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重磅新品||安森德自研超结(SJ)MOSFET上市

专注功率器件及模拟IC 来源:专注功率器件及模拟IC 作者:专注功率器件及模 2023-06-02 10:23 次阅读
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近年来,新能源、智能汽车、智能家居等新产业发展迅速,带动了功率器件尤其是超结(SJ)MOSFET的强劲需求。然而长期以来,超结(SJ)MOSFET市场供应被国外企业所主导,但随着全球半导体产业向我国转移,加上国产半导体品牌长期的技术积累,产品不断迭代升级,部分国产功率器件产品的性能和品质,已经可以与国外一线厂商媲美,超结(SJ)MOSFET国产化需求也将迎来发展机会。

以安森德为代表的国产半导体新锐品牌,抓住国产替代和半导体第三次产业转移的契机,坚持“理论结合实践,技术驱动创新”的发展路线,研发出核心技术自主可控的中低压MOSFET、超结(SJ)MOSFET、SIC、GaN、SIP系统级芯片等产品,可满足多场景差异化应用场景下的客户需求。联系电话:17727437826(微信同号)。

57.png

安森德历经多年的技术积累,攻克了多层外延超结(SJ)MOSFET技术,成功研发出具备自主知识产权的超结(SJ)MOSFET系列产品,涵盖 600 V、650 V、700 V、800 V 和 950 V MOSFET 电压等级,具有出色的超低导通内阻,可提高效率和易用性,同时显著降低开关和传导损耗。

01

安森德多层外延SJ MOS介绍

安森德自研新品超结(SJ) MOSFET有良好的兼容性和可靠性,且能够以高性价比满足高效率要求。

SJ MOSFET工艺比较-3.png

安森德多层外延超结(SJ)MOSFET,通过一层一层淀积硅层,并在每一层上通过离子注入形成P型掺杂,最后通过高温将每一层的P型区连接从而形成最终的P柱结构。相比Deep-Trench工艺的SJ MOS,是通过外延设备生长一层几十um的外延层,再通过深槽刻蚀设备刻出深宽比很高的沟槽,采用外延方式将沟槽填充,其过程中因深宽比要求越来越大,会导致在填充时产生一些不规则的空洞,造成芯片在长期高温工作时的可靠性下降。安森德多层外延工艺因其独特的沟槽技术,可有效避免这方面的缺陷。

02

安森德多层外延SJ MOS优势

效率高

较高的轻载、满载效率,超低的导通内阻、Qg,有效的降低导通、开关损耗。

低温升

较低的功耗,有效的降低电源整体的工作温度,延长电源的使用寿命。

稳定性强

强大的EAS 能力可以为电源抗冲击提供有效的保证,芯片的内部缺陷远小于低成本的沟槽工艺产品,其高温稳定性大大提高。

内阻低

超结MOS具有极低的内阻,在相同的芯片面积下,超结MOS芯片的内阻甚至只有传统MOS的一半以上。

体积小

在同等电压和电流要求下,超结MOS的芯片面积能做到比传统MOS更小,可以封装更小尺寸的产品。

03

安森德多层外延SJ MOS应用

超结(SJ)MOSFET被广泛应用于电子设备,且应用范围正在不断扩大,成为电子设备不可或缺的重要元器件,其主要应用于服务器电源、充电桩、新能源汽车、光伏、逆变、储能等领域。

审核编辑 黄宇

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