重大突破!我国实现12英寸二维半导体晶圆规模化制备技术
我国在二维半导体领域实现重大突破!
近日，来自松山湖材料实验室/北京大学教授刘开辉、中国科学院院士王恩哥团队，以及松山湖材料实验室/中国科学院物理研究所研究员张广宇团队的最新研究成果在Science Bulletin(科学通报)在线发表。该研究题为《模块化局域元素供应技术批量制备12英寸过渡金属硫族化合物》。
Science Bulletin是由中科院、国自然基金委、Elsevier联合出版的自然科学综合性期刊，其前身是Chinese Science Bulletin。
论文表示，该团队采用局域元素供应技术，成功地将过渡金属硫族化合物晶圆尺寸从2英寸扩展至与现代半导体材料接轨的12英寸，并通过垂直堆叠多个模块层的策略，成功实现其大规模批量化生产的能力。
随着晶体管尺寸接近其物理极限，摩尔定律步伐减缓，半导体产业发展亟需探索新型材料。
二维半导体材料由于其本身物理结构优势及电学性质特点，在半导体的发展中具有巨大潜力。
与传统半导体类似，二维半导体的低成本、大规模、批量制备是其产业化应用所面临的难题。该研究成果为实现二维半导体规模化制备提供了新的技术方案，有望推动二维半导体材料从实验研究向产业应用过渡。
审核编辑 黄宇
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
半导体
+关注
关注
334文章
27290浏览量
218093 -
晶圆
+关注
关注
52文章
4890浏览量
127933
发布评论请先 登录
相关推荐
天域半导体8英寸SiC晶圆制备与外延应用
，但是行业龙头企业已经开始研发基于8英寸SiC晶圆的下一代器件和芯片。 近日，广东天域半导体股份有限公司丁雄杰博士团队联合广州南砂晶圆半导体
碳化硅衬底，进化到12英寸！
人没想到的是，在8英寸碳化硅还远未大规模落地时，12英寸碳化硅衬底就已经悄然面世。 天岳先进发布300mm 碳化硅衬底 在上周的德国慕尼黑半
三菱电机供应12英寸功率半导体芯片
三菱电机集团近日宣布，其功率器件制作所（Power Device Works）福山工厂即日起开始大规模供应采用12英寸硅（Si）晶圆制造的功率半导体
半导体研究所在量子点异质外延技术上取得重大突破
材料的制备和以其为基础的新型信息器件是信息科技前沿研究的热点。 近期，在中国科学院半导体研究所王占国院士的指导下，刘峰奇研究员团队等在量子点异质外延的研究方面取得重要进展。研究团队以二维材料为外延衬底，基于分子束外延
芯丰精密第二台12寸超精密晶圆减薄机成功交付
近日，武汉芯丰精密科技有限公司宣布，其自主研发的第二台12寸超精密晶圆减薄机已成功交付客户。这一里程碑事件标志着芯丰精密在高端晶圆减薄
功率氮化镓进入12英寸时代！
等第三代半导体而言，它们还有提升空间。 就在9月11日，英飞凌宣布率先开发出全球首项300 mm（12英寸）氮化镓功率半导体晶圆
又一企业官宣已成功制备8英寸SiC晶圆
近日，日本碍子株式会(NGK，下文简称日本碍子)在其官网宣布，已成功制备出直径为8英寸的SiC晶圆，并表示公司将于本月低在美国ICSCRM 2024展示8英寸SiC
信越化学推出12英寸GaN晶圆，加速半导体技术创新
日本半导体材料巨头信越化学近日宣布了一项重大技术突破，成功研发并制造出专用于氮化镓（GaN）外延生长的300毫米（即12
晶盛机电减薄机实现12英寸30μm超薄晶圆稳定加工
近日，国内领先的半导体设备制造商晶盛机电传来振奋人心的消息，其自主研发的新型WGP12T减薄抛光设备成功攻克了12英寸
增芯科技12英寸晶圆制造项目投产启动，内含国内首条12英寸MEMS智能传感器晶圆生产线
| 项目一期产能预计2025年底达到2万片／月 2024年6月28日，增芯科技12英寸晶圆制造项目在广州增城投产启动，该项目建设有国内首条、全球第二条的
发表于 07-02 14:28
•548次阅读
二维材料 ALD 的晶圆级集成变化
来源:《半导体芯科技》杂志文章 在晶圆级集成 ALD 生长的二维材料，需要克服先进工艺开发的挑战。 作者：Friedrich Witek，德国森泰科仪器（SENTECH Instruments）公司
据新华社等多家媒体报道！畅能达科技实现散热技术重大突破！
射频和功率半导体产业。
近日，我国散热技术实现重大突破 ，由 **广东畅能达科技发展有限公司 **自主研发的高热流密度散热相变封装基板，其散
发表于 05-29 14:39
东芝12英寸功率半导体厂完工，预计2024年下半年量产
日本东芝电子元件及存储装置株式会社（TOSHIBA）近日宣布，其12英寸晶圆功率半导体制造工厂及办公大楼建设已全面完成。目前，该工厂正忙于安装相关生产设备，预计将在2024财年的下半年
北方华创国产12英寸HDPCVD设备进入客户生产线
北方华创最近研发出了一款12英寸高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）设备，名为Orion Proxima，并已正式进入客户端验证阶段。这一创新标志着北方华创在绝缘介质填充工艺技术上取得了
工商网监
评论