闲暇之余,还是回顾了一下。场效应管,接下来重点讨论一下场效应管中的MOS管。
场效应管FET(Field Effect Transistor),是利用输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件,分为结型(JFET)和绝缘栅型(MOSFET简称MOS)。
一、MOS管的分类
mos管是一种具有绝缘栅的FET,其中电压决定了器件的电导率。发明mos管是为了克服 FET 中存在的缺点,如高漏极电阻、中等输入阻抗和较慢的操作。所以mos管可以称为FET的高级形式。
mos管常用于切换或放大信号。随着施加的电压量改变电导率的能力可用于放大或切换电子信号。
mos管是迄今为止数字电路中最常见的晶体管,因为内存芯片或微处理器中可能包含数十万或数百万个晶体管。由于它们可以由 p 型或 n 型半导体制成,互补的 MOS 晶体管对可用于以CMOS逻辑的形式制造具有非常低功耗的开关电路。
MOSFET的输入电阻很高,高达10^9Ω以上,从导电沟道来分,可以分为N沟道和P沟道两种,无论是N沟道还是P沟道,又可以分为增强型和耗尽型。
二、增强型和耗尽型MOS管
增强型MOS管介绍
以P型半导体为衬底,在一个 低掺杂容度 的 P 型半导体上,通过扩散技术做出来2块 高掺杂容度 的 N 型半导体,引出去分别作为 源级(d) 和 漏极(d) 。
P型衬底在 MOS管内部是和 源级(S)相连。
在P型衬底和两个N型半导体 之间加一层 二氧化硅(SiO₂)绝缘膜,其上层制作一层金属铝或者多晶硅引出引脚组成 栅极(g) 。
从上我们也不难理解MOS管的名称由来,金属 (Metal)—氧化物 (Oxide)—半导体 (Semiconductor)场效应晶体管。
沟道的形成:在给栅源两端施加电压时,前面说过了源和衬底相连,即给栅极和衬底施加电压Ugs,其随着Ugs的增大,源漏之间从耗尽层转变成反型层即N沟道,来实现对源漏间的通断控制。使沟道刚刚形成的栅源电压称为开启电压Ugs(th),如下图
漏极电流的产生(可变电阻区,预夹断区,恒流区):Ugs大于开启电压,在漏源两端施加正向电压Uds,即产生漏极电流,
随着Uds增大,当(a)这种情况,为压控型可变电阻,当(b)这种情况,为预夹断,当(c)这种情况,为恒流模式,可用来放大。
转移特性曲线和输出特性曲线
因为输入不产生电流,所以我们称之为转移特性曲线。
增耗尽型MOS管介绍(不常用)
在二氧化硅绝缘层掺入大量正离子,在正离子作用下使得P衬底存在反型层,即存在漏源之间的导电沟道。
三、封装
按照安装在PCB板上的方式来划分,MOS管封装主要有两大类:插入式(Through Hole)和表面贴装式(Surface Mount)。
插入式就是MOSFET的管脚穿过PCB板的安装孔并焊接在PCB板上。常见的插入式封装有:双列直插式封装(DIP)、晶体管外形封装(TO)、插针网格阵列封装(PGA)三种样式。
表面贴裝则是MOSFET的管脚及散热法兰焊接在PCB板表面的焊盘上。典型表面贴装式封装有:晶体管外形(D-PAK)、小外形晶体管(SOT)、小外形封装(SOP)、方形扁平式封装(QFP)、塑封有引线芯片载体(PLCC)等。
随着技术的发展,目前主板、显卡等的PCB板采用直插式封装方式的越来越少,更多地选用了表面贴装式封装方式。
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