0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻技术再次升级了

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2023-06-01 10:12 次阅读

最近,美国对中国尖端科学技术的镇压越来越明显,其中半导体芯片领域是重点镇压对象。在这种情况下,中国为了半导体产业的成长,应该继续确保核心技术。本文将从美国对中国尖端技术的压迫、荷兰和中国的光板出口、以及中国自身掌握核心技术等三个方面进行讨论。

美国一直将中国视为本国的战略竞争对手,加大对中国的施压已成为一项长期战略。在高科技领域,美国对中国的镇压尤为明显,而半导体芯片领域是更重点的压迫对象。

中国在半导体芯片制造方面仍落后于美国。早在上世纪60年代,美国就开始占据世界半导体市场的绝对主导地位。随着技术的不断发展,半导体芯片的制造越来越精细化。从最初的65纳米工程到现在的7纳米技术开发,美国一直处于领先地位。

光刻技术是芯片制造中不可缺少的一部分,它可以将光通过透镜系统投射到硅片上,投影出的光形成芯片的基本结构。光角机械设备是半导体芯片制造的关键工具。美国利用光加工技术的优势,加大对中国半导体芯片制造产业的施压力度,试图压制中国半导体产业的快速增长。

但是,中国的半导体芯片领域仍然具有很大的增长潜力,中国的投资和收购合并(m&a)计划也让美国感到害怕。因此,美国对中国尖端科学技术的镇压今后将持续加剧。

荷兰asml目前是光控领域的世界垄断者之一,技术和技术的出口已成为全球半导体芯片生产的核心供应链,尤其是在中国市场。但由于美国不允许荷兰向中国出口最先进的光刻技术,荷兰与中国的光板出口关系始终不稳定。

荷兰于2018年同美国和中国签署了有关***器技术出口的三方协议,但美国担心荷兰的出色技术被中国利用到防卫产业中。美国的这种担忧也有一定的道理。中国政府最近在半导体领域表现出积极的姿态是事实。

然而,2020年,荷兰asml世界最大的摄影师终于在美国的“厚道”推动下,向中国出口asml最新型号的海洋摄影师。因此,asml颠覆了荷兰的态度,占据了全世界销售额的60%等,引领着市场。这种态度变化的原因是,中国市场在asml全球业务中的重要性逐年增加,市场需求日益增加,因此asml市场价值上升,欧洲、荷兰、上市企业asml应该重新审视这个问题。

半导体芯片在现代社会已经是非常基础的技术,涉及网络通信、金融、医疗等很多领域。在这种情况下,掌握芯片核心技术是一件非常重要的事情。目前,中国已经在半导体芯片生产领域取得重大突破,但要继续努力保障半导体产业的发展。

与此相关,中国2014年公布了“《中国制造2025》项目”,其目标是利用本国产业的创新力量,全面提升中国制造业,该项目的重点之一是半导体芯片制造。但与美国的垄断地位相比,中国的半导体芯片产业仍面临巨大挑战。因为核心技术的不足往往会阻碍企业的发展。

因此,中国应该坚定不移地确保核心技术的独立,不让外部设备动摇。与此同时,中国还需要大力提高自主研发能力,确保自身的技术命脉,确保更多自身的知识产权和科研人才,实现科研与产业的紧密结合。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 纳米技术
    +关注

    关注

    2

    文章

    201

    浏览量

    25783
  • 光刻技术
    +关注

    关注

    1

    文章

    141

    浏览量

    15778
  • 半导体芯片
    +关注

    关注

    60

    文章

    911

    浏览量

    70506
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    纳米压印光刻技术应用在即,能否掀起芯片制造革命?

    电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造,首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知,EUV光刻机产能有限而且成本高昂,业界一直都在探索不完全依赖于EUV
    的头像 发表于 03-09 00:15 3975次阅读
    纳米压印<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>应用在即,能否掀起芯片制造革命?

    光刻胶的使用过程与原理

    本文介绍光刻胶的使用过程与原理。
    的头像 发表于 10-31 15:59 114次阅读

    光刻掩膜和光刻模具的关系

    光刻掩膜(也称为光罩)和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用,但它们的功能和应用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微纳加工技术中常用的
    的头像 发表于 10-14 14:42 161次阅读

    日本大学研发出新极紫外(EUV)光刻技术

    近日,日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)发布一项重大研究报告,宣布该校成功研发出一种突破性的极紫外(EUV)光刻技术。这一创新技术超越
    的头像 发表于 08-03 12:45 812次阅读

    光刻胶的硬烘烤技术

    根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
    的头像 发表于 07-10 13:46 556次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>胶的硬烘烤<b class='flag-5'>技术</b>

    光刻胶后烘技术

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
    的头像 发表于 07-09 16:08 1017次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>胶后烘<b class='flag-5'>技术</b>

    光刻胶的保存和老化失效

    通常要考虑光刻胶是否过期失效。接下来我们将介绍一下光刻胶保存和老化失效的基础知识。 光刻胶的保存 光刻胶对光敏感,在光照或高温条件下其性能
    的头像 发表于 07-08 14:57 654次阅读

    Hyper-NA光刻系统,价格会再次翻倍吗?

    电子发烧友网报道(文/周凯扬)随着去年年底首台高NA EUV光刻系统正式交货给英特尔,ASML这条新的产品线似乎即将开启新一轮的先进晶圆制造设备统治。可正如别的先进技术一样,ASML已经开始在规划
    的头像 发表于 06-18 00:30 2222次阅读
    Hyper-NA<b class='flag-5'>光刻</b>系统,价格会<b class='flag-5'>再次</b>翻倍吗?

    光刻33%法则是什么意思

    光刻胶的性能:光刻胶的性能对套刻精度有显著影响。它决定图形的套刻分辨率和边缘清晰度,光刻胶的收缩和厚度不均匀性都可能导致实际图案尺寸与设计尺寸之间的偏差。
    的头像 发表于 04-22 12:45 733次阅读

    升级STM32CubeMX到6.10版本,结果侧面升级和安装SDK库点击无效怎么解决?

    升级STM32CubeMX到6.10版本,结果侧面升级和安装SDK库点击无效,账户登录也点击出不来,重装6.9.2版本就都可以。
    发表于 03-08 06:27

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 3951次阅读

    基于SEM的电子束光刻技术开发及研究

    电子束光刻(e-beam lithography,EBL)是无掩膜光刻的一种,它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶(抗蚀剂)表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。
    的头像 发表于 03-04 10:19 1711次阅读
    基于SEM的电子束<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>开发及研究

    改进芯片技术的关键因素——光刻技术

    使用13.5nm波长的光进行成像的EUV光刻技术已被简历。先进的逻辑产品依赖于它,DRAM制造商已经开始大批量生产。
    发表于 12-29 15:22 759次阅读

    光刻工艺的基本步骤 ***的整体结构图

    光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中,k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度,ASML认为其物理极限在0.25,k₁体现各家晶圆厂运用光刻
    发表于 12-18 10:53 1123次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>工艺的基本步骤 ***的整体结构图

    光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?

    光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻
    发表于 11-13 18:14 1403次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>胶黏度如何测量?<b class='flag-5'>光刻</b>胶需要稀释吗?