0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

北方华创12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产

第三代半导体产业 来源:第三代半导体产业 2023-09-20 10:09 次阅读

9月17日,北方华创在投资者互动平台表示,公司前期已经发布了首台国产12英寸CCP晶边干法刻蚀设备研发成功有关信息,目前已在客户端实现量产,其优秀的工艺均匀性、稳定性赢得客户高度评价。公司产品均为自主研发,拥有稳定的多元化供应链体系,可为客户提供可持续的设备工艺解决方案。

资料显示,北方华创致力于半导体基础产品的研发、生产、销售和技术服务,主要产品为电子工艺装备和电子元器件

在半导体工艺装备领域,北方华创的主要产品包括刻蚀、薄膜、清洗、热处理、晶体生长等核心工艺装备,广泛应用于逻辑器件、存储器件、先进封装、第三代半导体、半导体照明、微机电系统、新型显示、新能源光伏、衬底材料等工艺制造过程。北方华创借助产品种类多样、技术代和工艺覆盖广泛等优势,以产品迭代升级和成套解决方案为客户创造更大价值。

在真空及锂电装备领域,北方华创深耕高压、高温、高真空技术,研发的晶体生长设备、真空热处理设备、气氛保护热处理设备、连续式热处理设备、磁控溅射镀膜设备、多弧离子镀膜设备在材料热处理、真空电子、新能源光伏、半导体材料、磁性材料、新能源汽车等领域取得广泛应用,为新材料、新工艺、新能源等绿色制造赋能。

在精密电子元器件领域,北方华创推动元器件向小型化、轻量化、高精密方向发展,研发的石英晶体器件、石英微机电传感器、高精密电阻器钽电容器、微波组件、模拟芯片、模块电源等产品,应用于高铁、智能电网通信医疗电子、精密仪器、自动控制等领域,为客户打造高端精密电子元器件技术、产品、服务一体化的专业解决方案。

目前,北方华创已建立起覆盖全国的19个客户服务中心、4个备件调拨中心及11个备件库,形成了日益完善的客户服务体系,截至2023年上半年,北方华创累计申请专利7,200余件,累计获得授权专利4,100余件。








审核编辑:刘清

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 自动控制
    +关注

    关注

    10

    文章

    721

    浏览量

    44511
  • 热处理
    +关注

    关注

    0

    文章

    117

    浏览量

    18387
  • 钽电容器
    +关注

    关注

    0

    文章

    64

    浏览量

    17263
  • CCP
    CCP
    +关注

    关注

    0

    文章

    21

    浏览量

    11306
  • 半导体工艺
    +关注

    关注

    19

    文章

    107

    浏览量

    26382

原文标题:北方华创:12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产

文章出处:【微信号:第三代半导体产业,微信公众号:第三代半导体产业】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    盛机电:6-8 英寸碳化硅衬底实现批量出货

    快速实现市场突破,公司8英寸碳化硅外延设备和光学量测设备顺利实现销售,
    的头像 发表于 02-22 15:23 794次阅读

    干法刻蚀的概念、碳硅反应离子刻蚀以及ICP的应用

    碳化硅(SiC)作为一种高性能材料,在大功率器件、高温器件和发光二极管等领域有着广泛的应用。其中,基于等离子体的干法蚀刻在SiC的图案化及电子器件制造中起到了关键作用,本文将介绍干法刻蚀的概念、碳硅
    的头像 发表于 01-22 10:59 287次阅读
    <b class='flag-5'>干法刻蚀</b>的概念、碳硅反应离子<b class='flag-5'>刻蚀</b>以及ICP的应用

    驰机电8英寸碳化硅电阻式长炉顺利通过客户验证

    近日,驰机电开发的8英寸碳化硅(SiC)电阻式长炉顺利通过客户验证,设备稳定性和工艺稳定性均满足客户
    的头像 发表于 01-09 11:25 224次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b>驰机电8<b class='flag-5'>英寸</b>碳化硅电阻式长<b class='flag-5'>晶</b>炉顺利通过<b class='flag-5'>客户</b>验证

    干法刻蚀时侧壁为什么会弯曲

    离子轰击的不均匀性 干法刻蚀通常是物理作用和化学作用相结合的过程,其中离子轰击是重要的物理刻蚀手段。在刻蚀过程中,离子的入射角和能量分布可能不均匀. 如果离子入射角在侧壁的不同位置存在差异,那么
    的头像 发表于 12-17 11:13 422次阅读
    <b class='flag-5'>干法刻蚀</b>时侧壁为什么会弯曲

    芯片制造中的湿法刻蚀干法刻蚀

    在芯片制造过程中的各工艺站点,有很多不同的工艺名称用于除去圆上多余材料,如“清洗”、“刻蚀”、“研磨”等。如果说“清洗”工艺是把圆上多余的脏污、particle、上一站点残留物去除掉,“
    的头像 发表于 12-16 15:03 647次阅读
    芯片制造中的湿法<b class='flag-5'>刻蚀</b>和<b class='flag-5'>干法刻蚀</b>

    芯片制造过程中的两种刻蚀方法

    本文简单介绍了芯片制造过程中的两种刻蚀方法   刻蚀(Etch)是芯片制造过程中相当重要的步骤。 刻蚀主要分为干刻蚀和湿法刻蚀。 ①
    的头像 发表于 12-06 11:13 724次阅读
    芯片制造过程中的两种<b class='flag-5'>刻蚀</b>方法

    干法刻蚀侧壁弯曲的原因及解决方法

    本文介绍了干法刻蚀侧壁弯曲的原因及解决方法。 什么是侧壁弯曲? 如上图,是典型的干法刻蚀时,侧壁弯曲的样子,侧壁为凹形或凸形结构。而正常的侧壁几乎是垂直的,角度接近 90°。  什么原因导致了侧壁
    的头像 发表于 12-03 11:00 511次阅读
    <b class='flag-5'>干法刻蚀</b>侧壁弯曲的原因及解决方法

    圆表面温度对干法刻蚀的影响

    本文介绍圆表面温度对干法刻蚀的影响 表面温度对干法刻蚀的影响主要包括:聚合物沉积,选择性,光刻胶流动、产物挥发性与刻蚀速率,表面形貌等。   聚合物沉积 :工艺过程中产生的聚合物会在
    的头像 发表于 12-03 10:48 698次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b>圆表面温度对<b class='flag-5'>干法刻蚀</b>的影响

    干法刻蚀工艺的不同参数

    圆表面不同区域的温度由于加热器分布不均可能会有差异,导致局部区域刻蚀速率不同,从而影响刻蚀均匀性。 2,气体:气体化学组成,气体比例,气体流量 气体化学组成:干法刻蚀的腔室中可以选
    的头像 发表于 12-02 09:56 1009次阅读

    为什么干法刻蚀又叫低温等离子体刻蚀

    本文介绍了为什么干法刻蚀又叫低温等离子体刻蚀。 什么是低温等离子体刻蚀,除了低温难道还有高温吗?等离子体的温度?    等离子体是物质的第四态,并不是只有半导体制造或工业领域中才会有等离子体
    的头像 发表于 11-16 12:53 437次阅读
    为什么<b class='flag-5'>干法刻蚀</b>又叫低温等离子体<b class='flag-5'>刻蚀</b>

    半导体干法刻蚀技术解析

    主要介绍几种常用于工业制备的刻蚀技术,其中包括离子束刻蚀(IBE)、反应离子刻蚀(RIE)、以及后来基于高密度等离子体反应离子的电子回旋共振等离子体刻蚀(ECR)和电感耦合等离子体
    的头像 发表于 10-18 15:20 1039次阅读
    半导体<b class='flag-5'>干法刻蚀</b>技术解析

    半导体芯片制造技术之干法刻蚀工艺详解

    今天我们要一起揭开一个隐藏在现代电子设备背后的高科技秘密——干法刻蚀工艺。这不仅是一场对微观世界的深入探秘,更是一次对半导体芯片制造艺术的奇妙之旅。
    的头像 发表于 08-26 10:13 1948次阅读
    半导体芯片制造技术之<b class='flag-5'>干法刻蚀</b>工艺详解

    等离子刻蚀ICP和CCP优势介绍

    刻蚀可以分为湿法刻蚀干法刻蚀。湿法刻蚀各向异性较差,侧壁容易产生横向刻蚀造成刻蚀偏差,通常用于
    的头像 发表于 04-12 11:41 5900次阅读
    等离子<b class='flag-5'>刻蚀</b>ICP和<b class='flag-5'>CCP</b>优势介绍

    北方微电子获新专利:半导体腔室设备简化调平步骤

    近日,北京北方创新型微电子旗下的子公司——北京北方微电子装备有限公司,成功获得一项名为“半导体腔室及
    的头像 发表于 04-03 09:58 724次阅读
    <b class='flag-5'>北方</b><b class='flag-5'>华</b><b class='flag-5'>创</b>微电子获新专利:半导体腔室<b class='flag-5'>设备</b>简化调平步骤

    北方国产12英寸HDPCVD设备进入客户生产线

    来源:北方 近日,由北方自主研发的12
    的头像 发表于 03-25 17:30 518次阅读
    <b class='flag-5'>北方</b><b class='flag-5'>华</b><b class='flag-5'>创</b>国产<b class='flag-5'>12</b><b class='flag-5'>英寸</b>HDPCVD<b class='flag-5'>设备</b>进入<b class='flag-5'>客户</b>生产线