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中微投资!芯元基Micro LED印章巨量转移重大突破

PKB2_Wit_Displa 来源:Wit Display 2023-12-10 09:39 次阅读

上海芯元基在其独有的化学剥离Micro LED的技术基础上,成功开发出了晶圆级印章巨量转移工艺,达到了转移芯片位置零偏差。

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芯元基由行业资深专家郝茂盛博士于2014年创办,上海创徒、张江科投、中微半导体等先后进行了投资,并在上海临港建设了中试生产线。经过5年多的潜心研发,芯元基已经形成了以蓝宝石复合图形衬底技术(DPSS)、化学剥离技术和晶圆级批量转移技术等为核心的完整技术体系,这些技术是制造高端光电子器件的核心技术,是Micro LED 批量转移的最优方案。芯元基的主要技术在中国、美国、日本、中国台湾等均已获专利授权,打破了该领域核心技术的国外垄断,其技术水平位于全球前列。

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原文标题:中微投资!芯元基Micro LED印章巨量转移重大突破

文章出处:【微信号:Wit_Display,微信公众号:Wit Display】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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