俄罗斯圣彼得堡理工大学(spbpu)的研究人员利用蚀刻开发出国产光刻复合设备,用于生产无掩模芯片,这对实现俄罗斯微电子的自给自足非常重要。一种设备的价格为500万卢布(约4.95万美元),但其他设备的价格尚不清楚。
这个复合体由两种设施组成。第一个装置是为“无掩模纳米光刻”设计的,可以在没有口罩的情况下将图像投射到基板上。第二种设备位于第一种设备制造的基板图案上,利用蚀刻形成纳米结构。另外,还可以制造用于船舶和压力传感器等的硅胶片。这些胶片被认为比其他方法制成的胶片更可靠,更敏感。
目前俄罗斯的半导体生产局限在65纳米工程技术上。与此同时,全球标准缩小为3nm工艺。需求诺夫哥罗德应用物理研究所(iap ras)的目标是,到2028年为止,开发出能够生产7纳米芯片的照相技术。为了推动这一势头,俄罗斯工贸部投资11亿卢布开发微电子专用光刻材料。
除了制造芯片和硅膜外,这两种设备还能给其他行业带来不少收益。例如,这些装备可以使雷达设备的使用寿命延长20倍以上。在绿色能源领域,这些装置使太阳能电池板变得更轻、更高效和更小。
开发者对自己的发明抱有很大的希望。他们正在考虑将人工智能融合到这两个装置中来提高他们的能力。但俄罗斯半导体制造企业是否对该设备感兴趣尚不清楚,设备何时投入实际生产尚未确定。
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