0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

韩国SKMP开发出高厚度KrF光刻胶助力3D NAND闪存制造

SEMIEXPO半导体 来源:SEMIEXPO半导体 2023-11-29 17:01 次阅读

据报道,韩国SK集团于2020年斥资400亿韩元收购当地锦湖石化的电子材料业务,收购后成立的新子公司SK Materials Performance(SKMP)已开发出一种高厚度KrF光刻胶,并通过了SK海力士的性能验证,这将有利于SK海力士3D NAND闪存的技术开发。

据悉,SKMP开发的新型KrF光刻胶厚度为14~15微米,与东进半导体(DONGJIN SEMICHEM)向三星供应的产品类似,而日本JSR公司的类似产品厚度仅为10微米。

光刻胶的厚度对于提高3D NAND闪存工艺处理效率有较大帮助,但是更高的厚度也意味着技术难度更高,因为化学材料的粘性可能导致涂层表面不平整,这也是东进半导体目前仍是三星这类产品唯一供应商的原因。随着SKMP加入竞争,SK海力士将能够用这款KrF光刻胶生产238层3D NAND闪存。

SKMP很可能取代日本JSR的主导地位,成为其主要的供应商。目前,SK海力士238层3D NAND闪存晶圆的月产能约为5000片,预计未来将进一步提升产能,从而带动SKMP公司光刻胶的销量。

SK海力士于2023年8月展示了世界首款321层NAND闪存芯片样品,属于TLC 4D NAND,容量高达1Tb,预计产品将于2025年量产。







审核编辑:刘清

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 晶圆
    +关注

    关注

    52

    文章

    4837

    浏览量

    127790
  • NAND闪存
    +关注

    关注

    2

    文章

    219

    浏览量

    22730

原文标题:韩国SKMP开发出高厚度KrF光刻胶,可助力3D NAND闪存制造

文章出处:【微信号:Smart6500781,微信公众号:SEMIEXPO半导体】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

    共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
    的头像 发表于 11-01 11:08 235次阅读

    光刻胶的使用过程与原理

    本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
    的头像 发表于 10-31 15:59 201次阅读

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶

    在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用烘台或者烤设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3
    的头像 发表于 08-27 15:54 192次阅读

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻胶

    在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中,需要把PDMS或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS或SU-8
    的头像 发表于 08-26 14:16 264次阅读

    导致光刻胶变色的原因有哪些?

    非常缓慢,因此通常只有在更换新批次的光刻胶时才会被注意到。 污染 光刻胶与水或不适合的溶剂(如异丙醇)接触,或经冷冻后的抗蚀剂可能会改变其颜色。在这种情况下,光刻胶的变质是不可避免的。 衬底和
    的头像 发表于 07-11 16:07 451次阅读

    光刻胶的硬烘烤技术

    根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
    的头像 发表于 07-10 13:46 700次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的硬烘烤技术

    光刻胶的一般特性介绍

    越小。曝光剂量以毫焦耳每平方厘米(mJ/cm2)为单位.光刻胶聚合物分子的解链或者交联是通过吸收特定波长的光辐射能量完成的。一种光刻胶通常只在某些特定的波长范围内使用,因此需要注意每款光刻胶的感光波段。 2. 对比度 由对比度
    的头像 发表于 07-10 13:43 536次阅读

    光刻胶的保存和老化失效

    我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在
    的头像 发表于 07-08 14:57 778次阅读

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
    的头像 发表于 03-20 11:36 2359次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体
    发表于 01-03 18:12 1194次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>分类与市场结构

    全球光刻胶市场预计收入下滑,2024年有望反弹

    所谓的“光刻胶”,即是在紫外线、电子束等辐射下,其溶解度会产生变化的耐腐蚀薄膜材料。作为光刻工艺中的关键要素,广泛应用于晶圆和分立器件的精细图案制作中。其品种繁多,此次涨价涉及的KrF 光刻胶
    的头像 发表于 12-28 11:14 940次阅读

    速度影响光刻胶的哪些性质?

    光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀中至关重要的参数,那么我们在匀时,是如何确定匀速度呢?它影响
    的头像 发表于 12-15 09:35 1827次阅读
    匀<b class='flag-5'>胶</b>速度影响<b class='flag-5'>光刻胶</b>的哪些性质?

    光刻胶价格上涨,韩国半导体公司压力增大

    光刻胶类别的多样化,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学及东进半导体等大型
    的头像 发表于 12-14 15:20 1053次阅读

    光刻胶国内市场及国产化率详解

    KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用
    发表于 11-29 10:28 651次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>国内市场及国产化率详解

    韩国SKMP开发出厚度KrF光刻胶,可助力3D NAND闪存制造

     据悉,skmp开发的新型KrF光刻胶厚度为14至15米,与东进半导体(DONGJIN SEMICHEM)向三星提供的产品相似。日本jsr
    的头像 发表于 11-29 10:02 931次阅读