p-n二极管
二极管的作用是在一定方向上阻止电流流动,允许它在相反方向上移动。这一原理的核心是经典的p-n结,它是在重掺杂的n+衬底上形成一个n型漂移层。然后,通过在n型层中植入p型掺杂剂(离子注入)来实现p+层。
p掺杂区域是阳极,n掺杂区域是阴极。移动电荷载流子通过结并复合,在此形成一个没有自由载流子、只有原子核的中性且非导电区域。这被称为耗尽区。因为漂移电流和扩散电流抵消,我们得到了零净电流。
现在,如果我们给阳极加正偏压,给阴极加负偏压,我们就会引入额外的电荷载流子[电子],它们将向耗尽区移动,耗尽区将消失,当我们不再有剩余的耗尽区时,二极管变得导电。
由于需要一定的电压来使二极管导电,我们引入了一个重要的二极管参数:正向电压(VF)。同样,如果我们以反向偏压,将更多的电荷载流子推出系统,我们将扩大耗尽区。结果是没有电流流动,二极管进入截止状态。这导致了二极管的第二个相关参数,即截止电压。
在截止状态下,我们仍然有一些少数载流子,它们会产生一小部分电流流动,这就是另一个重要参数,称为漏电流[IR],它是在反向方向流动的电流。
其他类型的二极管:肖特基、SiGe和SiC
另一个相关的整流器类型是肖特基二极管,它由金属与n型半导体接触组成。其主要优势包括较低的正向电压和快速开关时间(trr)。然而,肖特基二极管也表现出较高的反向漏电流。另一方面,击穿电压主要由外延层的厚度和掺杂选择确定,因此,随着规格中击穿电压的提高,肖特基整流器的效率变得较低。市场上很难找到超过200V的VBR。
硅锗(SiGe)和碳化硅(SiC)整流器
它消除了其他类型的很多权衡,将肖特基整流器的最佳特性与快恢复设备相结合。特别是,SiGe整流器具备高热稳定性,使其成为高温应用的良好选择。
宽禁带材料如碳化硅(SiC)具有优越的材料属性。SiC的能带间隙是硅的3倍,击穿场强是硅的10倍,电子速度是硅的2倍,热导率是硅的3倍。这使得二极管能够具有超过600V的截止电压。
已经看到,不同技术的分立功率二极管,每种都有其独特的原子结构和特性。因此,选择哪种技术取决于特定应用的要求。
二极管的I-V特性
该曲线的y轴是电流,x轴是电压。曲线的形状由耗尽区的电荷载流子运输决定。
如果施加一个正向电压,则最初几乎没有电流流通。但是,如果这个电压超过了某个阈值,二极管就会导电。同样,如果施加负电压,耗尽区仍然表现为绝缘体,直到某个电压,二极管变得不稳定并击穿。
此曲线关联的典型参数包括正向电流(IF)、VF、IR、反向电压(VR)和IFSM额定值,这表示二极管在正向偏置模式下能够承受的最大峰值电流。
由于温度的升高导致电荷载流子浓度升高和VF降低,因此正向特性在温度变化下看起来略有不同,主要是因为y轴指示是以对数刻度而不是之前所示的线性刻度。按照经验,VF每升高1K大约下降2mV,这种温度依赖性适用于所有类型的二极管。
如何选择正确的二极管
选择正确的二极管技术的决策过程严格取决于特定应用的要求。电力整流器几乎出现在我们日常使用或接触的每一个电子应用中。
在静态应用中,我们有反向极性保护,这是我们生活中经常遇到的,因为它用于保护系统免受错误连接电源的影响,第二个应用是电源ORing二极管,用于连接多个电源以提高可靠性或总功率耗散。
考虑反向极性保护应用,假设我们想保护一个系统,以承受高达60V的反向极性。在这种情况下,我们发现我们可以使用肖特基二极管、SiGe二极管或p-n二极管。对于这个系统,我们必须在正向电压降和漏电流之间找到折中。肖特基二极管有最低的VF;SiGe二极管在25°C时有最低的IR;p-n二极管在125°C时有最低的IR。
肖特基技术具有最低的正向导通损耗(Pfwd)。因此,如果Pfwd是主要的选择标准,应选择平面低VF二极管。SiGe技术提供了最低的反向导通损耗(Prev)。在高温下,p-n技术的表现与SiGe相同。因此,如果Prev是主要的选择标准,应选择SiGe二极管,因为其Pfwd比p-n技术小。此外,还应该将对瞬态脉冲的鲁棒性(例如,在启动时的涌入电流)视为一个额外的选择标准。
二极管在整流器动态应用中都扮演着重要的角色,全桥整流器中,它用于将交流电转换为直流电,降压转换器中的续流二极管,反激转换器中的升压二极管和反向电容二极管,以及引导启动二极管。
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