一、第三代半导体介绍:
首先简单介绍一下第一、二代半导体。在半导体材料领域中,第一代半导体是「硅」(Si),第二代半导体是「砷化镓」(GaAs),第三代半导体(又称「宽能隙半导体」,WBG)则是「碳化硅」(SiC)和「氮化镓」(GaN)。
宽能隙半导体中的「能隙」(Energy Gap),以白话方式说明,便是代表着(一个单位能量的差距),意思就是让一个半导体「从绝缘到能导电所需要的最低能量」。第一和二代半导体的硅与砷化镓是属于低智隙材料,能隙数值分别为1.12 eV和1.43 eV,第三代(宽能隙)半导体的能隙数据,SiC和GaN分别达到3.2eV、3.4eV,因此当遇到高温、高压、高电流时,跟一、二代比起来,第三代半导体不会轻易从绝缘变成导电状态,特性会更稳定,能源转换也更好。
随着5G、电动车时代来临,科技产品对于高频、高速运算、高速充电的需求上升,硅与砷化镓的温度、频率、功率已几乎达到极限,难以再提升电量和速度;且一旦操作温度超过100度时,前两代产品更容易发生故障问题,因此无法应用在更严苛的环境;
再加上全球开始重视碳排放问题,因此高能效、低能耗的第三代半导体成为时代下的新宠儿。第三代半导体在高频状态下仍可以维持优异的性能和稳定度,同时拥有开关速度快、尺寸小、散热迅速等特性,当芯片面积大幅减少后,也有助于简化周边电路设计,进而减少整体模块或周边冷却系统的体积。
二、SiC_MOS特性:
第三代半导体跟一、二代比起来最大差异就在宽能隙的特性,所以商品化的元件特性也都是环绕此特性,接下来说明一下SiC_MOS在应用上需要注意之特性。
SiC_MOS因为宽能隙,所以特别适合高压产品&高压应用,商品化元件也多在600V以上之应用。但也因为宽能隙特性,驱动所需要的能量较高,一般常见为Vgs驱动电压多落在15~20V,比传统Si MOSFET要高许多。但也因为宽能隙特性,耐压能力强,器件可以做得更小、更薄,也不容易崩溃,且在做得更小、更薄之下,理论SiC MOSFET的相同电压等级下之导通阻抗,仍会比Si MOSFET低。
另外特别说明SiC_MOS驱动电压目前业界有不同的标准,最佳驱动电压大约落在15~20V之间,也有个别厂商或产品需要负电压来做关断,且负电压所需规格也不尽相同,在使用上需特别注意此一特性。
SiC材料因为宽能隙特性,所以单位电压较高,本体二极管的顺向特性Vf比Si MOSFET较大。但是SiC材料电子飘移率高,所以本体二极管的反应速度比较快,Trr特性较传统Si MOSFET好很多,与Si-MOSFET相比可大幅降低恢复损耗。另外Si MOSFET器件的等效电容较大,可能限制其开关频率在100kHz左右;而SiC MOSFET的工作频率可以提升到200kHz以上,甚至达到数MHz。
三、安森美SiC_MOS系列产品:
安森美半导体,陆续推出一系列新的碳化硅SiC MOSFET装置,适用于对于功率密度、能效和可靠性要求极高的相关应用。设计人员可以用新的SiC装置取代现有的硅开关技术,将在电动汽车(EV)车载充电器(OBC)、太阳能逆变器、服务器电源(PSU)、电信和不断电供应系统(UPS)等不同应用中实现显著的更佳性能。以下列出安森美半导体SiC MOS相关产品,陆续有新产品推出,最新资讯可以随时注意官网信息:
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