VT6000共聚焦显微镜的构造组成主要包括:显微镜、激光光源、扫描装置、检测器、计算机系统(包括数据采集,处理,转换,应用软件)、图像输出设备、光学装置和共聚焦系统。

以共聚焦技术为原理,用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量的VT6000共聚焦显微镜,可对材料样品的表面形貌直接进行成像,横向分辨率可达1nm,Z轴分辨率可达0.5nm。不仅可对样品表面形貌进行测量,提供表征微观形貌的轮廓尺寸测量功能,还提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。
其中粗糙度分析包括依据标准的ISO4287的线粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全参数分析功能;几何轮廓分析包括台阶高、距离、角度、曲率等特征测量和直线度、圆度形位公差评定等功能;结构分析包括孔洞体积和波谷深度等;频率分析包括纹理方向和频谱分析等功能;功能分析包括SK参数和体积参数等功能。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
测量
+关注
关注
10文章
5761浏览量
117066 -
显微镜
+关注
关注
0文章
786浏览量
25643
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
共聚焦显微镜技术原理与工业应用
共聚焦显微镜作为一种高分辨率非接触测量工具,正在改变精密检测标准。传统光学显微镜难以获得清晰三维结构,而现代工业生产要求对表面形貌进行精细分析,面临检测精度不足的痛点。光子湾共焦
共聚焦 vs 传统显微镜,从原理到工业应用解析
在现代科研与工业生产中,显微镜是探索微观世界的核心工具。共聚焦显微镜作为光学显微镜家族的高端技术成果,凭借高分辨率、非接触式测量等特性,成为半导体制造、精密加工等领域的关键检测设备。光
共聚焦显微镜的技术原理与扫描方式详解
共聚焦显微镜作为半导体、材料科学等领域的重要观测工具,凭借其超高分辨率和三维成像技术,突破了传统宽视野显微镜的成像局限,能够清晰呈现样品的三维微观结构。下文,光子湾科技将系统解析
共聚焦显微镜的自动聚焦与漂移补偿系统
共聚焦显微镜是一种高精度的光学成像设备,广泛应用于半导体、材料科学等领域。成像质量高度依赖于焦平面的准确性,传统手动调焦方式主观性强、效率低,且在长时间成像过程中,外界振动、温度变化等因素容易导致
激光共聚焦显微镜与光谱共聚焦传感器的区别
在光学检测领域,激光共聚焦显微镜与光谱共聚焦传感器均以“共聚焦”技术为核心,但二者的功能定位、工作原理及应用场景差异显著。前者侧重高分辨率成像,后者专注精准距离与轮廓测量。下文,光子湾科技将从
共聚焦显微镜与光片显微镜的区别
在精密制造、半导体检测等领域中,显微镜技术起到至关重要的作用。共聚焦显微镜和光片显微镜作为两种重要的光学成像技术,因其各自独特的原理和性能,在工业检测与研究中发挥着不同的作用。下文,光
共聚焦显微镜VS激光共聚焦显微镜的技术对比
在微观成像与样品表征领域,共聚焦显微镜(ConfocalMicroscope)和激光共聚焦显微镜(CLSM)凭借共焦成像的核心原理,成为材料科学、半导体等多学科研究的关键工具。二者虽共享基础工作原理
激光扫描共聚焦显微镜与转盘共聚焦显微镜的区别
共聚焦显微技术是现代科学研究的重要成像工具,主要通过引入共轭针孔滤除非焦平面杂散光,实现优异的光学切片能力和三维分辨率。其主流技术路径分为激光扫描共聚焦显微镜(LSCM)与转盘
共聚焦显微镜和传统显微镜有什么区别
在现代显微成像技术中,共聚焦显微镜(LSCM)与传统光学显微镜代表了两种不同层次的成像理念与技术路径。它们在成像原理、分辨能力、应用场景及操作要求等方面存在根本性区别。下文,光子湾科技
共聚焦显微镜在高分子材料研究中的应用
共聚焦显微镜作为一种深层形态结构分析的重要工具,具备无损、快速、三维成像等优势,广泛应用于高分子材料的多组分体系、颗粒、薄膜、自组装结构等研究。下文,光子湾科技系统介绍其工作原理与在高
共聚焦显微镜(LSCM)的关键参数解析
共聚焦显微镜作为一种高分辨率三维成像工具,已在半导体、材料科学等领域广泛应用。凭借其精准的光学切片与三维重建功能,研究人员能够获取纳米尺度结构的高清图像。下文,光子湾科技将系统解析共聚焦
共聚焦显微镜(LSCM)的针孔效应
,构建照明与探测光路的共轭关系,从而获取高分辨率三维结构信息。该优势在光子湾科技共聚焦显微镜的三维成像与高精度检测解决方案中,得到充分体现与验证,在材料科学、半导体等
共聚焦显微镜的结构
评论