0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

找方案 | 世平安森美推出新一代GaN氮化镓/SiC碳化硅MOSFET高压隔离驱动器NCP51561 应用于高频小型化工业电源

大大通 2022-11-21 16:05 次阅读

现阶段硅元件的切换频率极限约为65~95kHz,工作频率再往上升,将会导致硅MOSFET耗损、切换损失变大;再者Qg的大小也会影响关断速度,而硅元件也无法再提升。因此开发了由两种或三种材料制成的化合物半导体GaN氮化镓和SiC碳化硅功率电晶体,虽然它们比硅更难制造及更昂贵,但也具有独特的优势和优越的特性,使得这些器件可与寿命长的硅功率LDMOS MOSFET和超结MOSFET竞争。

GaN和SiC器件在某些方面相似,可以帮助下一个产品设计做出更适合的决定。GaN氮化镓是最接近理想的半导体开关的器件,能够以非常高的效能和高功率密度来实现电源转换。其效能高于当今的硅基方案,轻松超过服务器和云端资料中心最严格的80+规范或 USB PD 外部适配器的欧盟行为准则 Tier 2标准。

由于GaN氮化镓元件在高频时,在导通与切换上仍有较佳的效能、可靠度高,也能促使周边元件尺寸进一步缩小,并提升功率密度;因此在现今电源供应器的体积被要求要越来越轻巧,且效率却不能因而降低的应用中,如电竞电脑、电信通讯设备、资料中心服务器等需要更好电源转换效率的电源供应器应用,已有GaN氮化镓功率元件开始被导入。

► 场景应用图

e5e96e6e-6865-11ed-b116-dac502259ad0.jpg

► 展示版照片

e6013dc8-6865-11ed-b116-dac502259ad0.pnge627e810-6865-11ed-b116-dac502259ad0.png

► 方案方块图

e6596fe8-6865-11ed-b116-dac502259ad0.png

► 标准线路图

e67d3982-6865-11ed-b116-dac502259ad0.png

► ANB死区时间波形

e6a2d9f8-6865-11ed-b116-dac502259ad0.png

► 死区时间 (DT vs. RDT)

e6cd8fae-6865-11ed-b116-dac502259ad0.png

► VCC欠压锁定保护波形

e6ec70c2-6865-11ed-b116-dac502259ad0.png

电流驱动能力

e79f034a-6865-11ed-b116-dac502259ad0.png

► 核心技术优势

1. 两个输出驱动器拥有独立 UVLO 保护

2. 输出电压为 6.5V 至 30V,具有 5-V、8-V 和 17-V UVLO 阈值

3. 4A峰值电流源,8A峰值电流吸收

4. 150 V/ns dV/dt 抗扰度

5. 36 ns 典型传递延迟

6. 8 ns 最大延迟匹配

7. 可编程输入逻辑

8. 通过 ANB 的单或双输入模式

9. 可编程死区时间

10. Enable功能

11. 隔离与安全

a. 从输入到每个输出的5kVRMS电流隔离和输出通道之间的1200 V峰值差分电压

b. 1200 V工作电压(根据VDE0884−11要求)

► 方案规格

1. 双低侧、双高侧或半桥驱动器

2. 输出电源电压为 6.5V 至 30V,具有 5-V、8-V 和 17-V UVLO 阈值

3. 4A峰值电流源,8A峰值电流吸收

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 驱动器
    +关注

    关注

    51

    文章

    7994

    浏览量

    144989
  • 隔离驱动
    +关注

    关注

    2

    文章

    88

    浏览量

    5645
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    碳化硅SiC) 与氮化GaN)应用 | 氮化硼高导热绝缘片

    SiCGaN被称为“宽带隙半导体”(WBG)。由于使用的生产工艺,WBG设备显示出以下优点:1.宽带隙半导体氮化GaN)和
    的头像 发表于 09-16 08:02 61次阅读
    <b class='flag-5'>碳化硅</b> (<b class='flag-5'>SiC</b>) 与<b class='flag-5'>氮化</b><b class='flag-5'>镓</b> (<b class='flag-5'>GaN</b>)应用  | <b class='flag-5'>氮化</b>硼高导热绝缘片

    碳化硅氮化哪种材料更好

    引言 碳化硅SiC)和氮化GaN)是两种具有重要应用前景的第三半导体材料。它们具有高热导
    的头像 发表于 09-02 11:19 313次阅读

    碳化硅栅极驱动器的选择标准

    利用集成负偏压来关断栅极驱动在设计电动汽车、不间断电源工业驱动器和泵等高功率应用时,系统工程师更倾向于选择碳化硅 (
    的头像 发表于 08-20 16:19 206次阅读
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>栅极<b class='flag-5'>驱动器</b>的选择标准

    安森美加速碳化硅创新,助力推进电气化转型

    在 2030 年前加速推出多款新一代碳化硅产品   中国上海 - 2024 年 7 月 19 日 - 面对不断升级的气候危机和急剧增长的全球
    发表于 07-22 11:31 143次阅读

    安森美推出新一代碳化硅技术平台EliteSiCM3e MOSFET

    。为加速达成这个全球转型目标,安森美推出了最新一代碳化硅技术平台EliteSiCM3e MOSFET,并计划将在2030年前
    的头像 发表于 07-19 10:43 455次阅读

    安森美推出新碳化硅芯片,助力AI数据中心节能

    全球半导体技术领军企业安森美(Onsemi)近日宣布,推出系列创新的碳化硅SiC)芯片。这些新型芯片的设计初衷,是借鉴其在电动汽车领域
    的头像 发表于 06-11 09:54 466次阅读

    碳化硅模块(SiC模块/MODULE)大电流下的驱动器研究

    由于碳化硅SiCMOSFET具有高频、低损耗、高耐温特性,在提升新能源汽车逆变器效率和功率密度方面具有巨大优势。对于SiC
    发表于 05-14 09:57

    英飞凌科技推出新一代碳化硅SiCMOSFET沟槽栅技术

    英飞凌科技推出新一代碳化硅SiCMOSFET沟槽栅技术,开启功率系统和能量转换的新篇章。与上一代产品相比,英飞凌全新的 CoolSiC™
    的头像 发表于 04-20 10:41 844次阅读
    英飞凌科技<b class='flag-5'>推出新一代</b><b class='flag-5'>碳化硅</b>(<b class='flag-5'>SiC</b>)<b class='flag-5'>MOSFET</b>沟槽栅技术

    安森美1200V碳化硅MOSFET M3S系列设计注意事项和使用技巧

    安森美 (onsemi) 1200V碳化硅 (SiC) MOSFET M3S系列专注于提高开关性能,相比于第一代1200V
    的头像 发表于 03-28 10:01 1095次阅读
    <b class='flag-5'>安森美</b>1200V<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b> M3S系列设计注意事项和使用技巧

    安森美发布了第二1200V碳化硅 (SiC) MOSFET—M3S

    安森美(onsemi)发布了第二1200V碳化硅 (SiC) MOSFET,命名为M3S,其中S代表开关。
    的头像 发表于 03-26 09:57 1184次阅读
    <b class='flag-5'>安森美</b>发布了第二<b class='flag-5'>代</b>1200V<b class='flag-5'>碳化硅</b> (<b class='flag-5'>SiC</b>) <b class='flag-5'>MOSFET</b>—M3S

    英飞凌推出新一代碳化硅MOSFET沟槽栅技术

    在全球电力电子领域,英飞凌科技以其卓越的技术创新能力和领先的产品质量赢得了广泛赞誉。近日,该公司宣布推出新一代碳化硅SiCMOSFET沟槽栅技术,标志着功率系统和能量转换领域迈入了
    的头像 发表于 03-12 09:53 475次阅读

    英飞凌推出新一代碳化硅技术CoolSi MOSFET G2

    在电力电子领域持续创新的英飞凌科技股份公司近日宣布,其已成功推出新一代碳化硅SiCMOSFET沟槽栅技术——CoolSiC™ MOSFET
    的头像 发表于 03-12 09:43 539次阅读

    文了解SiC碳化硅MOSFET的应用及性能优势

    共读好书 碳化硅是第三半导体产业发展的重要基础材料,碳化硅功率器件以其优异的耐高压、耐高温、低损耗等性能,能够有效满足电力电子系统的高效率、小型化
    的头像 发表于 02-21 18:24 1116次阅读
    <b class='flag-5'>一</b>文了解<b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>MOSFET</b>的应用及性能优势

    碳化硅氮化哪个好

    碳化硅氮化的区别  碳化硅SiC)和氮化
    的头像 发表于 12-08 11:28 1665次阅读

    氮化GaN)和碳化硅SiC)等宽带隙半导体器件用作电子开关的优势

    设计出色功效的电子应用时,需要考虑使用新型高性能氮化GaN)和碳化硅SiC)技术的器件。与电子开关使用的传统硅解决
    的头像 发表于 10-12 16:18 2189次阅读
    <b class='flag-5'>氮化</b><b class='flag-5'>镓</b>(<b class='flag-5'>GaN</b>)和<b class='flag-5'>碳化硅</b>(<b class='flag-5'>SiC</b>)等宽带隙半导体器件用作电子开关的优势