0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

日本光刻胶巨头JSR同意国家收购

半导体产业纵横 来源:半导体产业纵横 2023-06-27 15:51 次阅读

本文由半导体产业纵横(ID:ICVIEWS)综合

JSR 是全球仅有的四家 EUV 光刻胶供应商之一,其产品是制造先进芯片必不可少的原料。

日本光刻胶巨头JSR同意由日本国家支持的基金以约 9,090 亿日元(合 64 亿美元)的价格收购,此举标志着日本政府深化对芯片行业的投资。

JIC是日本政府于2014年成立的一家投资公司,旨在通过投资国内外的优秀企业和项目,促进日本经济增长和创新。JIC拥有约2.7万亿日元(约合1.35万亿元人民币)的资金规模,是亚洲最大的投资公司之一。JIC曾经参与了多个重大投资项目,例如收购了东芝存储器(现为Kioxia)的51%股份,以及与美国高通合作建立了一家5G芯片设计公司。

日前,JIC在一份声明中概述了收购日本光刻胶巨头JSR的计划,预计在今年12月底发起要约收购。JSR首席执行官埃里克·约翰逊(Eric Johnson)是罕见的非日本出生的日本公司负责人,他称自己的目标是在5~7年内让JSR重新上市。

目前,全球光刻胶市场由日本和德国的几家企业垄断,其中最大的两家分别是JSR和东曹。

JSR成立于1957年,起初是一家由日本政府支持的合成橡胶制造商。如今,JSR向全球芯片制造商供应光刻胶,其全球市占率高达30%至40%,客户包括三星、台积电、英特尔等。为收购JSR,JIC计划成立一家注册资本达5000亿日元(约251亿元人民币)的新公司,瑞穗金融集团旗下的瑞穗银行将提供4000亿日元(约200.8亿元人民币)融资。此外,JIC还计划通过优先股和多家银行承销的次级贷款筹集1000亿日元(约50.2亿元人民币)。日本经济产业省今年4月曾表示,其目标是到2030年将日本制造的半导体销售额增加一倍,达到15万亿日元(约7530亿元人民币)。

JIC收购JSR的主要原因

JIC之所以想要收购JSR,主要有两个原因。一是为了保护日本在光刻胶领域的技术优势和市场份额,防止被其他国家或企业超越或侵占。二是为了支持日本的半导体产业发展,提供更高质量和更稳定供应的光刻胶产品,满足不断增长的市场需求。

对于中国的半导体产业来说,JIC收购JSR可能会带来一些挑战和机遇。挑战在于,中国目前还没有自主研发和生产光刻胶的能力,主要依赖进口。如果JIC收购JSR后对中国市场采取限制或歧视性措施,可能会影响中国芯片厂商的生产计划和成本。机遇在于,中国可以借此契机加快自主研发和生产光刻胶的步伐,打破外国垄断,提升自身在半导体产业链中的地位和话语权。

谈判由JSR发起,日本政府不会干预公司管理

一位匿名的日本工业部官员称,JSR已就潜在支持事宜与JIC进行了接触,JSR需要大力投资于产能和先进芯片制造材料的开发。

“我们从JSR管理层感受到了强烈的危机感,担心日本芯片材料行业最终将输给海外竞争对手。”JIC私募股权基金CEO Shogo Ikeuchi在接受外媒采访时表示,“他们的想法与我们基金的目的完全一致,即促进行业整合。”

尽管日本政府在拯救陷入困境的工业企业方面有着长期且复杂的记录,但收购一家已经进行重组的盈利公司之举可能会因潜在的过度干预行为而招致批评。

JIC去年11月表示已将收购基金规模扩大4.5倍,达到9000亿日元。来自Quiddity Advisors的Travis Lundy在Smartkarma的一份报告中写道:“JIC就是从这里开始的。如果他们就此停止,我会感到非常惊讶。”

日本经济产业省的一名官员称,日本政府不会干预上市公司的管理,并指出此次收购交易的谈判是由JSR发起的。

JSR董事会在支持JIC收购要约的声明中表示,该交易将有助于该公司加快投资,增强国内半导体行业的全球竞争力,并加速向欧洲、美国和亚洲的业务扩张。

日本政府在芯片行业采取的举措正值各国加大国内生产力度之际,其中欧盟和美国等国家都向该国半导体行业投入了大量资金。

哪些公司正在投资日本?

台积电去年11月宣布,计划斥资70亿美元在日本九州岛建设一座芯片工厂,预计于2024年开始生产12纳米和16纳米芯片。索尼集团和汽车零部件制造商电装也是投资者,该公司将使用台积电生产的芯片。

美国内存芯片制造商美光科技5月份表示,计划在日本政府的支持下,未来几年在极紫外技术(EUV)上投资高达5000亿日元(35亿美元)。该公司表示,它将成为第一家将 EUV 技术引入日本进行生产的芯片制造商。

今年3月,三星电子表示正在考虑在其现有的横滨研发中心附近建立其在日本的第一条芯片封装测试线。

日本政府支持的 Rapidus今年 2 月表示,将在日本北部岛屿北海道的制造中心千岁建立一家芯片工厂。Rapidus与IBM合作开发和生产尖端 2 纳米芯片,计划于 2025 年推出原型生产线。





审核编辑:刘清

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1147

    浏览量

    47249
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    604

    浏览量

    85967
  • EUV光刻机
    +关注

    关注

    2

    文章

    128

    浏览量

    15094

原文标题:日本光刻胶巨头JSR同意国家收购

文章出处:【微信号:ICViews,微信公众号:半导体产业纵横】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

    共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
    的头像 发表于 11-01 11:08 237次阅读

    光刻胶的使用过程与原理

    本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
    的头像 发表于 10-31 15:59 207次阅读

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶

    在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用烘台或者烤设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8
    的头像 发表于 08-27 15:54 194次阅读

    导致光刻胶变色的原因有哪些?

    存储时间 正和图形反转在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程
    的头像 发表于 07-11 16:07 452次阅读

    光刻胶的硬烘烤技术

    根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
    的头像 发表于 07-10 13:46 705次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的硬烘烤技术

    光刻胶后烘技术

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
    的头像 发表于 07-09 16:08 1153次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>后烘技术

    光刻胶的图形反转工艺

    图形反转是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正使用又可以作为负使用。相比而言,负工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负
    的头像 发表于 07-09 16:06 511次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的图形反转工艺

    光刻胶的保存和老化失效

    我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在
    的头像 发表于 07-08 14:57 779次阅读

    在被超60亿美元收购后,日本光刻胶巨头JSR寻求扩大规模

    在被超60亿美元收购后,日本光刻胶巨头JSR积极寻求扩大规模,以适应全球芯片制造行业的快速发展。
    的头像 发表于 04-29 14:37 701次阅读

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
    的头像 发表于 03-20 11:36 2361次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    光刻胶光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4457次阅读

    光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
    发表于 01-03 18:12 1194次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>分类与市场结构

    速度影响光刻胶的哪些性质?

    光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀中至关重要的参数,那么我们在匀时,是如何确定匀速度呢?它影响
    的头像 发表于 12-15 09:35 1831次阅读
    匀<b class='flag-5'>胶</b>速度影响<b class='flag-5'>光刻胶</b>的哪些性质?

    光刻胶价格上涨,韩国半导体公司压力增大

    光刻胶类别的多样化,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学及东进半导体等大型制造
    的头像 发表于 12-14 15:20 1053次阅读

    韩国SKMP开发出高厚度KrF光刻胶,可助力3D NAND闪存制造

     据悉,skmp开发的新型KrF光刻胶的厚度为14至15米,与东进半导体(DONGJIN SEMICHEM)向三星提供的产品相似。日本jsr公司的类似产品厚度只有10微米。
    的头像 发表于 11-29 10:02 933次阅读