引言
高速标准计算机接口的发展,如通用串行总线(USB)和功能强大微控制器的许多设备,如集成通信接口,计数器/计时器,数字输入/输出,模数(ADC)/数模转换器(DAC)允许以相对较低的成本更容易地开发具体的科学应用。
电子束光刻(EBL)是科学和微电子工业中众所周知的不可缺少的工具。科学家对现代纳米科学领域日益增加的兴趣及其新兴分支,如光子晶体、纳米光学、微电子机械系统、纳米流体等,使EBL成为一个必要的工具。专用的电子束光刻设备已经商品化,并且提供高分辨和写入速度以及大的写入场,但对于一个研究实验室来说,这通常是一笔不菲的投资。
通常在科学研究中,大的写入场和吞吐量并没有那么重要,对传统的扫描电子显微镜进行改造以进行EBL工作是一种便宜得多的解决方案。这种需求促进了现有SEM改造成EBL系统的工作,其中的一些已经实现商业化。尽管如此,自建系统仍然会便宜得多,并且为定制应用程序提供了更多灵活性。如今,由于高功能性集成电路和快速标准计算机接口的可用性,它们可以在小型实验室中快速搭建。
虽然新式的SEM生成数字图像,但仍在使用的老式SEM只提供显示器(模拟)输出图像,并以照片的形式提供硬拷贝。数字图像记录无疑会比摄影自拍更可取,且报道了许多解决方案。除了用于电子束控制的两个DAC输出外,下面描述的单元还包括ADC输入,这也使得在软件中以各种扫描速度、帧面积和不同数据源合并数字图像采集成为可能。
在本文中我们描述了一个通过USB连接接到计算机的以低成本微控制器为基础的设备,可用于数字图像采集和电子束位置的完全控制,这使得它可以使用传统的SEM进行电子束光刻。与先前描述的系统不同,其中接口设备的基础是商用数据采集板卡或图像采集板卡,有时会略有修改以适应特定的工作。
在这里我们描述了基于几个现代集成电路的USB接口微控制器设备的完整设计。这进一步降低了系统成本(印刷电路板+集成电路的价格约200美元;不包括个人电脑)。该系统的主要优点在于其主要功能集中在开发的微控制器软件中,该软件执行所有时间关键的底层控制和数据采集任务。广泛使用的USB接口,使该系统便携和独立于计算机和操作系统。
图1显示了整个系统的框图,包括三个主要部分:扫描电子显微镜、电脑和接口单元(IU)。电脑通过标准USB接口与接口单元连接,保持快速的双向数据交换。从SEM方面,接口单元确保多达8个模拟输入,用于从各种SEM信号中获取数据和形成图像;两个模拟输出用于电子束位置控制,一个数字信号用于可选的束闸控制。
图1 用于电子束光刻和数字图像采集的扫描电子显微镜升级系统框图
接口单元内部图如图1所示。该设备的核心是一个完全集成的12位数据采集系统 ADuC812,它在单个芯片上集成了高性能自校准8通道ADC,双DAC,8位8051指令集兼容微控制器核心和8Kb Flash/EE程序储存器,以及许多其他附加模块。
上述特性几乎完全满足了与SEM的接口要求,两个用于电子束位置二维控制的DAC和八个用于数据采集的ADC通道。12位ADC和DAC分辨率足以实现高质量的数字图像配准,产生具有12位灰度深度、高达400万像素(4096×4096)的SEM图像。对于不是非常大的写入场来说,对于电子束光刻任务,该设备是令人满意的。
其他功能模块包括USB和RS-232接口模块、32Kb外部RAM内存,A/C同步模块、模拟信号条件模块以及它们与ADuC812芯片间不可避免的“胶水逻辑”。下载微控制器软件需要RS-232接口,而系统实际工作时使用USB(USB1.0)连接,保证电脑和接口单元之间的双向数据交换。
在一些扫描和电子束光刻操作模式中,额外的32Kb内存用于缓冲X(水平)、Y(垂直)坐标的电子束位置和/或驻留时间数据。A/C同步模块为微控制器提供TTL脉冲,允许同步到线频扫描,以尽量减少杂散场的影响。模拟信号调制是必要的,以匹配ADC输入电压范围(0~2.5V)与检测器信号范围(在我们的情况下为-12V~+12V,但它取决于SEM模式)。DAC输出范围(0~2.5V)也必须转换为驱动SEM偏转线圈电子器件的输入点电压范围(-12V~+12V,取决于SEM)。软件和硬件也提供了束闸控制。
图2显示了接口单元的详细方案(不含信号调制模块、A/C同步模式和电源)。USB到并行接口FT245BM芯片(U910)用于USB接口到电脑。该芯片和32Kb内存(U909)的寻址需要一些额外的逻辑(U905,U909)和锁存(U907,U908)。
图2 接口单元IU示意图。信号调制模块,A/C同步模块和电源未显示
图3显示了模拟信号条件放大器(图3a和b)和A/C线同步脉冲发生器(图3c)。图3a所示方案将0~2.5V DAC输出范围线性变换为SEM偏转线圈前置放大器的输入范围。需要使用两个这样的模块(DAC0和DAC1)分别控制电子束的X(水平)和Y(垂直)偏转(图2)。R1(偏置)和R5(增益)是精密多匝电位器,用于调整输出范围以适应特定SEM的输入范围。
最后增益控制用于精细调整图像宽高比到1,使用一些拉长的对象(没有倾斜),并采取图像在0°和90°样品台旋转。图3b(仅显示一个通道)的方案具有类似的任务,即将SEM检测器模拟输出(如SE探测器)的输出范围拟合到相应ADC通道的输入范围。多匝电位器R2和R4分别控制增益和偏置。系统中最多可使用8个这样的通道。通道选择是由软件通过嵌入式模拟多路复用器,允许从不同的检测器形成图像。这可以同时进行(在每个电子束位置的给定像素处进行通道切换)或连续进行(逐帧通道切换)。
图3(a) DAC输出与SEM电子束偏转线圈输入之间的信号调制模块(图中为一个通道);(b) ADC通道输入和SEM检测器输出之间的信号调制模块(一个通道)和(C) A/C线同步脉冲发生器。
图3c展示了一个产生A/C线同步TTL电平脉冲的简单方案。它们被馈送到微转换器的P3.4引脚,并由软件(仅在系统操作的相应模式下)与A/C线过零同步启动水平扫描线。在高倍率下,这大大减少了由杂散电磁场引起的畸变。
软件
软件由两部分组成:上位机上的应用层程序和通过USB协议进行通信的嵌入式微控制器底层程序。扫描电子显微镜的两种工作模式(EBL和数字图像采集)都有严格的时序要求,尤其是EBL,在给定电子束位置的停留时间决定了电荷剂量。这需要在电脑和微控制器之间仔细分配任务。
实时控制和数据采集的时间关键任务由微控制器程序执行,而应用程序实现高级控制并保证用户友好界面。电脑和接口单元间的双重缓冲确保了扫描过程中不会引入延迟。微控制器程序是用汇编器编写的(源代码可根据要求从作者处获得),并使用MetaLink的8051宏汇编器编译。Windows串行下载器用于通过串行端口下载由ASM51汇编器创建的因特尔标准十六进制文件。
微控制器程序保证了多种操作模式。上位机将所需的控制参数发送到接口单元,并将其切换到相应的模式。在单点模式下,上位机决定电子束位置。A/D所选的通道数据按要求发送到上位机。在这种模式下,上位机可将电子束定位在任意位置,并对来自不同ADC通道的信号进行采样,但时序精度限制在1ms左右。
快速光栅扫描模式用于快速观察和调整各种扫描电镜控制,如聚焦、对比度、消像散等。在这种模式下,光栅扫描以8位分辨率(128×128或256×256像散,最小停留时间为12us)以最大可能的速度(~4帧/秒)进行电子束定位。12位A/D数据从预先选择的通道从每个点发送到上位机。
在扫描模式下,以12位D/A分辨率(最大4096×4096)对视场进行光栅扫描。扫描控制参数为扫描场的左上角和右下角坐标,水平和垂直步长,停留时间。12位A/D数据从预先选择的通道从每个点发送到上位机。该扫描可以在有或没有A/C线同步的情况下执行。如果开启同步,则每条水平扫描线的起始时间由P3.4引脚处的电平跃迁决定(图3c)。
这种微处理器模式非常强大,通过几个控制参数,上位机程序可以获得不同驻留时间(最小15us)的图像,预定义全视场不同分辨率图像(256×256;512×512;1024×1024;2048×2048和4096×4096)或选择任意子场图像,线扫描模式等。需要提及的一点是,观察区域的实际大小是由扫描电镜放大控制而不是由软件决定的。
在EBL模式中,接口单元RAM用于缓冲信息,以控制电子束位置(2×12位),该点驻留时间(16位)和控制位(8位)-每个点总共6字节。控制位包含额外的信息,如是否发送A/D数据,绘制序列的结束,束闸的开关(束闸在该系统中尚未实现)。微控制器连续地从RAM中读取每条数据记录并执行相应的操作。读取和相应动作之间的时间间隔由先前读取的“驻留时间”参数决定。
在预填充RAM缓冲区所需的信息后,上位机将微控制器切换到EBL模式。接口单元RAM最多可以保存5333条记录,如果需要使用更多的点,必须重新填充。双重缓冲确保了重新填充过程的最小延迟。RAM缓冲数据的最后记录关闭束闸(如果使用)或将电子束送到视场中“未使用”的位置(没有束闸),然后微控制器从上位机请求下一个数据块。
微控制器按记录解释记录的这种“低级”格式允许非常灵活地控制EBL过程。将不同格式(光栅或矢量,CAD输出等)转换为这种“低级”格式的任务是分开的,并使系统开放。为了更快执行,EBL会话所需的所有数据都是经预先计算的或从磁盘读取的,由上位机程序转换为上述“低级”格式,并存储在电脑内存的数组中。
所有的定时通过使用8051核心的16位定时器/计数器T2完成,并广泛使用中断来确保最大精度。中断程序也用于使用FT245芯片服务数据交换。
因此,嵌入在微控制器程序存储器中的汇编程序封装了系统的主要功能,而将系统的一般控制、图像生成、EBL格式化数据传输和数据存储留给了电脑程序。这里最苛刻的任务是通过USB端口确保低电平通信。幸运的是,驱动程序是免费的,它允许FTDI设备与最流行的操作系统(Linux、windows 98和所有更高版本)一起工作。所有的函数调用都封装在一个标准的动态链接库(DLL)中。可以使用C、Visual Basic、Delphi等不同的高级语言编写应用程序,并确保通过USB与接口单元轻松通信。
在我们的示例中,应用程序是用Delphi 7编写的,正如上文提到的,可以很容易地用运行在不同操作系统上的任何高级语言完成。运行该软件所需的计算机资源要求并不高。在我们案例中,应用程序运行在一台 2GHz 、256 Mb 、Windows 2000操作系统电脑上。
该应用程序确保了对操作系统参数和操作模式的用户友好控制,各种格式的图像记录和存储(BMP、JPEG和原始数据)和扫描速度、软件可选择的子场成像,A/C线同步切换等。原始数据(每像素12位)文件可以很容易地转换为几乎任何图像格式,进一步处理和/或分析,例如使用免费的NIH软件包ImageJ或一些商业化软件。
目前,EBL的输入文件是上述格式的外部准备数据或简单的BMP格式图形,其中两个颜色通道的像素强度用于编码每个像素的停留时间。我们计划开发将更复杂的基于矢量的格式转换为上述“低级”格式的软件。
我们发现,处理通过SEM控件进行对比度调节外,进一步的自动软件对比度调节是一个非常有用的功能。每像素12位的灰度级分辨率高于最常用的图像格式(BMP或JPEG-灰度图像为8位)的可能存储分辨率。为了避免图像格式在12位转8位时丢失信息,每个*i 像素强度Ii *被转换为一个新值I i ',如下所示:
其中,Imin和Imax分别为整个图像的最小和最大像素强度,floor(x)表示最接近x且不大于x的整数。
典型案例
图4显示了在加速电压为15kV,放大倍数为x3k(左)和x20k(右)的情况下,数字记录的花粉二次电子图像(1024×1024像素)的示例。图像是由系统产生的,没有任何额外的图像处理。
图4 花粉在15kv加速电压下的二次电子图像。放大倍数×3k(左)和×20k(右)。
图5是由我们系统创造的EBL图形示例。该光刻胶为高分子量PMMA(分子量约996K),溶解在苯甲醚(2 wt.%)中,3000转/分钟旋涂在显微镜盖片上(20×20mm),在热板上烘烤2分钟。烘烤后PMMA层厚为105nm(椭偏仪测量)。
为了避免电荷影响,在匀胶前在基板上电子束蒸镀200nm铬。点曝光剂量为40fC,加速电压为20kV,曝光范围480×480um,超声显影140s(MIBK:IPA=1:3),IPA中浸泡30秒并用去离子水。图像由直径为600nm的点组成,排列在周期为1.25um的方形格子中。图5(左)中标记的子区域在高倍放大后显示在右侧。
图5 示例性EBL图案的光学显微镜图像
讨论
介绍了一种基于USB的数字成像和扫描电子显微镜电子束光刻微控制器系统的实现。该系统提供了高分辨率的数字成像,并能够在不太大的工作范围内用于电子束光刻。所提出的系统架构允许轻松改进器参数,如增加外部RAM缓冲区大小(ADuC812可使用高达16Mb)和DAC分辨率(16位外部DAC而不是12位内部ADC)。
由于USB接口的简单四线结构,光耦隔离可以很容易地添加到系统中,而无需改变其余的电子设备和软件。市场上有商用USB光耦隔离器和光耦隔离USB集线器。光耦隔离将降低噪声并避免接地回路问题。还可以使用电池供电的接口单元,这与光耦隔离将进一步降低噪声。
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