先进封装RDL-first工艺研究进展

摘要：

随着摩尔定律逐步达到极限，大量行业巨头暂停了7 nm以下工艺的研发，转而将目光投向先进封装领域。其中再布线先行（RDL-first）工艺作为先进封装技术的重要组成部分，因其具备高良率、高密度布线的优势吸引了大量研究者的目光。总结了RDL-first工艺的技术路线及优势，详细介绍其工艺进展，模拟其在程序中的应用，并对RDL-first工艺的发展方向进行展望，为RDL-first技术的进一步优化提供参考。

1引言

随着芯片重构工艺的不断迭代，封装技术已经成为了半导体产业的关键核心，而超高密度的先进扇出（Fan-out）技术也在其中起到了更加重要的作用。该封装手段主要分为以下类别：安装芯片后布线/芯片凸点向下（Chip-first/Face-down）、安装芯片后布线/芯片凸点向上（Chip-first/Face-up）以及再布线先行（RDL-first）。前两种封装工艺需要在芯片表面完成布线，而RDL-first工艺是在载片上完成布线后进行芯片倒装，可以实现更小的线宽线距和更高的封装良率。封装厂商如果要做出更加精良的扇出型封装，RDL-first工艺具有明显优势。自从NEC Electronics Corporation（现在的Renesas Electronics Corporation）开发出RDL-first工艺以来[1-2]，这一技术飞速发展并实现了大量应用，例如Amkor公司在2015年和2017年[3]开发的SWIFT TM和SLIM TM工艺。随后，台积电和三星电机先后推出了RDL-first封装方案，并且向着板级和2μm线宽线距工艺进发。长电科技于2021年7月在国内率先推出了使用RDL-first形式的高密度扇出式封装（XDFOITM-FcBGA-H），目前正处于快速追赶阶段。由于具有更高的封装良率和布线密度，RDL-first工艺更加适用于多芯片、大尺寸的高密度扇出封装，例如处理器、存储芯片的封装等，随着5G、人工智能等技术的发展，其应用也更加广泛。本文对RDL-first工艺进行了详细的介绍，包括其工艺路线、应用、仿真以及未来发展趋势。

2 RDL-first工艺的介绍

2.1 RDL-first工艺路线

常见的RDL-first工艺路线共有三种，分别为：1）使用物理气相沉积（PVD）制备介质层和Cu布线层，并通过机械研磨除去载片；2）以玻璃载板为介质层，通过电镀+刻蚀完成再布线层（RDL）布线，然后通过激光解键合去除载片；3）将前两种方法混合使用，这种方法更适用于较为复杂的芯片结构。

使用PVD进行RDL-first扇出的过程如图1所示。首先使用PVD在Si片上形成SiO 2（或SiN）薄层，然后使用离子刻蚀（RIE）完成图形化，随后进行Ti、Cu溅射以及Cu沉积，接着通过化学机械抛光（CMP）工艺得到第一层与Si片相连的RDL，重复以上步骤可以得到更多的RDL。当所有RDL制备完成后，通过底部凸块金属化（UBM）结构连接芯片，使用PVD完成的RDL-first工艺样品的切片扫描电子显微镜（SEM）结果如图2所示。该方法使用的载板是Si片，在上述步骤完成后还需通过机械研磨去除载板并在磨出的焊盘上完成植球。这一工艺目前已较为成熟，但是对设备要求较高且造价高昂，因此已逐渐被第二种方案取代。

在玻璃载板上完成RDL-first工艺的关键步骤如图3所示。首先在玻璃载板上涂抹一层牺牲层（通常使用激光释放材料），然后在牺牲层上完成UBM结构和RDL的制备，接着在顶层进行芯片倒装、底填以及塑封等工艺，最后完成激光解键合和植球。这种方法较为简单，但是玻璃载板的引入提高了对封装过程中翘曲控制的要求。

第三种方法混合使用了前两种制备工艺。首先使用第二种工艺，在玻璃载板上完成布线、UBM结构制备，随后将其键合到Si片上，去除玻璃载板后使用第一种工艺的PVD和电镀技术继续布线，最后再进行芯片倒装和塑封，通常可以实现六层以上的高密度布线。混合RDL-first工艺的关键步骤如图4所示，这一工艺更适用于复杂的芯片结构，SPIL和Amkor公司都推出过使用这一工艺生产的产品。这种方案成本较高，目前主要应用于研发领域。

上述三种制备方法各有利弊，设计者通常会根据实际情况选择最为合适的工艺路线完成芯片封装。尽管出现较晚，但是RDL-first工艺由于其独特优势已在先进封装领域占据越来越重要的位置。

2.2 RDL-first工艺的特点

RDL-first工艺最大的优势在于对良率的显著提升。对于传统的Chip-first工艺来说，由于已知合格芯片（KGD）已经嵌入，后续加工过程中的各种缺陷都将导致芯片失效，特别是在金属层较为复杂且层数较多的情况下，最终良率往往不能满足要求。而RDL-first工艺可以首先完成线路排布，通过测试手段选择合适的区域进行芯片倒装，从而实现大幅度提高产品良率的目的，这一工艺对于部分价格昂贵的芯片尤为适用。LUJAN [4]对RDL-first和Chip-first工艺进行价格比较，结果表明，在当前的技术条件下，当封装芯片种类大于等于三种时，RDL-first技术成本更低，因此，RDL-first工艺目前主要应用于复杂的多芯片封装场景下，随着后续芯片价格的进一步上升以及RDL-first工艺的不断优化，这一工艺必将获得更大范围的应用。需要指出的是，当单个封装体的芯片数目较少时，RDL-first工艺以外的键合和解键合步骤将会增加封装成本。此外，RDL-first工艺多用于来料芯片带球的情况，否则芯片倒装时对位难度较大。

3 RDL-first工艺的进展

尽管RDL-first工艺的开发仅有十余年的历史，但是研究者已经对这一技术进行了大量的探索。

2018年，ZHU等人[5-7]探究了RDL-first工艺中的关键步骤，包括金属层的制备、芯片倒装工艺以及激光解键合的参数等，并通过增加玻璃载片厚度的方式避免晶圆翘曲对布线层产生影响，最终该团队成功制备出线宽线距为10μm的两层RDL扇出封装样品并完成可靠性测试。玻璃载片上的布线情况如图5所示。

2019年，HO等人[8-9,16]通过RDL-first工艺实现了单边八层金属层的超高密度扇出封装，接触通孔的横截面如图6所示。这八层金属层包括七层RDL和一层UBM结构，最细的线宽线距仅为2μm。为了实现该方案，HO等人将介质层厚度从7μm降低到3μm，显著改善了翘曲问题。在该工艺条件下，随着加工层数的增加，晶圆翘曲随之增大，最终翘曲仅为1.33 mm。团队对芯片的电性能进行了测试，相邻信号线之间的最大串扰为－20.5 dB，这表明RDL-first工艺在实现超高密度扇出封装中具有优势。

2020年，LAU等人[10,14-16]在复杂异构集成中使用了RDL-first工艺，对方案的设计、材料、工艺、可靠性进行了系统性研究，针对回流过程中的芯片脱落、焊点疲劳寿命较短等问题提出了解决方案，最终通过三层RDL和两层UBM结构成功实现了三颗不同尺寸芯片的互联与封装，相较于使用Chip-first工艺的方案，良率得到了显著提升。

RDL-first工艺降低成本的关键是选择合适的位置倒装KGD，因此需要通过电性能测试等手段区分RDL部分是否存在异常。2018年，GUNJI等人[11-14]开发出一种通过电容法测试单面开/短路的新手段，与常规的四线测试法相比成本降低了30%，并且可以用于更精细的线路（线宽线距为2μm），预计这一测试手段将会助力RDL-first工艺进一步应用于超高密度布线方案。

从2018年至今，RDL-first工艺路线快速迭代，良率得到显著优化，生产成本大幅降低，工艺能力稳步提升，可以实现的异构集成尺寸和芯片颗数也大幅增加。目前，优化工艺的常规方法为：1）在作业能力范围内增加载片厚度以显著降低翘曲，从而实现布线层数的增加；2）使用热膨胀系数（CTE）更加匹配的玻璃载片；3）设计布线层的线宽线距不大于5μm，通过增加单层布线密度的方式减少总布线层数，从而避免较大的介质层总厚度导致作业困难。但是，由于玻璃是一种非晶材料，其CTE往往无法像Si片一样与金属层匹配良好，随着金属层复杂性的飞速提升，翘曲问题越来越制约着RDL-first工艺的进一步发展。针对这一问题，研究者们通过仿真结合实验不断尝试新的翘曲控制方法。

4 RDL-first工艺中的翘曲问题

在先进封装制程中，晶圆经历固化、回流等阶段后会积累较大的内应力，主要表现为晶圆的翘曲变形，这不仅影响了封装精度，也会增加工艺难度，带来焊点断裂、裂片等诸多良率损失，这一问题也严重制约了RDL-first工艺的应用。国内外研究者使用有限元分析法，通过各种方式减轻RDL-first工艺过程中产生的翘曲，从而进一步提升RDL-first工艺的实用价值[14-20]。

2017年，LIN等人[21]通过有限元模拟结合样品制备的方式探究了RDL-first工艺中影响翘曲水平的基本因素，包括金属层层数、钝化层与金属层的厚度、芯片布局、塑封温度等。根据仿真结果，LIN等人优选参数，成功制备出了包含三层金属层的RDL-first扇出结构，最小线宽线距为8μm，封装体的整体翘曲仅为283μm，远低于常规水平，这一研究结果为更多金属层的RDL-first结构提供了指导。

2018年，ONOZEKI等人[22]通过有限元分析研究了底部填充体和塑封料对RDL-first工艺中晶圆翘曲的影响。结果表明，选择低模量的底部填充体和塑封料可以显著改善翘曲情况。该团队根据计算结果选择了合适的底部填充体和塑封料搭配，成功制备了包含四层金属层的RDL-first结构，翘曲水平相较于优化前大幅降低。

2018年，LIN等人[23]研究了RDL-first工艺中倒装芯片的体积对晶圆翘曲的影响。通过实验结合仿真，作者得到了芯片体积/塑封料体积与晶圆翘曲的关系函数，如图7所示。当比值增大时，晶圆翘曲形式从“笑脸”转变为“哭脸”，这一结果有助于RDL-first工艺路

线优化，后续研究者可以通过计算定性判断晶圆翘曲的状态，避免无法实际作业的情况。

2020年，CHE等人[24]详细探究了RDL-first工艺中的激光释放材料、玻璃载片以及塑封料选择对翘曲情况的影响，并对所有影响因素进行整合。通过有限元分析结合实验数据的方法，CHE得出结论：1）增加玻璃载片的厚度可以显著降低翘曲；2）当玻璃载片与钝化层、塑封料的CTE匹配时翘曲较小；3）通过增大玻璃载片尺寸可以缓解翘曲问题。不同工艺条件下晶圆的翘曲结果如图8所示，其中实验条件选择见参考文献[24]。

5 RDL-first工艺的发展方向

由于工艺成熟度的逐步提升，RDL-first工艺的应用空间正在进一步拓展。除了金属层层数的增加、线宽线距的进一步缩小等先进扇出封装发展方向外，RDL-first工艺还有几项较为重要的研究方向，以下主要介绍激光释放材料的优化、面板级工艺、优化载片三个方面[25-28]。

5.1激光释放材料的优化

RDL-first工艺目前常用的激光缓释材料的主要成分为聚酰亚胺，其固化温度在400℃左右[29]，并且需要配合黏合剂使用，这一特性显著提高了成本。2018年，ZHANG等人[30]开发出两种新型激光释放材料，这两种材料具有更低的玻璃化转变温度，不需要额外加入黏合剂，适用于当前主流的载片材料。这两种激光释放材料的固化条件如表1所示，在150℃和100℃下，A、B材料仅需2 min就可以完成固化，并且具有出色的耐化性和可靠性。这一结果对RDL-first工艺应用空间的拓展有积极意义。

2022年，LEE等人[31]通过研究激光烧蚀后激光释放材料的表面性状，评估了四种激光释放材料的最优解胶工艺，并且实现了玻璃晶圆的循环使用，极大地降低了RDL-first工艺的成本。不同胶材的解胶能量以及解胶效果如图9所示，可以看出，所有样品的解胶效果完好，载片与塑封片均未出现明显的污染情况，载片经过清洗后可以再次使用。

5.2面板级工艺

先进封装工艺中降低成本尤为重要。通常情况下，晶圆级封装的面积使用率远小于面板级封装，使用面板完成先进封装工艺可以大幅降低成本[32-35]。因此，研究者们在对RDL-first工艺路线的探索中不断尝试使用玻璃面板替代玻璃晶圆，另一方面，玻璃面板的尺寸也在不断增加，玻璃面板尺寸的变化如图10所示[24]。

2017年，KO等人[36]使用聚合物薄膜作为临时键合层，在玻璃面板上实现了芯片与UBM结构的Cu-Cu键合，并且通过低能量的激光（功率为5 W）照射键合层，成功将薄膜与玻璃载体分离，玻璃面板激光解键合前后的效果如图11所示。可以看出，玻璃面板的引入显著增加了面积使用率，最终解胶效果良好，低能量激光避免了对芯片的损伤。

2019年，YANG等人[37]在玻璃面板上通过RDL-first工艺进行布线并完成了低温Cu-Cu焊接，芯片与玻璃面板的结构如图12所示，其焊接温度仅为220℃，显著降低了工艺成本并提高了可靠性。

5.3优化载片

在前文的介绍中，几乎所有的实验都使用玻璃作为载片完成RDL-first工艺，然而，CTE的不匹配以及激光烧蚀的过程严重限制了玻璃晶圆材料的选择。因此，部分研究者尝试使用其他材料替换玻璃晶圆作为载片[38-39]。

2017年，TANG等人[40]通过喷射气流完成解胶，成功在Si片上完成了RDL-first工艺全流程。与激光烧蚀的过程不同，气流解胶是在载片与布线层之间引入气流，从而驱使两者发生分离的解键合手段，图13为气流解胶过程示意图，整个解胶过程在室温下完成。由于Si片的CTE与金属层更加匹配，这一工艺在降低成本的同时显著减轻了翘曲。解胶完成后，TANG等人对封装体进行了功能测试，结果表明，钝化层、金属层以及塑封料均保持外形完整，无明显缺陷，电路功能未出现异常。

随着现代医学的飞速发展，需要部分芯片具备可穿戴甚至是可植入的功能，因此柔性芯片也是当前研究的热点[41-46]。在RDL-first工艺路线中，研究者们开始尝试使用柔性载片完成封装过程，最终实现了异质芯片的同步柔性。2020年，TAKAHASHI等人[47]开发出一种基于水凝胶载片的RDL-first工艺，金属层使用Au以确保良好的柔韧性，图14是柔性RDL-first工艺示意图。最终完成的封装体在弯曲半径为40 mm时仍可以实现完整功能，该弯曲半径已经可以满足绝大多数穿戴或植入式芯片的要求。该团队还对芯片的生物兼容性、物质渗透性以及疲劳寿命进行了测试，结果表明，该封装手段可以应用于生物医学嵌入式电路的制备。

6结束语

随着芯片成本以及封装难度的增加，RDL-first工艺路线在先进封装中的优势愈发明显，主要表现为：1）可以实现多层超高密度布线；2）具有更高的良率和更低的成本，更加适用于当前的多芯片集成场景；3）可以实现柔性封装。因此，尽管RDL-first工艺的开发仅有十余年历史，但研究者们在工艺路线优化、材料选择、翘曲控制等方面已经进行了大量的实验并取得了一系列成果。然而，对RDL-first工艺在可靠性和稳定性方面的研究目前还不充分，亟待研究者们进一步深入探索。可以预见，随着摩尔定律逐步达到极限，当芯片的刻蚀尺度难以进一步缩小时，使用RDL-first等先进封装手段实现芯片互连将成为系统级集成的重要解决方案。

审核编辑：汤梓红