0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

八亿时空:光刻胶树脂量产产能不断提升 预计明年将会贡献一定营收

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2023-11-09 14:19 次阅读

11月8日,八亿时空的最新调研纪要透露,公司的研发团队已经krf用100公斤级叶山收支及其衍生物期中考试成功地实现了批量生产,国内一些用生产商窄分布树脂获得了订单。从今年上半年开始,与国内部分krf制造企业进行了业务合作。公司下一步将不断提高光刻树脂的大量生产能力,预计明年将对一定的收益做出贡献。

该公司目前集中开发krf光刻树脂及其衍生物,分为负离子聚合的狭窄分布树脂和包括三重聚合物在内的自由基聚合的广泛分布树脂。现在下游客户对这两个地区都有需求,我们已经供货了。酚醛产品由于屏障低,国内国产化率已经较高,暂时不会考虑。

液晶材料方面,目前八亿时空的阴井产能已经混在200吨的水平产能的释放和修改符合市场需要的足够在北京总部被拥有的公司魂晶产能储备及产能能力,提高公司上虞电子材料基地的建设及后续投入,公司的单晶产能储备能力将会更大。

关于oled材料,8亿小时的oled事业以oled中间体和升华前材料为中心,在合成材料领域占据优势。目前公司oled材料业务收益规模达数千万元,今后公司将继续努力,力争取得更大的成果。

八亿时空公司表示,公司的上位电子材料基地项目将实现液晶材料、oled材料、聚酰亚胺、半导体用光刻胶树脂等的绿色化。目前,尚禹生产基地的基本建设已经基本完成,工程将于明年启动试运和部分生产线。项目的顺利推进将为未来电子材料规模化批量生产奠定良好基础。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 树脂
    +关注

    关注

    1

    文章

    32

    浏览量

    9597
  • 光刻
    +关注

    关注

    8

    文章

    318

    浏览量

    30119
  • 电子材料
    +关注

    关注

    0

    文章

    61

    浏览量

    10675
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    文解读光刻胶的原理、应用及市场前景展望

    光刻技术是现代微电子和纳米技术的研发中的关键环,而光刻胶,又是光刻技术中的关键组成部分。随着技术的发展,对微小、精密的结构的需求日益增强,光刻胶
    的头像 发表于 11-11 10:08 301次阅读
    <b class='flag-5'>一</b>文解读<b class='flag-5'>光刻胶</b>的原理、应用及市场前景展望

    文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

    原文标题:文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶
    的头像 发表于 11-01 11:08 251次阅读

    光刻胶的使用过程与原理

    本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
    的头像 发表于 10-31 15:59 212次阅读

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶

    控SU-8光刻胶烘烤:软烘、后曝光烘烤和硬烘 在整个SU-8模具制备的过程中,微流控SU-8光刻胶需要烘烤2或3次,每次烘烤都有不同的作用。 第
    的头像 发表于 08-27 15:54 197次阅读

    导致光刻胶变色的原因有哪些?

    存储时间 正和图形反转在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程
    的头像 发表于 07-11 16:07 458次阅读

    光刻胶的硬烘烤技术

    根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
    的头像 发表于 07-10 13:46 716次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的硬烘烤技术

    光刻胶般特性介绍

    评价光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能,这里给出光刻胶般特性的介绍。 1. 灵敏度 灵敏度(sensitivity)
    的头像 发表于 07-10 13:43 550次阅读

    光刻胶后烘技术

    光刻过程文章中简单介绍过后烘工艺但是比较简单,本文就以下些应用场景下介绍后烘的过程和作用。 化学放大正 机理 当使用“正常”正时,
    的头像 发表于 07-09 16:08 1168次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>后烘技术

    光刻胶的图形反转工艺

    图形反转是比较常见的种紫外光刻胶,它既可以当正使用又可以作为负使用。相比而言,负工艺更
    的头像 发表于 07-09 16:06 516次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的图形反转工艺

    光刻胶的保存和老化失效

    通常要考虑光刻胶是否过期失效了。接下来我们将介绍一下光刻胶保存和老化失效的基础知识。 光刻胶的保存 光刻胶对光敏感,在光照或高温条件下其性能会发生变化。
    的头像 发表于 07-08 14:57 796次阅读

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
    的头像 发表于 03-20 11:36 2378次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    光刻胶光刻机的区别

    光刻胶种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4471次阅读

    如何在芯片中减少光刻胶的使用量

    光刻胶不能太厚或太薄,需要按制程需求来。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景,较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。
    的头像 发表于 03-04 10:49 599次阅读
    如何在芯片中减少<b class='flag-5'>光刻胶</b>的使用量

    光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
    发表于 01-03 18:12 1205次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>分类与市场结构

    速度影响光刻胶的哪些性质?

    光刻中比较重要的步,而旋涂速度是匀中至关重要的参数,那么我们在匀时,是如何确定匀
    的头像 发表于 12-15 09:35 1850次阅读
    匀<b class='flag-5'>胶</b>速度影响<b class='flag-5'>光刻胶</b>的哪些性质?