半导体光掩膜短缺仍在继续。
近日报道,由于中国芯片制造公司和晶圆代工厂对光掩膜的需求仍然非常强劲,光掩膜市场的短缺情况并未得到缓解,预计到2024年光掩膜的价格将上涨。
目前,包括日本凸版印刷(Toppan)、美国福尼克斯(Photronics)和大日本印刷(DaiNippon Printing)在内的大部分光掩膜制造商的产能利用率都已经达到了满负荷的100%。一些中国芯片公司甚至愿意额外支付费用以缩短交货周期。
光掩膜产业链的上游主要包括设备、基板、遮光膜和化学试剂,中游是光掩膜制造,下游则是芯片、平板显示、触控和电路板等行业。
尽管中国对国产替代光掩膜的需求迫切,但国内光掩膜制造商的营收规模与海外领先厂商仍存在较大差距。预计到2028年,中国光掩膜市场规模将达到360亿元。
随着中国半导体产业在全球的比重逐步提升,国内半导体光掩膜市场规模也在逐步扩大。预计国内光掩膜行业将持续繁荣,厂商有望实现高速增长的业绩。
审核编辑:黄飞
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
芯片
+关注
关注
453文章
50360浏览量
421622 -
晶圆代工
+关注
关注
6文章
858浏览量
48533 -
芯片制造
+关注
关注
9文章
607浏览量
28767 -
掩膜板
+关注
关注
1文章
5浏览量
7422
发布评论请先 登录
相关推荐
微流控SU8掩膜版的制作方法
微流控SU8掩膜版的制作是一个复杂的工艺过程,涉及到多个步骤。以下是详细的制作流程: 1. 掩膜版设计 原理图设计:根据微流控芯片的设计要求,进行原理图设计,分析元件需接线方向,设计需
光刻掩膜版制作流程
光刻掩膜版的制作是一个复杂且精密的过程,涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 设计与准备 在开始制作光刻掩
掩膜版与光刻胶的功能和作用
掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色,它们的功能和作用各有侧重,但共同促进了芯片的精确制造。 掩膜版,也称为光罩、
芯片光刻掩膜的保存方法
光刻掩模是光的一种掩蔽模片,其作用有类似于照相的通过它,可以使它“底下“的光剂部分成光,难溶于有机药品,一部分不感光,易溶于有机药品,以而制得选择扩散所需的窗口和互速所需的图案。 掩
微流控光刻掩膜制作
微流控光刻掩膜的制作过程涉及多个步骤,包括设计、制版、曝光、显影、刻蚀等,最终形成具有特定图形结构的掩膜版。 首先,设计阶段是制作掩
清溢光电:已实现180nm节点掩膜版量产 佛山基地2025年末迁入设备
清溢光电5月16日披露了最新投资者调研纪要。 纪要内容显示,清溢光电已实现 180nm 工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,以及 150nm 工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证与小规模
总投资22亿元,重庆迈特光电光掩膜版项目预计年底投产
据重庆两江新区官微消息,近日,重庆迈特光电有限公司光掩膜版项目自去年4月开工以来,经过1年多的建设,正在积极推动试产前序工作,预计今年底开始正式投产。 据悉,重庆迈特光电有限公司由HO
DRAM价格上涨因存储巨头减产,供需紧张料持续至年底
据报道,近期三星宣布自明年第一季度起,DRAM价格将上涨至少15%;尽管NAND闪存涨价迹象尚不明显,但预测同样存在跟进上涨的可能。据IT之家引用集邦观点预计,DRAM价格涨势将持续至
评论