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等离子清洗技术

1770176343 来源:半导体封装工程师之家 2023-02-11 10:55 次阅读

等离子体是物质的一种特殊存在状态,是物质在电离等外来作用下继固态、液态、气态后的第四种存在状态。

等离子清洗技术是利用等离子体高能轰击、活化反应等物理化学方法,将污染物从工件上剥离去除的一种工艺方法。

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等离子清洗设备,主要由高频电源、电极、真空室、真空泵、控制系统等几部分组成。

等离子清洗原理

1)反应性气体等离子清洗

在真空状态下,高频电源的高压交变电场将氧气、氢气等反应性气体电离成高能量和高反应性的等离子气体。这些高活性基团被吸附在工件表面,与表面污染物发生化学反应,生成其他气体并脱离工件表面,随排气系统排出。氧气适合对助焊剂等有机类污染物进行处理,氢气适合处理金属氧化物。

2)物理性气体等离子清洗

在真空状态下,高频电源的高压交变电场将氩气等惰性气体电离成高能量的等离子气体。活性粒子在偏压作用下被加速产生动能,设备射频系统的下电极接地,确保所有的高能电子不能穿越电极接触到工件表面,避免对敏感器件造成电子损伤。只有中性原子团下电极高速轰击工件表面,使污染物汽化,与工件剥离,随排气系统排出腔体外,产生清洗效果。由于是靠纯物理撞击方式剥离污染物,此方法适合对各类污染物进行去除。

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等离子清洗的优点

等离子清洗是使用电能催化物理化学反应为手段,是一种干法清洗方式,它排除了所有湿法清洗带来的危险,且无废液产生。等离子高能离子的方向性不强,可以深入到物体微小孔和不规则图形结构内部进行清洗,受工件形状的影响较小。

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影响等离子清洗效果的因素

电极设计技术

试料loading方法

真空度

Gas种类

Plamsa处理时间

Power种类及量

清洗过程的温度

审核编辑 :李倩

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原文标题:等离子清洗技术

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