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美光印度建厂迎新进展

晶扬电子 来源:晶扬电子 2023-09-25 17:28 次阅读

印度媒体消息,美国存储器芯片大厂美光在印度的首座工厂于9月23日举行破土仪式。

印度电子与资讯科技部长Ashwini Vaishnaw出席了该仪式,并对外表示该工厂将很快完工,预计2024年12月开始生产印度首批本土芯片。

此前6月,美光已与印度签署谅解备忘录,将在印度古吉拉特邦建立半导体工厂,为其首座在印度的工厂。

美光发力印度市场,也得到了来自印度本土公司的支持。9月23日,塔塔集团旗下的基础建设公司塔塔工程(Tata Projects)便宣布,将与美光科技合作,在印度古吉拉特邦建设先进半导体组装和测试工厂。

据悉,该工厂的总投资额达27.5亿美元,其中美光投资至多8.25亿美元,其余部分将由印度政府提供。

除此之外,9月稍早时候,外媒报道,印度电子和信息技术部部长Rajeev Chandrasekhar表示,美国存储器大厂美光除了拟议中的制造部门之外,还打算在印度建立多个半导体封装和组装部门。

这也意味着,在美光第一家工厂投入运营后,还将有更多此类设施在当地兴建。

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原文标题:美光印度建厂迎新进展

文章出处:【微信号:晶扬电子,微信公众号:晶扬电子】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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