有所相似,但在技术原理、应用场景等方面却存在着明显的区别。本文将对光刻
不同氮化镓蚀刻技术的比较
GaN作为宽禁带III-V族化合物半导体最近被深入研究。为了实现GaN基器件的良好性能,GaN的处理技术至关重要。目前英思特已经尝试了许多GaN蚀刻方法,大部分GaN刻蚀是通过等离子体刻蚀来完成
在氮化镓和AlGaN上的湿式数字蚀刻
由于其独特的材料特性,III族氮化物半导体广泛应用于电力、高频电子和固态照明等领域。加热的四甲基氢氧化铵(TMAH)和KOH3处理的取向相关蚀刻已经被用于去除III族氮化物材料中干法蚀刻引起的损伤,并缩小垂直结构。
氮化镓的晶体学湿式化学蚀刻法
目前,大多数III族氮化物的加工都是通过干法等离子体蚀刻完成的。干法蚀刻有几个缺点,包括产生离子诱导损伤和难以获得激光器所需的光滑蚀刻侧壁。干法蚀刻产生的侧壁典型均方根(rms)粗糙度
评论