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先进封装与键合技术大会吹响新年集结号,收心聚力开新篇!

半导体芯科技SiSC 来源:半导体芯科技SiSC 作者:半导体芯科技SiS 2023-01-16 16:43 次阅读

来源:半导体芯科技SiSC

随着光刻精度的不断提升,晶体管尺寸微缩逐渐接近硅原子的物理极限,摩尔定律似乎步入尽头。芯片性能的提升主要是通过工艺突破来实现,而这一途径的难度越来越大,随之封装性能的提升作为有效的补充越来越被重视。传统封装工艺不断迭代出的先进封装技术崭露头角,它继续着集成电路性能与空间在后摩尔时代的博弈。同时,晶圆键合(Wafer Bonding)、倒装芯片键合(Flip Chip Bonding)、混合键合等也是一项技术壁垒较高的新型工艺技术,且工艺要求极其严苛。

在14nm工艺后,衬底和晶片的厚度将成倍下降,热应力下的翘曲效应使得凸点桥接(Solder Bump Bridge) 失效异常严重。热压键合(TCB)、临时键合和解键合等技术方案在不断完善。键合材料从金属铝、铜等,再到聚合物材料的推陈出新,使得键合材料的创新与键合技术的发展逐渐相辅相成。

先进封装与键合工艺技术与时俱进,后摩尔时代下这一系列的技术不断更新,支撑了先进制程和先进封装的向前发展。2023年2月23日,晶芯研讨会将邀请半导体产业链代表领袖和专家,从先进封装、键合设备、材料、工艺技术等多角度,探讨先进封装与键合工艺技术等解决方案。大会详情:https://w.lwc.cn/s/AFreQf

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深圳芯盛会

3月9日,与行业大咖“零距离”接触的机遇即将到来,半导体业内封装专家将齐聚深圳,CHIP China晶芯研讨会诚邀您莅临“拓展摩尔定律-半导体先进封装技术发展与促进大会”现场,一起共研共享,探索“芯”未来!

审核编辑黄宇

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