电弧离子镀技术是什么？

电弧离子镀是一种高能沉积工艺。基体为阳极，电弧靶为阴极。基于阴极真空电弧放电原理进行镀膜。

镀膜时，电弧针在磁场的作用下移动到靶面，使周围的气体分子电离并点燃电弧源，阴极靶面上出现大量的阴极弧斑，这些弧斑在靶面上迅速进行不规则地移动，并引起电弧靶燃烧，使阴极靶表面蒸发并发生电离，从而产生大量金属正离子。

这些金属离子一方面维持着电弧靶的电弧放电，另一方面在负偏压作用下，它们直接沉积在基底上或与其他离子结合沉积在基底上。

在电弧离子镀中，由于电弧等离子体是从靶材中发射并电离的致密金属物质，具有装置结构简单、金属电离率高、膜基结合力强、沉积离子能量高等优点。

然而，电弧离子镀存在着基体负偏压大、粒子携带能量大、镀层应力大、对基体材料有一定损伤等缺点。

除此之外，比较大的问题是在实验过程中会有大量的金属液滴沉积在薄膜表面，这些大液滴有的只是简单的附着在薄膜表面，有的则会穿透整个膜表层，从而增加了膜层的表面粗糙度，产生了内部缺陷，进而影响薄膜的光学性能。

这些金属液滴形成的主要原因是在沉积薄膜时，电弧放电所产生的局部高温会在靶材表面产生一些微小的熔池，熔出大液滴并沉积在基底上。一般来说，在多弧离子镀设备中，真空度、负偏压、温度和蒸发距离等都是影响薄膜生长的关键因素。

随着科学技术的进步和高端制造业的发展，电弧离子镀技术取得了很大的进步，可以制备出结构和性能更好的薄膜。

在机器视觉和半导体设备、3D成像和打印、太阳能和光伏发电、生命科学和医疗等产品的研发过程中，我们经常需要一些比较精密的LED光源，目前市场上主要是LED+导光板的简单形状组合，在过去的时代尚能使用，在AI时代，达到光学精度级别的光源才能满足您的需求。

以下是为您推出的一些精密的光学精度的光源系列产品：LumiPro3D

(工业和商业)

具有广阔的景深和高分辨率成像 (NA0.11, f/4.5)，可在455-460nm的尺寸下进行脉冲操作。这款带有伪随机点云网纹可用于立体视觉的强大图案投影仪是满足您3D扫描需求的解决方案。

Lumi3D

(工业和商业)

具有25-32W的紫外线功率。 单个照明器的多光谱输出，可快速断开连接，实现无溢出耦合。专为DLP9000设计, 包装中含有专用驱动器/控制器。

LumiBright

(医药和生命科学，工业和商业)

具有非成像光学器件，可将 LED阵列发出的光线引导至所需的锥角，具有高度均匀的照明。光功率高达 30W / 4000 流明，范围从紫外光到近红外光。

LumiFiber

(医药和生命科学，工业和商业)

具有强而稳定的光功率，是光纤应用的理想选择。 支持最大2mm的光纤束。 高达25W的紫外光至近红外光。专为SMA905连接器或对接连接器而设计。

LumiBlaze

(工业和商业)

定制镜头具有多种波长选择，具有高均匀性和高亮度的特点，适合在光线充足的地方使用。操作模式包括CW、PWM 模式和脉冲模式。

LumiBlazeR

(工业和商业)

具有多个领域可更换的精密标线选项与标准或自定义模式，专为1英寸C型镜头设计，能进行高强度的长距离工作，操作模式包括CW、PWM 模式和脉冲模式。

LumiFlood & LumiLine

(工业和商业)

具有高度均匀的输出、紧凑而坚固的设计适用于紫外线固化和其他可见应用。50x50mm，工作距离为27mm。

LumiPro

(医药和生命科学)

具有可调节焦距和集成滤光片选项。可在一个单元中应用单波长或多波长。可单独寻址的波长。

LumiXP

(微电子与半导体)

具有高均匀性和高功率的特点，可实现快速生产。用于接触式曝光系统。在一个单元内可混合使用各种波长。金属模具可单独寻址。

LumiDL

(微电子和半导体，工业和商业)

具有高辐射功率(>30W)的特点，可从单个照明器输出多波长。具有快速断开的无泄漏接头。DLP9500和DLP7000在DMD上能高均匀度输出。

LumiSpectra

(医药和生命科学，工业和商业)

具有两种不同的选择：透镜和光纤(最大6mm)。 辐射功率输出>0.30mW/(nm-mm2- sr)连续光谱为400nm-990nm，可扩展至 1700nm。

LumiSunTM-50

(太阳能和光伏发电)

具有符合 IEC AAA 级标准且输出光谱可调节的特点。采用多光谱 LED 和用户友好型的前面板 GUI，提供 0.1 至1.5 SUNS 的均匀和稳定的照明。50x50 mm。

LumiSunTM-OEM

(太阳能和光伏发电)

具有0.4 至 1.5 SUNS 的辐照度，适用于光伏电池测试和研究、光化学、生物学以及材料测试。不含汞和臭氧，可用于硅或CdTe光谱的型号。 50x50 mm。

审核编辑：汤梓红