以白光干涉技术为原理的光学轮廓仪能够以优于纳米级的分辨率,非接触测量样品表面形貌的光学测量仪器,用于表面形貌纹理,微观结构分析,用于测试各类表面并自动聚焦测量工件获取2D,3D表面粗糙度、轮廓等一百余项参数,广泛应用于光学,半导体,材料,精密机械等领域。
SuperViewW1光学轮廓仪除用于测量表面形貌或测量表面轮廓外,具有的测量晶圆翘曲度功能,非常适合晶圆,太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量、应变测量以及表面形貌测量。它所具有技术竞争力在于接触式和光学三维轮廓仪的结合。通过利用接触式及非接触式双模式基于技术上的优势获得获得全面的表面特性。既可以用于科学研究,也可以用于工业产品的检测。
如我国的半导体产业技术特别是芯片的研发和制造方面,与国外的高端制造还有很大的差距。目前我们能够成熟掌握的技术虽然可以做到大批量产28nm工艺的芯片;小批量生产14nm工艺芯片,但良率不高。
其中在芯片封装测试流程中,晶圆减薄和晶圆切割工艺需要测量晶圆膜厚、粗糙度、平整度(翘曲),晶圆切割槽深、槽宽、崩边形貌等参数。
SuperViewW1光学3D表面轮廓仪的X/Y方向标准行程为140*100mm,满足减薄后晶圆表面大范围多区域的粗糙度自动化检测、镭射槽深宽尺寸、镀膜台阶高等微纳米级别精度的测量。而型号为SuperViewW1-Pro 的光学3D表面轮廓仪相比 W1增大了测量范围,可完全覆盖8英寸及以下晶圆,定制版真空吸附盘,稳定固定Wafer;气浮隔振+壳体分离式设计,隔离地面震动与噪声干扰。
对wafer减薄后无图晶圆粗糙度测量封装制程中对Wafer的切割对Die的轮廓分析及蚀刻深度测量-
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