在此前的两期推文中
我们为大家介绍了两款钨灯丝扫描电镜
“重新定义钨灯丝扫描电镜”的SEM3300
和“操作不挑人,简约不简单”的SEM2000
今天,针对有分析型需求的用户
超大束流,超快分析的
场发射扫描电镜SEM4000
场发射扫描电镜SEM4000
SEM4000超大束流,超快分析
熟悉国仪的朋友们都知道
我们已经有了一款主打低电压高分辨的场发射电镜SEM5000
那么SEM4000有什么不同?有什么新的特点?
场发射扫描电镜SEM4000
那就是电子束流大,分析速度快!
非常适合有分析型需求的用户
SEM4000有着最大超过200 nA的电子束流
而且束流大小连续可调!
大束流可以带来很多好处
例如:相同信噪比情况下更快的成像速度、更大的能谱计数、更强的波谱仪信号
束流连续可调,有利于选择最合适的成像和能谱条件
SEM4000实拍见真章
下方展示的是使用SEM4000拍摄的高、低真空样品图片
枫香花粉在低真空模式下形貌保持良好,表面细节丰富、整体层次分明;
SEM4000电子束流大,背散射像下原子序数相近材料的成分衬度差异明显(PA-玻纤复合材料);
应用高亮度的热场发射电子源,SEM4000可以获得高分辨图片(金刚石涂层)
枫香花粉
PA-玻纤复合材料金刚石涂层
SEM4000技术解读
SEM4000是如何同时做到大束流和束流连续可调?
国仪量子电镜研发团队
采用了束流控制透镜+像方束张角控制透镜的方案
也就是先用一个透镜,控制电子源方向的束张角,从而获得连续可调的电子束流(图a)
图a
然后再用第二个透镜,控制像方束张角(图b)
图b
从而实现不同束流下的最佳分辨率和景深
使得绝大多数工况下成像质量最优!
如果您需要用到分析功能
并且追求更高、更快的分析效率
那么场发射扫描电镜SEM4000
一定是您的最佳拍档!
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