mos管的工作原理及特性是什么

MOS管，全称为金属氧化物半导体场效应晶体管（Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect
Transistor），是一种常见的场效应晶体管。它是由金属、氧化物和半导体材料构成的三层结构，具有高输入阻抗、低噪声、高速开关等优点，被广泛应用于数字电路、模拟电路、功率放大器等领域。

在一个低掺杂浓度的P型半导体硅衬底上，通过半导体光刻和扩散工艺，制作两个高掺杂浓度的N+区，并用金属铝引出两个电极，分别作为漏极D和源极S。接着，在漏极和源极之间的P型半导体表面覆盖一层薄薄的二氧化硅（Si02）绝缘层膜，并在绝缘层膜上放置一个铝电极，作为栅极G。这样就形成了一个N沟道（NPN型）增强型MOS管。显然，它的栅极与其他电极之间是绝缘的。

MOS管的工作原理是基于场效应的控制方式。与传统双极型晶体管不同，MOS管没有PN结，因此不存在少数载流子注入的问题，其导通和截止是通过控制栅极电压来实现的。当栅极电压为正时，电子会被吸引到栅极下方的氧化物层中，形成一个导电通道，使得源极和漏极之间产生电流；当栅极电压为负或接地时，导电通道消失，源极和漏极之间的电流被切断。

MOS管的特性

1） MOS管是一个由改变电压来控制电流的器件，所以是电压器件。

2） MOS管道输入特性为容性特性，所以输入阻抗极高。

上图展示了N沟道MOS管的符号，其中D代表漏极，S代表源极，G代表栅极。中间的箭头表示衬底，箭头向内表示N沟道MOS管，箭头向外表示P沟道MOS管。在实际生产过程中，衬底在出厂前已与源极连接，因此在符号规则中，表示衬底的箭头也必须与源极相连，以便区分漏极和源极。

总之，MOS管是一种非常重要的场效应晶体管，具有高输入阻抗、低噪声、高速开关等优点，被广泛应用于各种电路中。在选择和使用MOS管时，需要根据具体的应用场景和需求进行合理的设计和选型。