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先进封装中硅通孔(TSV)铜互连电镀研究进展

深圳市赛姆烯金科技有限公司 来源: 科技导报 2023-09-06 11:16 次阅读

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来源:《科技导报》2023年第5期

作者:谌可馨 1,3,高丽茵 1,2*,许增光 2,李哲 1,刘志权 1,2

审核编辑:汤梓红

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原文标题:先进封装中硅通孔(TSV)铜互连电镀研究进展

文章出处:【微信号:深圳市赛姆烯金科技有限公司,微信公众号:深圳市赛姆烯金科技有限公司】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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