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盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH顺利出机

半导体芯科技SiSC 来源:半导体芯科技SiSC 作者:半导体芯科技SiS 2022-12-29 18:18 次阅读

来源:盛美上海

近日盛美上海首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机,顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备,该设备由盛美半导体设备(亚太)制造中心完成出货,这是该公司提升其在涂胶和显影领域内专业技术的重要一步。

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此外,盛美上海将于2023年推出i-line型号设备,并且公司已开始着手研发KrF型号设备。前道涂胶显影Track设备Ultra LITH的出货是盛美上海持续拓展产品系列的又一成果,公司致力于成为晶圆级的工艺解决方案平台,旗下产品还包括单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备,及PECVD设备。

审核编辑黄昊宇

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