0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

关于Nanoskim软件器件掺杂的总体介绍

鸿之微 来源:鸿之微 2023-03-14 15:46 次阅读

01 软件简介

Nanoskim是基于Slater-Koster紧束缚势场的量子输运仿真软件,可以从原子层级来构建纳米器件。在非平衡条件下,通过自洽求解非平衡格林函数(Non-equilibrium Green's function, NEGF)和Poisson方程,得到纳米器件的电子密度和静电势。从而可以充分考虑量子力学效应(如源漏隧穿效应、量子受限效应、电声耦合效应),以及具体的原子细节(如截面形状、杂质位置)等。

02 器件掺杂

对于半导体器件,掺杂是提高器件电学性能的重要手段之一,众多的电学特性与掺杂的杂质浓度有关。如果在本征半导体中掺入某种特定杂质,成为N型半导体或者P型半导体,其导电性能将发生质的变化。就能带而言,P型半导体的费米能级接近于价带,N型半导体的费米能级接近于导带。Nanoskim是通过移动费米能级相对导带或价带的位置,来表示器件中的掺杂。

03 计算案例

本期以nin型Si纳米线器件为例模拟器件的掺杂功能,在Device Studio软件中一键执行Nanoskim程序而进行模拟计算,计算步骤主要包括:模型搭建—哈密顿量计算—电子能带计算—器件掺杂。

(1)模型搭建

Si纳米线单胞的结构文件Si.xyz文件如下所示:

e7e52824-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

在Device Studio软件中导入Si纳米线单胞,操作如下:

e8040910-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

Si纳米线单胞添加晶格常数,并将结构居中,操作如下:

e81f6a48-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

将Si纳米线单胞通过扩胞得到Si纳米线晶体,操作如下:

e834b9de-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

将Si纳米线晶体转换成器件,操作如下:

e848add6-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

(2)哈密顿量/电子能带计算

在Device Studio中生成哈密顿量和电子能带计算的输入文件,需要选择Si的SK参数文件,操作如下:

e8675fb0-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

通过右击Hamiltonian.input输入文件,点击Run开启哈密顿量计算,并且在Job Manager区域可以实时观看计算状态。当计算状态为Finished时,表明哈密顿量计算完成,操作如下:

e88dc86c-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

通过右击BandStructure.input输入文件,点击Run开启能带计算,并且在Job Manager区域可以实时观看计算状态。当计算状态为Finished时,表明能带计算完成,操作如下:

e8a6c4de-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

能带计算完成后,在Device Studio中可以直接可视化作图,操作如下:

e8c4ed60-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

(3)器件掺杂

实现n-i-n型的器件掺杂,需要把电极附近的能带向下移动。根据计算得到的能带结构,在Device Studio中设置能带移动的数值,操作如下:

e8e68420-baa5-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

另外,还可以对器件的更多细节进行描述,比如栅压的位置和几何结构、氧化层材料和厚度、偏压等。

以上是本期关于Nanoskim软件器件掺杂的总体介绍,欢迎大家在鸿之微云下载试用Nanoskim软件。后续我们将推出更多功能以及案例,敬请关注!

04 功能列表

01 器件掺杂

通过移动费米能级相对导带或价带的位置,来表示器件中的掺杂。

02 支持Slater-Koster参数做输运计算

可以应用姊妹程序Nanoskif软件所提供的Slater-Koster参数进行电子输运性质的计算。

03 支持RESCU哈密顿量做输运计算

基于RESCU程序的哈密顿量,采用分区或整体的方式来构建输运体系的哈密顿量。这样可以不依赖 Slater-Koster 参数,并能更准确地考虑界面和表面的效应。

04 势场及带边

可以查看某些自洽步数中的势场输入和输出,同时可以对自洽的势场生成动画视频文件。

05 电荷密度分布

可以灵活选取电荷密度分布的类型和切面方向,支持用动画依次显示沿某个方向的所有切面的电荷密度分布。

06 投影态密度/局域态密度

可以模拟计算体系的投影态密度和局域态密度,并可以对数据进行能量展宽和光滑处理。

07 I-V曲线

程序可以自动生成一系列偏压和栅压文件夹,可快速得到电流电压的转移特性曲线和输出特性曲线。

08 电子透射谱

既可以得到有效透射谱图,又可以得到一般透射谱图。

09 电声耦合

程序可以通过添加Buttiker虚拟导线的方式实现电声耦合下的输运计算。






审核编辑:刘清

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 纳米器件
    +关注

    关注

    0

    文章

    19

    浏览量

    7881

原文标题:产品与技术丨Nanoskim功能介绍—器件掺杂

文章出处:【微信号:hzwtech,微信公众号:鸿之微】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    关于HFSS软件的使用介绍

    关于HFSS软件的使用介绍HFSS软件的使用关键有两点:激励施加和边界设定,都在一个窗口下完成 务必楚wave port terminal port的区别以及三根line的区别,合理施
    发表于 12-22 17:14

    基于FPGA的通用网络下载器总体设计思路介绍

    摘要 网络下载器作为航天计算机地面检测系统的重要组成部分,发挥着重要的作用。文中主要介绍了网络下栽器的总体设计思路,给出了硬件模块的设计原理图。并在PCB设计中,对于LVDS接口、高速总线以及叠层
    发表于 07-01 08:17

    STM32F429 FLASH总体介绍

    一、STM32F429 FLASH总体介绍双bank架构,容量高达2 Mbytes,支持read-while-write边读边写(RWW)支持128位宽的数据读取Byte、half-word
    发表于 08-12 08:02

    路由器总体介绍

    课程介绍. . . . . . . . . . . 1课程目标. . . . . . . 1相关资料. . . . . . . 1第一节 路由器总体介绍.. 21.1 常见网络设备. 21.2 路由器的概念. 31.3 路由器的
    发表于 06-24 16:43 6次下载

    掺杂荧光染料的高亮度有机蓝光电致发光器件

             利用蓝色发光材料DPVBi掺杂高荧光染料rubrene做发光层制备了蓝色发光器件。在掺杂浓度为1.5%(wt)左右的情况下,当改变
    发表于 09-15 10:00 15次下载

    WCDMA基本信令流程总体介绍

    WCDMA基本信令流程总体介绍 接下来我们对基本的信令流程进行简单的总体介绍。我们首先看一下用户在不移动
    发表于 10-12 19:33 2586次阅读

    TD-LTE规模试验网总体方案介绍

    本文是关于TD-LTE规模试验网总体方案的介绍 。。
    发表于 11-01 17:50 53次下载
    TD-LTE规模试验网<b class='flag-5'>总体</b>方案<b class='flag-5'>介绍</b>

    ALTERA公司器件介绍汇总

    本资料是关于Altera公司基本器件的主要介绍(主要特性、优势、适用配置器件、型号、引脚、下载电缆、软件等) 目 录 1、 MAX7000系
    发表于 08-15 14:58 60次下载
    ALTERA公司<b class='flag-5'>器件</b><b class='flag-5'>介绍</b>汇总

    关于MOS器件的发展与挑战分析介绍

    随着MOS器件的特征尺寸不断缩小到90nm及以下时,短沟道效应中的器件亚阈值电流成为妨碍工艺进一步发展的主要因素,尽管提高沟道掺杂浓度可以在一定程度上抑制短沟道效应,然而高掺杂的沟道会
    的头像 发表于 09-06 08:47 9008次阅读
    <b class='flag-5'>关于</b>MOS<b class='flag-5'>器件</b>的发展与挑战分析<b class='flag-5'>介绍</b>

    简析金掺杂碲镉汞红外探测材料及器件技术

    摘要:采用金掺杂替代作为深能级缺陷中心的汞空位,可明显提高P型碲镉汞材料少子寿命,进而降低以金掺杂P型材料为吸收层n-on-p型碲镉汞器件的暗电流,明显提升了n-on-p型碲镉汞器件
    的头像 发表于 06-24 16:12 3528次阅读
    简析金<b class='flag-5'>掺杂</b>碲镉汞红外探测材料及<b class='flag-5'>器件</b>技术

    外延层的掺杂浓度对SiC功率器件的重要性

    控制外延层的掺杂类型和浓度对 SiC 功率器件的性能至关重要,它直接决定了后续器件的比导通电阻,阻断电压等重要的电学参数。
    的头像 发表于 04-11 13:44 5698次阅读

    Device Studio之Nanoskim应用实例介绍

    Nanoskim 即 Nanostructure Slater-Koster Integrals Manifesting package ,是一款基于Slater-Koster紧束缚势场的量子输运仿真软件,可以从原子层级来构建纳米器件
    的头像 发表于 07-27 15:35 797次阅读

    Nanodcal半导体器件:计算n型掺杂NiSi2-Si器件的输运特性

    Nanodcal软件通过虚晶近似(Virtual Crystal Approximation,VCA)的方法实现半导体的n型或者p型掺杂。为了确保Si在中心区域的长度大于耗尽层的宽度,选用一个较长的n型掺杂NiSi2-Si
    的头像 发表于 09-07 16:38 2089次阅读

    基于NPB的未掺杂高效蓝色有机电致发光器件

    电子发烧友网站提供《基于NPB的未掺杂高效蓝色有机电致发光器件.pdf》资料免费下载
    发表于 10-09 15:37 0次下载
    基于NPB的未<b class='flag-5'>掺杂</b>高效蓝色有机电致发光<b class='flag-5'>器件</b>

    浅析硅中Sb掺杂和P掺杂的位错影响

    掺锑和掺磷硅单晶是两种不同的半导体材料,它们的物理特性受到掺杂剂类型的影响。
    的头像 发表于 04-09 09:41 436次阅读
    浅析硅中Sb<b class='flag-5'>掺杂</b>和P<b class='flag-5'>掺杂</b>的位错影响