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9.6.8 化学机械抛光垫和化学机械修整盘∈《集成电路产业全书》

深圳市致知行科技有限公司 2022-02-28 11:20 次阅读

Chemical Mechanical Polishing Pad and Conditioning Disc

撰稿人:安集微电子科技(上海)股份有限公司 王淑敏

http://page.anjimicro.com

审稿人:浙江大学 余学功

https://www.zju.edu.cn

9.6 工艺辅助材料

第9章 集成电路专用材料

《集成电路产业全书》下册

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