芯片虽小,
但对人类世界的影响却是巨大的。
芯片已成为我们工作、旅行、健身和娱乐中不可或缺的核心技术。
而它的出身居然是不起眼的沙砾...
平凡的沙砾,是如何逆袭成为芯片的呢?
“逆天改命”闯三关
“逆袭上位”
第一步——纯化
在高温的作用下转换成纯度约99.9%的硅。
第二步——拉晶
硅经过熔化从中拉出圆柱状的硅晶柱,
也就是我们常说的“硅锭”。
第三步——切割
将硅晶柱切割成薄硅片,
抛光后便形成晶圆。
关键工艺不可少
沙砾变成晶圆后,
距离成为芯片还有“亿”点点距离,
还需要经过几个关键工艺锤炼。
制造芯片的第一步,通常是将导体、绝缘体或半导体材料薄膜沉积到晶圆上。随后,在晶圆上涂覆光敏材料“光刻胶”或“光阻”。晶圆放入***后,光线将电路图案成像在晶圆上,制作出需要的图案。因此,电路图的精细度越高,芯片的集成度越高,难度也就越大。
值得注意的是,光刻期间产生的物理、化学效应可能造成图案形变。ASML可将现有光刻数据及圆晶测试数据整合,制作算法模型,精确调整图案确保最终光刻图案的准确。
显影完成后,进入刻蚀环节,使用气体等材料去除多余的空白部分,形成3D电路图案。为了避免误差,在芯片生产过程中,还可通过对晶圆的计量和检验,并反馈至光刻系统,来进一步优化、调整设备。在去除剩余的光刻胶之前,可以用正离子或负离子轰击晶圆,对部分图案的半导体特性进行调整。
从薄膜沉积到去除光刻胶,整个流程为晶圆片覆盖上一层图案。而要在晶圆片上形成集成电路,完成芯片制作,这一流程需要不断重复可多达100次。最后,切割晶圆获得单个芯片,封装在保护壳中。经过层层闯关和历炼,沙砾终于华丽转身,逆袭成为构成人类丰富多彩世界的、举足轻重的成品芯片了!
“小”无止境
如今,一个指甲盖大小的芯片,包含的晶体管已达到数十亿个。***所能实现的图像微缩的尺寸越小,芯片制造商能在芯片上安装的晶体管就越多,功能也就越强大。
因此,数十年来,ASML坚持创新,始终挑战极限,为了每1纳米的微缩而努力。
编辑:何安
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原文标题:光刻奇思 | 沙砾到芯片的逆袭之旅
文章出处:【微信号:ASML阿斯麦光刻,微信公众号:ASML阿斯麦光刻】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
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