台阶仪在半导体材料的表征和研究中是一种非常重要的工具。如在半导体材料的制备过程中,一些关键的工艺参数,如温度、压力、气氛等条件的变化,会导致半导体材料的能带结构发生变化,通过使用台阶仪,可以准确测量和分析材料,从而了解工艺参数对材料性质的影响,及时调整工艺条件以提高制程的稳定性和一致性;又或是在半导体材料的生产过程中,常会出现掺杂不均匀、杂质含量超标等问题,这些都会导致材料的能带结构发生变化,从而影响材料的性能,通过利用台阶仪进行表征分析,可以快速检测出材料的质量问题,帮助制造商和研发人员发现和解决问题,从而提高产品质量和性能。
CP系列台阶仪是一款采用可变差动电容传感器LVDC的超精密接触式微观轮廓测量仪,具备影像导航功能的亚纳米级分辨率(0.1nm的纵向分辨率),主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。
线性可变差动电容传感器(LVDC),具有亚埃级分辨率,13um量程下可达0.01埃,满足被测件测量精度要求。高信噪比和低线性误差,使得产品能够扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。
测量特点
1、1~50mg可调微测力,实现无损检测的接触式测量;
2、测量膜厚或粗糙度,不受基材透射率影像,规避光学仪器的弱点;
3、具备3D扫描和成像显示功能;
台阶仪在半导体的应用有哪些?
在半导体中,台阶仪的应用主要包括以下几个方面:
1. 薄膜材料厚度(2D)测量和表面形貌测量(3D):台阶仪可以精确获得定量的台阶高度、线粗糙度、薄膜曲率半径,以及测量薄膜应力等。
2. 沉积薄膜的台阶高度测量:台阶仪可以用于测量沉积薄膜的台阶高度,这对于确保半导体芯片的质量和性能具有重要意义。
3. 抗蚀剂(软膜材料)的台阶高度测量:台阶仪可以用于测量抗蚀剂(软膜材料)的台阶高度,这对于评估抗蚀剂的性能和选择合适的抗蚀剂具有重要意义。
4. 蚀刻速率测定:台阶仪可以用于测量蚀刻速率,这对于评估蚀刻工艺的性能和优化蚀刻工艺具有重要意义。
5. 化学机械抛光(腐蚀、凹陷、弯曲)测量:台阶仪可以用于测量化学机械抛光(腐蚀、凹陷、弯曲)的效果,这对于评估化学机械抛光工艺的性能和优化抛光工艺具有重要意义。
台阶仪测量晶圆表面光刻胶粗糙度案例
在半导体行业中,晶圆表面的粗糙度,尤其当晶圆表面被氧化后,引起氧化层的透光性,此时采用台阶仪能够获取准确有效的数值。
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